開発・プロセス評価設備の新設・改修
FY2017-Q3に初出。18回の記載のうち17回が「前進」で、最初の「前進」はFY2017。直近の記載は2026-05-23。
このテーマで動きを比べられる他社は、まだありません。
- 2026-05-23前進株主総会
「当連結会計年度に取得した有形固定資産は2,160億6千3百万円となりました。」
研究開発評価装置等の取得、複数の開発・生産建屋の竣工、宮城生産革新センターの着工を開示している。 - FY2026-H1前進有価証券報告書
「主な変動の内容は、前連結会計年度末に計画しておりました東京エレクトロン宮城㈱における生産・物流施設の新設工事に伴う「その他」の増加及び研究開発施設の新設に伴う「建物及び構築物」等の増加に加え、東京エレクトロン九州㈱における研究開発施設の新設工事に伴う「その他」の増加であります。」
東京エレクトロン宮城の生産・物流施設および研究開発施設、東京エレクトロン九州の研究開発施設について、新設工事の進捗が設備帳簿価額の増加として反映されている。 - FY2025前進有価証券報告書
「これらの結果、当連結会計年度の設備投資額は1,621億円となりました。」
設備投資額は前年度の1,218億円から1,621億円へ増加した。宮城・九州の開発棟、東北の生産・物流棟など先端開発・評価設備の整備を継続している。 - FY2025-H1前進有価証券報告書
「東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ㈱ 穂坂事業所 山梨県 韮崎市 プロセス評価用 設備他 16,300 － 自己 資金 2024年 11月 2026年 10月 －」
穂坂事業所でプロセス評価用設備等を新設する計画を追加した。投資予定総額は163億円、2024年11月着手、2026年10月完了予定である。 - FY2024前進有価証券報告書
「これらの結果、当連結会計年度の設備投資額は1,218億円となりました。」
設備投資額は前年度744億円から1,218億円へ増加した。穂坂事業所の新開発棟稼働や、宮城・九州の開発棟、東北の生産・物流棟の整備が進んでいる。 - FY2024-Q3前進有価証券報告書
「Tokyo Electron Korea Ltd. 本社他 韓国 京畿道 華城市他 事務所 研究開発施設 デモ・評価用機械装置他 47,986 6,909 自己資金 2023年4月 2026年7月 －」
Tokyo Electron Koreaの事務所・研究開発施設・デモ・評価用機械装置等の計画について、投資予定総額が47,407百万円から47,986百万円へ、既支払額が5,275百万円から6,909百万円へ更新された。完了予定は2026年7月で維持され、開発・評価機能の整備が進んでいる。 - FY2024-Q2前進有価証券報告書
「Tokyo Electron Korea Ltd. 本社他 韓国 京畿道 華城市他 事務所 研究開発施設 デモ・評価用機械装置他 47,407 5,275 自己資金 2023年4月 2026年7月 －」
Tokyo Electron Koreaの本社等について、事務所、研究開発施設、デモ・評価用機械装置等を含む計画が投資予定総額474億07百万円、既支払額52億75百万円、2026年7月完了予定へ更新された。開発・評価機能の整備が進行している。 - FY2024-Q1前進有価証券報告書
「主な変動の内容は、前連結会計年度末に計画しておりました研究開発施設の新設工事に伴う「その他」の増加であります。」
前連結会計年度末から計画していた研究開発施設の新設工事が進行し、東京エレクトロン宮城の主要設備における建設仮勘定等の増加として反映されている。 - FY2023前進有価証券報告書
「当社及び当社国内子会社におきましては、多様化する最新技術ニーズを見据えた新開発棟を東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ㈱穂坂事業所に建設中です。これらの結果、当連結会計年度の設備投資額は744億円となりました。」
穂坂事業所の新開発棟建設が継続し、先端技術開発・評価設備等を含む設備投資額は572億円から744億円へ増加した。 - FY2021前進有価証券報告書
「当社及び当社国内子会社におきましては、東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ㈱本社及び東北事業所に生産能力拡大を目的として、新生産棟が稼動いたしました。また、東京エレクトロン宮城㈱に多様化する最新技術ニーズを見据えて、宮城技術革新センターを建設中です。」
開発・評価設備の整備に加え、東京エレクトロン テクノロジーソリューションズの新生産棟が稼働し、東京エレクトロン宮城では技術革新センターの建設が進んでいる。 - FY2020前進有価証券報告書
「これらの結果、当連結会計年度の設備投資額は546億円となりました。」
先端技術開発、増産、耐震補強、生産棟・評価設備等への投資を継続し、設備投資額は前年度の497億円から546億円へ増加した。 - FY2019前進有価証券報告書
「当連結会計年度の設備投資につきましては、中期経営計画の達成に向け、売上拡大にともなう増産への対応と先端技術開発を積極的に進めるため、中長期的な視点で技術革新と市場の拡大が期待される半導体製造装置事業の分野を中心に、評価用機械装置や研究開発用機械装置等の設備投資を実施いたしました。」
宮城の開発棟、各拠点の生産棟・評価設備等への投資を進め、通期設備投資額は497億円となった。 - FY2018前進有価証券報告書
「当連結会計年度の設備投資につきましては、中期経営計画の達成に向け、売上拡大にともなう増産への対応と先端技術開発を加速させるため、技術革新と市場の拡大が期待される半導体製造装置事業の分野を中心に、評価用機械装置や研究開発用機械装置等の設備投資を実施いたしました。これらの結果、当連結会計年度の設備投資額は456億円となりました。」
増産対応・先端技術開発に向け、クリーンルーム改修、開発棟・物流棟、評価設備等への投資を実施し、設備投資額は456億円となった。 - FY2018-Q3前進有価証券報告書
「前連結会計年度末において計画中であった主要な設備の新設について、当第3四半期連結累計期間に著しい変更があったものは、次のとおりであります。提出会社 山梨事業所他 開発・評価用機械装置他 4,560 2,406 自己資金 平成29年4月 平成30年9月。東京エレクトロン宮城㈱ 本社他 プロセス評価用機械装置他 9,109 3,070 自己資金 平成29年4月 平成30年9月。東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ㈱ 本社他 プロセス評価用機械装置他 12,443 6,260 自己資金 平成29年4月 平成32年1月。Tokyo Electron America, Inc. 本社他 プロセス評価用機械装置他 2,561 1,533 自己資金 平成29年4月 平成30年5月。Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc. 本社 事務所備品他 2,278 985 自己資金 平成29年4月 平成30年10月。」
開発・評価用およびプロセス評価用設備について既支払額が増加し、米国拠点の設備計画も記載された。複数拠点で先端開発・評価設備の整備が進行している。 - FY2018-Q2前進有価証券報告書
「前連結会計年度末において計画中であった主要な設備の新設について、当第2四半期連結累計期間に著しい変更があったものは、次のとおりであります。提出会社 山梨事業所他 開発・評価用機械装置他 4,524 1,558 自己資金 平成29年4月 平成30年9月。東京エレクトロン宮城㈱ 本社他 プロセス評価用機械装置他 10,064 2,173 自己資金 平成29年4月 平成30年9月。東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ㈱ 本社他 プロセス評価用機械装置他 12,998 4,404 自己資金 平成29年4月 平成32年1月。」
開発・評価用およびプロセス評価用設備について、投資予定額と既支払額を更新し、複数拠点の設備計画が進行していることを示している。 - FY2018-Q1前進有価証券報告書
「東京エレクトロン宮城㈱ 本社 宮城県 黒川郡 大和町 半導体製造装置 全社共通 研究開発施設 7,500 － 自己資金 平成29年11月 平成30年9月」
東京エレクトロン宮城本社に研究開発施設を新設する計画を追加した。投資予定額は75億円、平成29年11月着手、平成30年9月完了予定で、自己資金による。 - FY2017前進有価証券報告書
「当連結会計年度の設備投資につきましては、中期経営計画の達成に向け、先端開発を加速させるため、半導体製造装置事業の高成長が期待できる重点開発分野を中心に、評価用機械装置や研究開発用機械装置等の設備投資を実施いたしました。これらの結果、当連結会計年度の設備投資額は206億円となりました。」
中期経営計画に向けた先端開発設備への投資を実施し、通期設備投資額206億円を計上した。 - FY2017-Q3初出有価証券報告書
「東京エレクトロン山梨㈱ 本社他 プロセス評価用機械装置 2,587 1,643 自己資金 平成28年4月 平成29年3月。提出会社 山梨事業所 開発・評価用設備 3,200 － 自己資金 平成29年4月 平成29年9月。東京エレクトロン九州㈱ 本社 プロセス評価用設備 3,000 － 自己資金 平成29年5月 平成29年12月。投資予定金額を変更しており、上記は変更後の金額であります。」
山梨のプロセス評価用機械装置の投資予定額変更に加え、山梨事業所と東京エレクトロン九州で開発・プロセス評価用設備の改修を計画している。