クオルテック（9165）・施策削除
Patentixとの資本業務提携による二酸化ゲルマニウム半導体ソリューション
FY2024-Q2に初出。9回の記載のうち5回が「削除」で、最初の「削除」は2026-07-30。直近の記載はFY2026。
9記載
3年にわたる
4うち適時開示
動きの推移
同じテーマの他社
PatentixとのGeO2半導体ソリューション共同開発1社が書いているテーマ・逆風0社・追い風1社
このテーマで動きを比べられる他社は、まだありません。
全記録提出書類・適時開示・報道、新しい順
- FY2026削除有価証券報告書本報告書では、Patentixとの資本業務提携、二酸化ゲルマニウム、滋賀半導体研究開発センターに関する継続的な記載がなく、次世代半導体の研究開発方針は評価装置、SiC・GaN、MAPへ重点が移っている。
- FY2025前進有価証券報告書
「新規次世代半導体材料である二酸化ゲルマニウム（以下、GeO2という。）の研究開発拠点として、滋賀半導体研究開発センターを立ち上げ、Patentix株式会社とともに薄膜の成膜技術開発や成膜装置の開発を本格的に開始いたしました。また、昨年８月にはPatentix株式会社とGeO2の有償サンプル出荷に向け、当社が出荷検査を行うことに基本合意を締結いたしました。」
Patentixとの協業でGeO2の成膜技術・装置開発を本格化し、有償サンプル出荷に向けた出荷検査の基本合意まで進んだ。 - FY2024前進有価証券報告書
「当社は、2023年12月14日付でPatentix株式会社と資本業務提携に関する合意書を締結し、これを足掛かりに更なる事業領域の拡大を図るべく、半導体製造分野への進出を図って参ります。2024年５月には、次世代半導体事業の研究拠点として滋賀半導体研究開発センターを開設しました。」
Patentixとの提携を半導体製造分野への進出に明確に結び付け、2024年5月に滋賀半導体研究開発センターを開設した。 - FY2024-Q3再掲有価証券報告書
「これは主にPatentix株式会社との資本業務提携の出資等に伴う「投資その他の資産」60,548千円増加及び分析・試験設備の取得等に伴う「有形固定資産」49,703千円増加によるものであります。」
Patentixとの資本業務提携に伴う出資が投資その他の資産の増加要因として引き続き財務諸表に反映されている。 - FY2024-Q2初出有価証券報告書
「また、当社は更なる事業領域の拡大を図るべく、2023年12月にPatentix株式会社（本社：滋賀県草津市、代表取締役：衣斐豊祐）へ50,000千円の出資を行い、協業のための土壌を醸成しました。同社は世界で初めてシリコンカーバイド上のルチル構造二酸化ゲルマニウムの製膜に成功した企業で、同社と協同して二酸化ゲルマニウム半導体のエピウエハ製造を軸とした未来品質の創造に向けた半導体ソリューションの展開を図って参ります。」
2023年12月にPatentixへ50,000千円を出資し、二酸化ゲルマニウム半導体のエピウエハ製造を軸とする協業・ソリューション展開を初めて示している。