半導体関連需要の減少による金属表面処理受注の減少
FY2017-Q2に初出。21回の記載のうち7回が「悪化」で、最初の「悪化」はFY2019。直近の記載は2026-08-06。
三愛オブリがこのテーマで「悪化」側に入ったのは2023年。同じテーマの他社の中央値（2022年）より1年遅い。
テーマ全体が最も大きく悪化側へ動いたのは2023年。66社中43社が悪化側に。
直近の記載が「対処」なのは、ほかに32社。
- 2026-08-06対処決算
「その他事業におけるセグメント利益は、金属製品等の洗浄・表面処理業の受注増加により前年同期比157.4％増の３億60百万円となった。」
金属製品等の洗浄・表面処理業で受注が増加し、利益が前年同期を上回ったことを示している。 - FY2026悪化有価証券報告書
「その他事業における売上高は、金属製品等の洗浄・表面処理をおこなうクリーンテック事業では、半導体製造装置向け精密洗浄処理の需要回復に遅れがみられたが、売上高、利益ともに前期並みに推移した。」
前期に下期回復が示された半導体製造装置向け洗浄需要について、回復の遅れが記載され、売上高・利益は前期並みにとどまった。 - 2026-05-14悪化業績予想の修正
「金属製品等の洗浄・表面処理をおこなうクリーンテック事業では、半導体製造装置向け精密洗浄処理の需要回復に遅れがみられたが、売上高、利益ともに前期並みに推移した。」
半導体製造装置向け精密洗浄処理について、需要回復の遅れが通期の売上高・利益が前期並みにとどまる状況として示されている。 - FY2026-H1対処有価証券報告書
「その他事業においては、金属製品等の洗浄・表面処理業では、大口取引先からの受注が増加したことにより売上高、利益とも前年同期を上回った。」
半導体製造装置関連の生産調整等により低調だった金属製品等の洗浄・表面処理業について、大口取引先からの受注増加により売上高・利益とも前年同期を上回った。需要減少による業績下押しは足元で緩和している。 - FY2025対処有価証券報告書
「その他事業においては、金属製品等の洗浄・表面処理をおこなうクリーンテック事業では、上期は半導体製造装置メーカーの生産調整等により、精密洗浄処理の受注が低調に推移したものの、下期に入ってからは回復に転じたことにより、売上高、利益ともに前期を上回った。」
半導体製造装置メーカーの生産調整による精密洗浄処理の受注低調は上期に発生したが、下期に回復し、通期ではクリーンテック事業の売上高・利益が前期を上回った。 - FY2025-H1再掲有価証券報告書
「その他事業においては、金属製品等の洗浄・表面処理業では、半導体製造装置の生産調整が続いたこと等により、精密洗浄処理の受注が低調に推移し売上高は前年同期を下回ったものの、利益率の改善により利益は前年同期を上回った。」
半導体製造装置の生産調整に伴う精密洗浄処理の受注低調と売上高減少は続いている。一方、利益率の改善により利益は前年同期を上回った。 - FY2024-Q3悪化有価証券報告書
「その他事業における売上高は、金属製品等の洗浄・表面処理業が低調に推移したことにより前年同期比13.9％減の41億23百万円となり、セグメント利益は前年同期比41.0％減の５億73百万円となった。」
金属製品等の洗浄・表面処理業の低調な推移が続き、売上高が13.9％減、セグメント利益が41.0％減となった。前四半期までの低調な状態が数値を伴って継続している。 - FY2024-Q2悪化有価証券報告書
「その他事業においては、金属製品等の洗浄・表面処理業では、半導体市場の縮小に伴う半導体メーカーの生産調整等により、精密洗浄処理の受注が低調に推移し、売上高は前年同期を下回った。」
前四半期までの金属表面処理業の低調な推移について、半導体市場の縮小と半導体メーカーの生産調整が原因として明示された。精密洗浄処理の受注低調と売上減少が継続している。 - FY2024-Q1悪化有価証券報告書
「その他事業における売上高は、金属製品等の洗浄・表面処理業が低調に推移したことにより前年同期比10.0％減の12億77百万円となり、セグメント利益は前年同期比50.2％減の１億28百万円となった。」
前四半期までの金属製品等の洗浄・表面処理業の好調な推移から、売上高・セグメント利益が減少する低調な状態へ変化した。半導体関連需要が原因であるとの直接の記載はないため、需要減少リスクの発生原因までは特定していない。 - FY2023-Q3再掲有価証券報告書
「その他事業における売上高は、金属製品等の洗浄・表面処理業が好調に推移したことにより前年同期比6.1％増の4,787百万円となり、セグメント利益は前年同期比29.7％増の972百万円となった。」
金属製品等の洗浄・表面処理業が好調に推移し、売上高・セグメント利益が前年同期を上回った。前四半期に続き、半導体関連需要の減少による金属表面処理業の低調リスクが抑制された状態を再確認している。 - FY2023-Q2再掲有価証券報告書
「金属製品等の洗浄・表面処理業では、堅調な半導体関連向けの需要に支えられ精密洗浄処理の受注が好調に推移し、売上高は前年同期を上回った。」
半導体関連向け需要に支えられた精密洗浄処理の受注好調と売上増加を継続して記載しており、前回の需要減少リスクが抑制された状態を再確認している。 - FY2023-Q1対処有価証券報告書
「その他事業における売上高は、金属表面処理業が好調に推移したことにより前年同期比5.0％増の1,419百万円となり、セグメント利益は前年同期比41.0％増の257百万円となった。」
前回まで記載されていた金属表面処理業の低調・売上減少とは異なり、金属表面処理業が好調に推移し、その他事業の売上高・セグメント利益が増加した。半導体関連需要自体についての直接の記載はない。 - FY2021悪化有価証券報告書
「三愛プラント工業株式会社においては、半導体関連向けの需要に支えられ精密洗浄処理の受注が増加したが、ステンレスパイプの高品質電解研磨の受注が減少し、金属表面処理業の売上高は前期を下回った。」
精密洗浄処理の受注増加はあるものの、高品質電解研磨の受注減少と金属表面処理業の売上高減少が通期で確認され、前回の改善方向から悪化した。 - FY2021-Q2対処有価証券報告書
「三愛プラント工業株式会社においては、堅調な半導体関連向けの需要に支えられ、精密洗浄処理の受注が増加したことから、金属表面処理業の売上高は前年同期を上回った。」
前四半期までの半導体関連需要減少・受注減少とは異なり、需要が堅調となり精密洗浄処理受注と売上高が増加したと記載している。 - FY2020-Q2顕在化有価証券報告書
「三愛プラント工業株式会社においては、半導体関連向け需要の減少により、精密洗浄処理の受注が減少したことから、金属表面処理業の売上高は前年同期を下回った。」
半導体関連向け需要の減少が精密洗浄処理の受注減少および金属表面処理業の売上高減少として実際に発生した。前年度までの受注増加を伴う状態から悪化している。 - FY2019悪化有価証券報告書
「三愛プラント工業株式会社においては、半導体関連向け需要が減少傾向で推移したものの、ステンレスパイプの高品質電解研磨の受注が増加したことから、金属表面処理業の売上高は前期を上回った。」
前回の「堅調な半導体関連向け需要」という表現から、需要が減少傾向にあるとの記載に変化しており、リスクの内容は悪化方向に動いた。一方、電解研磨受注と売上高は増加している。 - FY2019-Q2再掲有価証券報告書
「三愛プラント工業株式会社においては、堅調な半導体関連向けの需要に支えられ、精密洗浄処理の受注が増加したことから、金属表面処理業の売上高は前年同期を上回った。」
半導体関連向け需要に支えられた精密洗浄処理受注の増加と金属表面処理業の売上高改善を継続して記載している。 - FY2018再掲有価証券報告書
「三愛プラント工業株式会社においては、堅調な半導体関連向けの需要に支えられ、精密洗浄処理の受注が増加したことから、金属表面処理業の売上高は前期を上回った。」
半導体関連向け需要に支えられた精密洗浄処理受注の増加と金属表面処理業の売上高改善を継続して記載している。 - FY2018-Q2再掲有価証券報告書
「三愛プラント工業株式会社においては、半導体関連向け需要に支えられ、精密洗浄処理の受注が増加したことから、金属表面処理業の売上高は前年同期を上回った。」
半導体関連向け需要に支えられた精密洗浄処理受注の増加と金属表面処理業の売上高改善を継続して記載しており、従前の需要減少リスクが抑制された状態を再確認している。 - FY2017対処有価証券報告書
「三愛プラント工業株式会社においては、堅調な半導体関連向けの需要に支えられ、精密洗浄処理の受注が増加したことから、金属表面処理業の売上高は前期を上回った。」
前回まで記載されていた半導体関連需要の減少による受注減少とは反対に、需要が堅調となり精密洗浄処理の受注が増加したと記載している。 - FY2017-Q2初出有価証券報告書
「三愛プラント工業株式会社においては、半導体関連向け需要の減少により、ステンレスパイプの高品質電解研磨の受注が減少した。」
半導体関連向け需要の減少が実際の電解研磨受注の減少として発生した事業上のリスクを初めて記載している。