次世代フォトマスク・ナノインプリント技術の強化
FY2017に初出。9回の記載のうち6回が「前進」で、最初の「前進」はFY2018。直近の記載は2026-08-07。
直近の記載が「前進」なのは、ほかに6社。
- FY2024前進有価証券報告書
「ＤＮＰは2023年に３ナノメートル世代のＥＵＶリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスの開発を完了し、2024年度中に２台目と３台目のマルチ電子ビームマスク描画装置を稼働させるなど、２ナノメートル世代のＥＵＶリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格化しています。」
3ナノメートル世代の開発完了、2台目・3台目の描画装置稼働、2025年度までの2ナノメートル世代プロセス開発完了、2027年度量産開始に向けた生産技術確立を具体化している。 - FY2024-Q1前進有価証券報告書
「また、ナノメートル（10億分の１メートル）単位の微細な型を押し付けて対象物にパターンを形成する「ナノインプリント」製品の量産に向けて、SCIVAX株式会社と資本業務提携を行い、今年４月に同社との合弁会社「ナノインプリントソリューションズ株式会社」を設立しました。ＤＮＰの最先端ナノインプリント用原版（マスターモールド）製造技術、量産・品質管理ノウハウなどの強みと、SCIVAX社の量産製造設備、装置設計技術などの強みを掛け合わせ、国内外のメーカーからのニーズに対応していきます。」
NIL技術についてSCIVAX社との資本業務提携と、2023年4月の合弁会社設立に進展し、量産化に向けた体制を具体化した。 - FY2022前進有価証券報告書
「ナノインプリントリソグラフィ（ＮＩＬ）技術で、消費電力を約10分の１に低減することに成功しました。」
次世代フォトマスク・ナノインプリント技術について、NILにより半導体製造時の消費電力を約10分の1に低減する成果を記載した。 - FY2021再掲有価証券報告書
「電子デバイス事業では、メモリー用フォトマスクの最先端対応と生産増強を図るため、引き続き生産設備を導入しました。」
次世代フォトマスクへの対応と生産能力増強のための設備導入を継続している。 - FY2019再掲有価証券報告書
「半導体製品用フォトマスクについては、製造時の描画時間を大幅に短縮するマルチ電子ビームマスク描画装置やナノインプリントなどの次世代微細加工技術の活用により、次世代製品の生産体制を強化していきます。」
マルチ電子ビーム描画装置とナノインプリントによる次世代フォトマスク生産体制の強化を継続している。 - FY2018前進有価証券報告書
「主なものとしては、電子デバイス事業では、ナノインプリントリソグラフィー用マスクの生産能力増強を図るため、上福岡工場とディー・ティー・ファインエレクトロニクス㈱の川崎工場に生産設備を導入しました。」
次世代微細加工技術について、ナノインプリントリソグラフィー用マスクの生産能力増強のため、2工場への生産設備導入を実施した。 - FY2017初出有価証券報告書
「半導体製品用フォトマスクについては、製造時の描画時間を大幅に短縮するマルチ電子ビームマスク描画装置を導入し、次世代製品の生産体制を強化して、微細化や低コスト化という半導体メーカーのニーズに応えていく。また、ナノインプリントなどの次世代微細加工技術の実用化も加速させていく。」
マルチ電子ビームマスク描画装置の導入と、ナノインプリントの実用化加速を通じて次世代製品の生産体制を強化する。