クオルテック（9165）・施策前進
MAPプロジェクトによる環境配慮型ユニバーサルめっき技術
FY2025に初出。9回の記載のうち6回が「前進」で、最初の「前進」は2026-06-30。直近の記載はFY2026。
9記載
2年にわたる
7うち適時開示
動きの推移
同じテーマの他社
メッキ代替・高機能塗装技術の開発4社が書いているテーマ・逆風0社・追い風4社
直近の記載が「前進」なのは、ほかに1社。
尾根＝前進を書いた年、谷＝悪化を書いた年。奥ほど前向きな会社。 ドラッグで回転、スクロールで拡大、右ドラッグで移動。スマホは2本指で回転・拡大（1本指はページのスクロール）。
全記録提出書類・適時開示・報道、新しい順
- FY2026前進有価証券報告書
「さらに研究の結果、従来は困難であったガラスやサファイア基板上への低抵抗な銅膜形成に成功いたしました。また、JIS規格に準拠した密着性試験でも良好な結果が得られ、次世代半導体パッケージで注目されるガラスコア基板への適用可能性を確認いたしました。2026年３月には、第73回応用物理学会春季学術講演会において研究成果を発表いたしました。この発表では、成膜条件の最適化により、銅膜のシート抵抗が約0.3Ω/□、比抵抗が約5mΩcmという、金属銅に匹敵する特性を確認したことを報告しています。」
MAPプロジェクトで研究開発拠点整備、立命館大学との共同研究、ガラスコア基板向け実証、学会発表まで進展した。銅膜のシート抵抗約0.3Ω/□、比抵抗約5mΩcmを確認している。 - FY2025初出有価証券報告書
「2025年７月から次世代成長事業として、ユニバーサルめっき法（当社独自開発）によるコーティング技術の開発「MAP（Mist-Assisted universal Plating）プロジェクト」を始動いたしました。」
2025年7月から、低コスト・安定供給可能な環境配慮型のコーティング技術を開発し、通信、半導体、医療、航空宇宙、再エネ等の成長産業への展開を目指す新規プロジェクトを開始した。