ＦＰＤ製造の検査・修正・パターン形成に関する基幹要素技術の事業化
FY2016に初出。29回の記載のうち21回が「再掲」。直近の記載はFY2026。
直近の記載が「その他」なのは、ほかに0社。
- FY2026研究開発費の増加と技術領域の継続有価証券報告書
「当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能・信頼性向上、コスト低減のための要素技術開発を目的に2,258百万円となっております。また、主な研究開発活動の状況は、次のとおりであります。半導体向け小型フォトマスク製造に関連する主な開発要素技術としては、高精度光学式パターン検査技術、超高精度座標計測技術、マスクレス露光技術、フェムト秒レーザ発振技術や荷電粒子ビームによる修正・計測技術の開発などを行っております。」
研究開発費は前年度の2,197百万円から2,258百万円へ増加した。半導体向け小型フォトマスク製造に関する検査・計測・マスクレス露光・レーザ・荷電粒子ビーム技術を主な開発対象としている。 - FY2026-H1再掲有価証券報告書
「当中間連結会計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、10億1千万円であります。なお、当中間連結会計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
研究開発費は10億1千万円で、研究開発活動の状況に重要な変更はないと説明している。 - FY2025研究開発費の減少と半導体・フォトマスク技術への重点化有価証券報告書
「当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能・信頼性向上、コスト低減のための要素技術開発を目的に2,197百万円となっております。」
研究開発費は前年度の2,289百万円から2,197百万円へ減少した。研究開発活動の説明は、半導体向け小型フォトマスク製造に関連する検査、計測、マスクレス露光、フェムト秒レーザ、電子ビーム計測等を中心としている。 - FY2024-Q3再掲有価証券報告書
「当第３四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、17億9千1百万円であります。なお、当第３四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
研究開発活動に重要な変更はないとしつつ、当第３四半期累計期間の研究開発費を17億91百万円と開示している。 - FY2023再掲有価証券報告書
「当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能・信頼性向上、コスト低減のための要素技術開発を目的に2,289百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。ＦＰＤパネル製造に関連する技術としては、ＦＰＤ向け大型フォトマスク及び液晶/有機ＥＬパネルの検査・修正・製造にかかわる要素及び技術開発、半導体・ＰＣＢ製造に関連する技術としては、検査・計測・修正・露光にかかわる要素技術開発を行っております。」
研究開発費2,289百万円を投じ、ＦＰＤ、半導体、ＰＣＢに関する検査・修正・製造・露光等の基幹要素技術開発を継続している。 - FY2022-Q3再掲有価証券報告書
「当第３四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、16億5千3百万円であります。なお、当第３四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
基幹要素技術に関する研究開発を継続し、第３四半期累計の研究開発費を16億5千3百万円と記載している。研究開発活動の状況に重要な変更はない。 - FY2022-Q2再掲有価証券報告書
「当第２四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、9億7千1百万円であります。なお、当第２四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
基幹要素技術に関する研究開発を継続し、当第２四半期累計期間の研究開発費を9億7千1百万円と記載している。 - FY2022-Q1再掲有価証券報告書
「当第１四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、4億6千9百万円であります。なお、当第１四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
基幹要素技術に関する研究開発を継続し、当第１四半期累計期間の研究開発費を4億6千9百万円と記載している。 - FY2021再掲有価証券報告書
「当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能向上のための要素技術開発を目的に2,253百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。ＦＰＤパネル製造技術としては、ＦＰＤパネル検査・修正・露光、フォトマスク検査・修正及びその描画にかかわる要素及び技術開発、有機ＥＬパネル向け蒸着装置とそのプロセス技術開発、レーザアニール装置開発、半導体向けや次世代技術開発としてはμLEDディスプレイ技術開発、人工知能（ＡＩ）による自動制御技術開発等を行っております。」
研究開発費2,253百万円を投じ、ＦＰＤ検査・修正・露光、蒸着、レーザアニール、μＬＥＤ、ＡＩ自動制御などの研究開発を継続している。 - FY2021-Q3再掲有価証券報告書
「当第３四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、15億8千3百万円であります。なお、当第３四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
基幹要素技術に関する研究開発を継続し、当第３四半期累計期間の研究開発費を15億8千3百万円と記載している。活動状況に重要な変更はない。 - FY2021-Q2再掲有価証券報告書
「当第２四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、10億4千8百万円であります。なお、当第２四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
基幹要素技術に関する研究開発を継続し、当第２四半期累計期間の研究開発費を10億4千8百万円と記載している。活動状況に重要な変更はない。 - FY2021-Q1再掲有価証券報告書
「当第１四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、4億2千3百万円であります。なお、当第１四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
ＦＰＤ検査・蒸着・レーザアニール等の基幹要素技術に関する研究開発を継続し、当四半期の研究開発費を4億2千3百万円と記載している。 - FY2020研究開発テーマの拡張有価証券報告書
「当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能向上のための要素技術開発を目的に2,342百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。ＦＰＤパネル製造技術としては、ＦＰＤパネル検査・修正・露光、フォトマスク検査・修正およびその描画にかかわる要素技術開発、有機ＥＬパネル向け蒸着用マスク・蒸着装置とそのプロセス技術開発、レーザアニールにかかわる要素およびプロセス技術開発、半導体向けや次世代技術開発としてはμＬＥＤディスプレイ技術開発、人工知能（ＡＩ）による制御技術開発等を行っております。」
研究開発費を2,342百万円とし、従来のＦＰＤ検査・蒸着・レーザアニール等に加えて、μＬＥＤやＡＩによる制御技術開発を対象として明示している。 - FY2020-Q3再掲有価証券報告書
「当第３四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、17億3千9百万円であります。なお、当第３四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
基幹要素技術に関する研究開発を継続し、研究開発費17億3千9百万円を計上している。活動状況に重要な変更はない。 - FY2020-Q2再掲有価証券報告書
「当第２四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、11億7千2百万円であります。なお、当第２四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
基幹要素技術の研究開発を継続し、研究開発費11億7千2百万円を計上している。活動状況に重要な変更はない。 - FY2020-Q1前進有価証券報告書
「Xianyang CHVT New Display Technology Co., Ltd.は、有機EL照明パネルの受託生産及び新型ディスプレイ用の蒸着技術の開発や、電気的特性に優れ、しかも歩留りの改善が容易なTFT技術の開発に取り組む予定です。」
基幹要素技術の事業化に向け、有機ＥＬ照明パネルの受託生産、新型ディスプレイ用蒸着技術、ＴＦＴ技術の開発を担う合弁会社の設立が決議された。 - FY2019再掲有価証券報告書
「当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能向上のための要素技術開発を目的に1,450百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。ＦＰＤ製造技術としては、ＦＰＤ検査、マスク検査及びその描画にかかわる要素技術開発、ＯＬＥＤ用蒸着マスク・蒸着装置とそのプロセス技術開発、レーザアニールにかかわる要素及びプロセス技術開発、基礎開発としてはμLEDディスプレイ技術等を行っております。」
基幹要素技術の研究開発を継続し、当連結会計年度の研究開発費1,450百万円と、ＦＰＤ検査、マスク、ＯＬＥＤ蒸着、レーザアニール、μLED等の対象を記載している。 - FY2019-Q3再掲有価証券報告書
「当第３四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、10億2千4百万円であります。なお、当第３四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
ＦＰＤ製造に関する基幹要素技術の研究開発を継続し、当第３四半期累計期間の研究開発費を10億2千4百万円と記載している。 - FY2019-Q2再掲有価証券報告書
「当第２四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、5億8千9百万円であります。なお、当第２四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
基幹要素技術に関する研究開発を継続し、当四半期累計の研究開発費を5億8千9百万円と記載している。研究開発活動の状況に重要な変更はない。 - FY2019-Q1再掲有価証券報告書
「当第１四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、2億7千1百万円であります。なお、当第１四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
基幹要素技術に関する研究開発を継続し、当四半期の研究開発費を2億7千1百万円と記載している。研究開発活動の状況に重要な変更はない。 - FY2018前進有価証券報告書
「また、PLAS（Partial Laser Anneal Silicon）に不可欠となる大型ディスプレイ用局所レーザアニール装置の２台目となる試作機の販売を行いました。」
基幹要素技術の研究開発について、研究開発費14億2千8百万円を投じるとともに、大型ディスプレイ用局所レーザアニール装置の２台目の試作機を販売する段階に進んだ。 - FY2018-Q3前進有価証券報告書
「VET社は、蒸着マスクの製造に加え、OLEDの生産性や性能の向上に寄与する縦型蒸着装置の研究開発を日本国内にて行います。」
蒸着マスクおよび蒸着技術に関する基幹要素技術について、製造・研究開発を担う子会社が平成29年12月１日に設立され、事業化に向けた組織化が実現した。 - FY2018-Q2前進有価証券報告書
「VET社は、蒸着マスクの製造に加え、OLEDの生産性や性能の向上に寄与する縦型蒸着装置の研究開発を日本国内にて行います。」
蒸着マスクおよび蒸着技術に関する基幹要素技術について、研究開発・製造を担う子会社の設立決定という事業化に向けた具体的な組織化が示された。 - FY2018-Q1再掲有価証券報告書
「当第１四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、3億1千4百万円であります。なお、当第１四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
研究開発活動に重要な変更はなく、当四半期累計の研究開発費は3億1千4百万円である。 - FY2017再掲有価証券報告書
「当社グループ（当社及び連結子会社）はＦＰＤパネル製造にかかわる検査・修正、パターン形成に係る基幹要素技術の研究開発活動を進めており、電子回路設計、光学設計、材料設計、制御システム設計技術、プロセス技術開発をベースに、業界をリードできる技術の早期事業展開を目指しております。」
基幹要素技術の研究開発を継続し、当連結会計年度の研究開発費は12億6千7百万円。マイクロレンズ、高精細蒸着用マスク、レーザアニール光学系・位置制御、マスク検査ロジック等を実施している。 - FY2017-Q3再掲有価証券報告書
「当第３四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、9億5千4百万円であります。なお、当第３四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
研究開発活動に重要な変更がないことを再確認し、第三四半期累計の研究開発費を9億5千4百万円と記載している。 - FY2017-Q2再掲有価証券報告書
「当第２四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、6億5千2百万円であります。なお、当第２四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
研究開発活動に重要な変更がないことを再確認し、四半期累計の研究開発費を6億5千2百万円と記載している。 - FY2017-Q1再掲有価証券報告書
「当第１四半期連結累計期間における当社グループの研究開発活動の金額は、3億2百万円であります。なお、当第１四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。」
研究開発活動は継続され、四半期の研究開発費は3億2百万円。活動状況に重要な変更はない。 - FY2016初出有価証券報告書
「当社グループ（当社及び連結子会社）はＦＰＤパネル製造にかかわる検査・修正、パターン形成に係る基幹要素技術の研究開発活動を進めており、電子回路設計、光学設計、材料設計、制御システム設計技術、プロセス技術開発をベースに、業界をリードできる技術の早期事業展開を目指しております。」
研究開発費は7億6千3百万円。高精細露光、蒸着用マスク、レーザアニール、マスク検査等を開発対象としている。