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レーザーテック(6920)・目標前進

フェーズⅢにおけるEUVL新製品・ウェハ新規事業の業績貢献

FY2016に初出。10回の記載のうち9回が「前進」で、最初の「前進」はFY2017。直近の記載はFY2026。

10記載
11年にわたる
0うち適時開示
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動きの推移
前進継続後退悪化前進FY2017 – FY20262016: 12017: 120172018: 120182019: 120192020: 120202021: 120212022: 120222023: 020232024: 120242025: 120252026: 12026
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全記録提出書類・適時開示・報道、新しい順
  1. FY2026前進有価証券報告書

    「「EUVペリクル異物検査装置 PELMISシリーズ EPM200」 「アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置 ACTIS A200HiTシリーズ」」

    EUVペリクル異物検査の最新モデルEPM200と、スループットを大幅に向上させたACTIS A200HiTシリーズを投入した。
  2. FY2025前進有価証券報告書

    「「EUV マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置 ABICS E320シリーズ」 「E320」は、新たに設計した高倍率シュバルツシルト光学系の採用と照明光学系の最適化により、従来機の「E120」と比べて、EUVマスクブランクス検査における高い欠陥検出感度と欠陥座標精度を実現しました。 「EUV ペリクル異物検査装置 PELMISシリーズ」」

    EUV関連では、ABICS E320シリーズをE120の後継・高性能機として投入し、さらにEUVペリクル異物検査装置PELMISシリーズを製品化した。
  3. FY2024前進有価証券報告書

    「「アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置 ACTIS A300シリーズ」 「A300」は、新たに設計された光学系や高輝度光源「URASHIMA」を採用し、従来のA150シリーズと比較して非常に高い欠陥検出性能を実現しました。High-NAリソグラフィではXY方向の投影倍率が異なるアナモルフィック光学系が採用され、それぞれの方向で異なる解像度が求められます。A300シリーズは現行のNAリソグラフィ向けとHigh-NAリソグラフィ向け、両方のEUVマスク検査に対応しています。」

    EUV関連では、高輝度光源URASHIMAを採用したACTIS A300シリーズを投入し、現行NAとHigh-NAの双方に対応する製品展開へ進んだ。
  4. FY2022前進有価証券報告書

    「「MATRICS X9ULTRA」は、2018年に発売し、ペリクル非装着EUVマスクの検査装置として大変ご好評を頂いているX8ULTRAシリーズの次世代機種です。新たに自社開発したハイパワー193nmレーザー光源および高NA対物レンズを搭載する事により、従来機よりもさらに微小異物検出性能を向上し、テクノロジーノード3nm以降のペリクル非装着EUVマスクに特化したマスク検査システムとなっております。」

    EUVマスク検査について、3nm以降の世代に対応するMATRICS X9ULTRAを投入し、最先端領域向けの製品展開を進めた。
  5. FY2021前進有価証券報告書

    「フェーズ3の期間には、ロジック・メモリデバイスメーカーによるEUV(極端紫外線)リソグラフィの導入が本格化し、フェーズ2までに種蒔きをしたEUV関連製品の市場が急拡大して、当社グループの成長に大きく寄与し始めました。」

    EUV関連製品について、市場拡大を背景に成長への寄与が始まったと明示し、従来の製品開発・投入段階から業績貢献段階へ進展した。
  6. FY2020前進有価証券報告書

    「新たに開発したEUVマスク欠陥検査装置ACTIS「A150」は、長年培ったマスクパターン検査技術とEUV光による検査技術を利用した世界初のEUVパターンマスク欠陥検査装置です。」

    EUV関連新製品として、世界初のEUVパターンマスク欠陥検査装置ACTIS A150を開発・製品化し、新規事業の具体的な製品展開を進めた。
  7. FY2019前進有価証券報告書

    「設計ルール5nm世代以降の最先端マスクブランクスをはじめとし、EUVマスクブランクスの母材となるサブストレートなどの微小欠陥を高感度で検出できるM9650/M9651を開発しました。」

    EUVマスクブランクス関連を含むM9650/M9651を開発し、フェーズⅢの新規事業収穫に向けた製品展開を進めた。
  8. FY2018前進有価証券報告書

    「MATRICS X8ULTRAシリーズは、デザインノード7nm~5nmのEUVマスク及び従来のフォトマスク両方に対応できる半導体マスク検査装置であり、ピクセルサイズ45nm、ハイパワー213nmQCWレーザー(>400mW)、及び2種類の偏光照明により、高感度化を達成しました。」

    EUV関連の新製品について、7nm~5nm世代への対応や45nmピクセルサイズなど、具体的な製品仕様を伴う製品化段階へ進んだ。
  9. FY2017前進有価証券報告書

    「この度、当社は共同研究で開発したABI装置の技術を適用し、EUV量産に対応した新たなEUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置ABICS E120を製品化いたしました。」

    EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置ABICS E120を製品化し、フェーズⅢでのEUV関連新製品の業績貢献に向けた具体的な製品化段階へ進んだ。
  10. FY2016初出有価証券報告書

    「当社は、平成31年6月期からの3カ年をフェーズⅢと新たに位置付け、この時期にEUVL関連の新製品やウェハ関連の新規事業を大きく業績へ貢献させることで、飛躍を目指してまいります。」

    平成31年6月期からの3年間をフェーズⅢとし、EUVL関連製品とウェハ関連新規事業の大きな業績貢献を掲げる。
一緒に動いた変遷

「新製品投入と検査・測定装置ラインアップの拡充」は、この変遷が動いた10回のうち9回、同じ書類で同じ向きに動きました。

997766★123456
  1. ★この変遷
  2. 1新製品投入と検査・測定装置ラインアップの拡充9回
  3. 2サービス事業の拡大9回
  4. 39カ年中期経営計画のフェーズ運営7回
  5. 4連結配当性向35%を目安とする安定還元7回
  6. 5高成長・高収益事業の創出と収益体質の改善6回
  7. 6研究開発活動への支出6回

★がこの変遷、番号は上の一覧と対応。線の数字は同じ書類の中で同じ向きに動いた回数で、ほかの変遷どうしの線はそのうち両方がそろって動いた書類の数。よく一緒に動くものほど近くに置いています。

次にこの変遷が動くとき
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報道
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