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東京応化工業(4186)・施策前進

最先端エレクトロニクス分野と微細加工技術への集中

FY2016に初出。31回の記載のうち15回が「再掲」。直近の記載はFY2026-H1。

31記載
11年にわたる
4うち適時開示
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動きの推移
前進継続後退悪化再掲FY2016 – FY2020-Q3前進FY2020 – FY2024-Q12016: 220162017: 520172018: 120182019: 320192020: 420202021: 420212022: 420222023: 020232024: 120242025: 220252026: 52026
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全記録提出書類・適時開示・報道、新しい順
  1. FY2026-H1前進有価証券報告書

    「なお、エレクトロニクス機能材料の売上高は、741億55百万円(前年同期比27.5%増)、高純度化学薬品の売上高は、630億8百万円(同21.2%増)、その他の売上高は、25億4百万円(同68.3%増)となりました。」

    中核のエレクトロニクス機能材料、高純度化学薬品およびその他の売上高が、2026年上半期にそれぞれ前年同期を上回った。
  2. FY2025-H1前進有価証券報告書

    「なお、エレクトロニクス機能材料の売上高は、581億49百万円(前年同期比13.2%増)、高純度化学薬品の売上高は、519億85百万円(同22.4%増)」

    エレクトロニクス機能材料と高純度化学薬品の中間期売上高が、それぞれ前年同期比13.2%増、22.4%増となった。
  3. FY2024再掲有価証券報告書

    「特に今後普及が進む生成AI関連や5Gにより、成長が期待される最先端エレクトロニクス分野を重点分野と位置づけ、当社のコアコンピタンスである微細加工技術をより強固なものとするための活動を推進しております。」

    生成AI・5G関連を含む最先端エレクトロニクスを重点分野とし、微細加工技術を強化する研究開発方針を継続している。
  4. FY2024-Q1前進有価証券報告書

    「エレクトロニクス機能材料部門の売上高は、244億60百万円(前年同期比19.7%増)、高純度化学薬品部門の売上高は、200億65百万円(同15.0%増)、その他の売上高は、4億90百万円(同14.0%減)となりました。」

    中核のエレクトロニクス機能材料および高純度化学薬品の売上高が、それぞれ前年同期比19.7%増、15.0%増となった。
  5. FY2022-Q3前進有価証券報告書

    「エレクトロニクス機能材料部門の売上高は、前年度を大きく上回る688億53百万円(前年同期比20.0%増)となりました。これは、中小型液晶パネルの需要環境が変化したことにより、ディスプレイ用フォトレジストの売上が減少したものの、円安に推移する為替の効果に加え、5GやIoT等の普及やデータサーバー向けなどの半導体需要に支えられ、半導体用フォトレジスト等の販売が好調に推移したことにより売上が増加したことが主な要因であります。」

    ディスプレイ用フォトレジストの減少がある一方、半導体用フォトレジスト等の販売好調により、エレクトロニクス機能材料部門の売上高が688億53百万円、前年同期比20.0%増となった。
  6. FY2022-Q2前進有価証券報告書

    「エレクトロニクス機能材料部門の売上高は、前年度を上回る447億16百万円(前年同期比19.0%増)となりました。これは、中小型液晶パネルの需要環境が変化したことにより、ディスプレイ用フォトレジストの売上が減少したものの、5GやIoT等の普及や、データサーバー向けなどの旺盛な半導体需要に支えられる中で、円安に推移する為替による効果も加わり、半導体用フォトレジストなどの販売が引き続き好調に推移したことが主な要因であります。」

    ディスプレイ用フォトレジストの減少がある一方、半導体用フォトレジスト等の販売好調により、エレクトロニクス機能材料部門の売上高が前年同期比19.0%増となった。
  7. FY2022-Q1前進有価証券報告書

    「エレクトロニクス機能材料部門の売上高は、前年度を上回る210億93百万円(前年同期比16.3%増)となりました。これは、高密度実装材料のMEMS(微小電気機械システム)用フォトレジストの販売がユーザーの需要環境の変化による影響を受け減少したものの、5GやIoT等の普及に加え、データサーバー向けなどの旺盛な半導体需要に支えられ、半導体用フォトレジスト等の販売が好調に推移し、売上が増加したことが主な要因であります。」

    半導体用フォトレジスト等の販売好調により、エレクトロニクス機能材料部門の売上高が210億93百万円、前年同期比16.3%増となった。
  8. FY2021前進有価証券報告書

    「高度化する顧客の要求に応えるべく、次世代半導体材料開発の促進のため産官学連携を強化したほか、製品の品質や生産技術の向上を加速させるための専門部署を新設いたしました。」

    最先端エレクトロニクス・次世代半導体材料への対応について、産官学連携の強化と品質・生産技術向上を担う専門部署の新設を実施している。
  9. FY2021-Q3前進有価証券報告書

    「アジア地域を中心に半導体用フォトレジストおよび半導体製造の後工程に主に用いられる高密度実装材料の販売が好調に推移し、売上が増加したことが主な要因であります。」

    半導体用フォトレジストおよび高密度実装材料の販売好調により、エレクトロニクス機能材料部門の売上高が前年同期比18.5%増となった。
  10. FY2021-Q2前進有価証券報告書

    「エレクトロニクス機能材料部門の売上高は、前年度を大幅に上回る375億69百万円(前年同期比17.1%増)となりました。これは、中小型液晶パネルの需要環境が変化したことにより、ディスプレイ用フォトレジストの売上が減少したものの、パソコンやスマートフォン向けなどの旺盛な半導体需要に支えられ、半導体用フォトレジストおよび半導体製造の後工程に主に用いられる高密度実装材料の販売が好調に推移し、売上が増加したことが主な要因であります。」

    半導体用フォトレジストおよび高密度実装材料の販売好調により、エレクトロニクス機能材料部門の売上高が375億69百万円、前年同期比17.1%増となった。ディスプレイ用フォトレジストは減少している。
  11. FY2021-Q1前進有価証券報告書

    「エレクトロニクス機能材料部門の売上高は、前年度を大幅に上回る181億32百万円(前年同期比16.1%増)となりました。これは、中小型液晶パネルの需要環境が変化したことにより、ディスプレイ用フォトレジストの売上が減少したものの、パソコンやスマートフォン向けなどの旺盛な半導体需要に支えられ、半導体用フォトレジストや高密度実装材料の販売が好調に推移し、売上が増加したことが主な要因であります。」

    最先端エレクトロニクス関連の半導体用フォトレジストや高密度実装材料の販売好調により、エレクトロニクス機能材料部門の売上高が181億32百万円、前年同期比16.1%増となった。
  12. FY2020前進有価証券報告書

    「また、主力開発拠点である相模事業所の新研究開発棟に最新鋭のクリーンルームを設置し、次世代半導体材料の品質向上や生産技術向上を加速させるための専門組織を発足するなど、体制の強化を図ってまいりました。」

    最先端エレクトロニクス分野への集中に関して、相模事業所の最新鋭クリーンルーム設置と、次世代半導体材料の品質・生産技術向上を担う専門組織の発足を記載している。
  13. FY2020-Q3再掲有価証券報告書

    「当社におけるものづくりの歴史は、フォトリソグラフィによる独自の微細加工技術を基盤として、半導体、ディスプレイをはじめとするエレクトロニクス市場において確固たる信頼とブランドを築き上げるとともに、ユーザーに密着したグローバル展開を図ることで、新たなニーズをいち早く取り込むことにより、微細加工技術のさらなる進化を実現してまいりました。」

    独自の微細加工技術を基盤に、半導体・ディスプレイ等のエレクトロニクス市場で事業を展開する考え方を継続して示している。
  14. FY2020-Q2再掲有価証券報告書

    「当社におけるものづくりの歴史は、フォトリソグラフィによる独自の微細加工技術を基盤として、半導体、ディスプレイをはじめとするエレクトロニクス市場において確固たる信頼とブランドを築き上げるとともに、ユーザーに密着したグローバル展開を図ることで、新たなニーズをいち早く取り込むことにより、微細加工技術のさらなる進化を実現してまいりました。」

    独自の微細加工技術を基盤に半導体・ディスプレイ等のエレクトロニクス分野で事業を展開する考え方を継続している。
  15. FY2020-Q1再掲有価証券報告書

    「当社におけるものづくりの歴史は、フォトリソグラフィによる独自の微細加工技術を基盤として、半導体、ディスプレイをはじめとするエレクトロニクス市場において確固たる信頼とブランドを築き上げるとともに」

    独自の微細加工技術を基盤に半導体・ディスプレイ等のエレクトロニクス分野で事業を展開する考え方を継続している。
  16. FY2019再掲有価証券報告書

    「当社グループの研究開発は、主に機能性高分子材料の研究とその応用技術の開発を中心としており、特に将来的にも成長が期待される最先端エレクトロニクス分野を重点分野と位置づけ、当社のコアコンピタンスである微細加工技術をより強固なものとするための活動を推進しております。」

    最先端エレクトロニクス分野を重点分野とし、微細加工技術を中心とする研究開発を継続している。
  17. FY2019-Q3再掲有価証券報告書

    「当社におけるものづくりの歴史は、フォトリソグラフィによる独自の微細加工技術を基盤として、半導体、ディスプレイをはじめとするエレクトロニクス市場において確固たる信頼とブランドを築き上げるとともに」

    独自の微細加工技術を基盤に半導体・ディスプレイ等のエレクトロニクス分野で事業を展開する考え方を継続している。
  18. FY2019-Q2再掲有価証券報告書

    「当社におけるものづくりの歴史は、フォトリソグラフィによる独自の微細加工技術を基盤として、半導体、ディスプレイをはじめとするエレクトロニクス市場において確固たる信頼とブランドを築き上げるとともに」

    独自の微細加工技術を基盤に半導体・ディスプレイ等のエレクトロニクス分野で事業を展開する考え方を継続している。
  19. FY2019-Q1再掲有価証券報告書

    「当社におけるものづくりの歴史は、フォトリソグラフィによる独自の微細加工技術を基盤として、半導体、ディスプレイをはじめとするエレクトロニクス市場において確固たる信頼とブランドを築き上げるとともに」

    独自の微細加工技術を基盤にエレクトロニクス分野で事業を展開する考え方を継続している。
  20. FY2018-Q1再掲有価証券報告書

    「当社におけるものづくりの歴史は、フォトリソグラフィによる独自の微細加工技術を基盤として、半導体、ディスプレイをはじめとするエレクトロニクス市場において確固たる信頼とブランドを築き上げるとともに、ユーザーに密着したグローバル展開を図ることで、新たなニーズをいち早く取り込むことにより、微細加工技術のさらなる進化を実現してまいりました。」

    フォトリソグラフィに基づく独自の微細加工技術を事業基盤とし、エレクトロニクス市場で技術・ブランドを築く考え方を継続して示している。
  21. FY2017-Q3再掲有価証券報告書

    「当社におけるものづくりの歴史は、フォトリソグラフィによる独自の微細加工技術を基盤として、半導体、液晶ディスプレイをはじめとするエレクトロニクス市場において確固たる信頼とブランドを築き上げるとともに、ユーザーに密着したグローバル展開を図ることで、新たなニーズをいち早く取り込むことにより、微細加工技術のさらなる進化を実現してまいりました。」

    フォトリソグラフィに基づく独自の微細加工技術を事業基盤とし、エレクトロニクス市場で技術とブランドを築いてきたとの説明を継続している。
  22. FY2017-Q2再掲有価証券報告書

    「当社におけるものづくりの歴史は、フォトリソグラフィによる独自の微細加工技術を基盤として、半導体、液晶ディスプレイをはじめとするエレクトロニクス市場において確固たる信頼とブランドを築き上げるとともに、ユーザーに密着したグローバル展開を図ることで、新たなニーズをいち早く取り込むことにより、微細加工技術のさらなる進化を実現してまいりました。」

    フォトリソグラフィに基づく独自の微細加工技術を事業基盤とし、エレクトロニクス市場で技術とブランドを築いてきたとの説明を継続している。
  23. FY2017再掲有価証券報告書

    「当社グループのコアコンピタンスである微細加工技術および高純度化技術を最大限に活用し企業価値創造を推し進めてまいります。」

    微細加工技術と高純度化技術をコア技術として最先端エレクトロニクス分野に活用する方針を継続している。
  24. FY2017再掲有価証券報告書

    「当企業集団のコアコンピタンスである超微細加工技術や高純度化技術を核として、社外の技術的なシーズやニーズ、アイデア、コンセプトを的確に取り入れる」

    超微細加工技術を中心に、高純度化技術も含むコア技術を基盤として事業領域を拡大する考え方を継続している。
  25. FY2016-Q4再掲有価証券報告書

    「当社におけるものづくりの歴史は、フォトリソグラフィによる独自の微細加工技術を基盤として、半導体、液晶ディスプレイをはじめとするエレクトロニクス市場において確固たる信頼とブランドを築き上げるとともに、ユーザーに密着したグローバル展開を図ることで、新たなニーズをいち早く取り込むことにより、微細加工技術のさらなる進化を実現してまいりました。」

    フォトリソグラフィに基づく独自の微細加工技術を事業基盤とし、エレクトロニクス市場で技術とブランドを築いてきたとの説明を継続している。
  26. FY2016-Q3再掲有価証券報告書

    「当社におけるものづくりの歴史は、フォトリソグラフィによる独自の微細加工技術を基盤として、半導体、液晶ディスプレイをはじめとするエレクトロニクス市場において確固たる信頼とブランドを築き上げるとともに」

    フォトリソグラフィに基づく微細加工技術を事業基盤とする説明を継続している。
  27. FY2016初出有価証券報告書

    「特に将来的にも成長が期待される最先端エレクトロニクス分野を重点分野と位置づけ、当社のコアコンピタンスである微細加工技術をより強固なものとするための活動を推進しております。」

    最先端エレクトロニクスを重点分野とし、微細加工技術をコアコンピタンスとして強化する研究開発方針を示している。
一緒に動いた変遷

「最先端微細化プロセス対応の生産・検査設備投資」は、この変遷が動いた30回のうち13回、同じ書類で同じ向きに動きました。

1396654★123456
  1. ★この変遷
  2. 1最先端微細化プロセス対応の生産・検査設備投資13回
  3. 2従業員持株ESOP信託による中長期的企業価値向上9回
  4. 3顧客密着戦略の進化と海外市場展開6回
  5. 4エレクトロニクス業界の景気循環・需要変動6回
  6. 5平成32年度のありたい姿と営業利益200億円5回
  7. 6連結配当性向40%以上と自己株式取得4回

★がこの変遷、番号は上の一覧と対応。線の数字は同じ書類の中で同じ向きに動いた回数で、ほかの変遷どうしの線はそのうち両方がそろって動いた書類の数。よく一緒に動くものほど近くに置いています。

次にこの変遷が動くとき
東京応化工業の次の決算プレビューはまだありません。 直近でこの変遷が動いたのは2026-08-06の決算説明資料で、「前進」でした。
報道
この変遷に結びついた報道はまだありません。記事が同じ話題に触れると、ここに日付順で並びます。
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