日本酸素ホールディングス（4091）・施策前進
半導体材料ガス・関連機器の生産能力拡充と超高純度空気分離装置の製品化
FY2025に初出。6回の記載のうち5回が「前進」で、最初の「前進」は2026-05-11。直近の記載は2026-11-04。
6記載
2年にわたる
4うち適時開示
動きの推移
同じテーマの他社
半導体材料ガス・超高純度空気分離装置の事業拡充1社が書いているテーマ・逆風0社・追い風1社
このテーマで動きを比べられる他社は、まだありません。
全記録提出書類・適時開示・報道、新しい順
- 2026-11-04前進決算説明資料
「2026年9月：韓国において半導体材料ガス製造拠点を新設し、操業を開始」
韓国の半導体材料ガス製造拠点が新設から操業開始へ進み、生産能力拡充の具体的な進展が示された。 - FY2026前進有価証券報告書
「大陽日酸ＪＦＰ株式会社三重工場に新たにMoO2Cl2製造施設の設備投資を決定いたしました。主に、NANDフラッシュメモリで使用されているタングステン代替として、2026年10月より出荷開始の見込みです。」
半導体材料ガスの生産能力拡充を具体化し、MoO2Cl2製造施設への投資決定と2026年10月の出荷開始見込みを示した。 - FY2025初出有価証券報告書
「需要の回復とさらなる需要の拡大が期待される中、半導体材料ガス及び関連機器などの生産能力の拡充を図っております。また、日本での最先端半導体製造の量産化を目指す顧客のパイロットラインへのガス関連工事施工及びバルクガス供給を進めており、これらの旺盛な大規模半導体工場の新設に必要となる超高純度空気分離装置の製品化に向けた取組みも進めております。」
エレクトロニクス事業の重点戦略として、半導体材料ガス・関連機器の生産能力拡充、顧客パイロットラインへの供給、大規模半導体工場向け超高純度空気分離装置の製品化を進めている。