野村マイクロ・サイエンス（6254）・施策前進
新たな研究・開発施設の建設計画
FY2024に初出。4回の記載のうち3回が「前進」で、最初の「前進」はFY2025。直近の記載はFY2026。
4記載
3年にわたる
1うち適時開示
動きの推移
同じテーマの他社
開発研究センター・試験棟の新設7社が書いているテーマ・逆風0社・追い風7社
直近の記載が「前進」なのは、ほかに3社。
尾根＝前進を書いた年、谷＝悪化を書いた年。奥ほど前向きな会社。 ドラッグで回転、スクロールで拡大、右ドラッグで移動。スマホは2本指で回転・拡大（1本指はページのスクロール）。
全記録提出書類・適時開示・報道、新しい順
- FY2026前進有価証券報告書
「昨年度には次世代半導体向けの超純水製造装置などを開発する目的で新たに開発棟を建設し、今後さらに高精度分析技術の開発や不純物発生要因の研究のための分析棟建設を計画してまいります。」
新たな研究・開発施設の計画について、次世代半導体向け装置を開発する開発棟の建設が実績化し、さらに分析棟の建設計画へ進展した。 - 2026-05-29前進株主総会
「昨年度には次世代半導体向けの超純水製造装置などを開発する目的で新たに開発棟を建設し、今後さらに高精度分析技術の開発や不純物発生要因の研究のための分析棟建設を計画してまいります。」
新たな研究・開発施設について、開発棟の建設実績を示す一方、分析棟の建設は計画として残している。 - FY2025前進有価証券報告書
「高精度の分析技術の開発や不純物発生要因の研究、次世代半導体向けの超純水製造装置を開発する目的で、新たな研究・開発棟の建設を進めております。」
前期に具体化した研究・開発施設の計画が、研究・開発棟の建設を進める段階へ進展した。 - FY2024初出有価証券報告書
「高精度の分析技術の開発や不純物発生要因の研究、次世代半導体向けの超純水製造装置の開発などのために、新たな研究・開発施設の建設計画を具体化させるとともに、従来から取り組んでいる民間企業・大学等との共同研究にも一層注力してまいります。」
SMART UP３の加速及び次世代半導体向け装置開発に向け、新たな研究・開発施設の建設計画を具体化する方針を初めて独立したテーマとして確認できる。