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JX金属(5016)・施策前進

CVD・ALD材料と結晶材料による次世代トップシェア製品の創出

FY2025に初出。9回の記載のうち7回が「前進」で、最初の「前進」は2026-05-11。直近の記載は2026-08-06。

9記載
2年にわたる
7うち適時開示
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動きの推移
前進継続後退悪化初出FY2025前進2026-05-11 – 2026-08-062025: 120252026: 82026
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CVD・ALD材料と結晶材料の量産・製品化1社が書いているテーマ・逆風0社・追い風1社

このテーマで動きを比べられる他社は、まだありません。

全記録提出書類・適時開示・報道、新しい順
  1. 2026-08-06前進決算説明資料

    「急速な市場の拡大を捕捉すべく、更なる増産に向けた設備投資を決定」

    InP基板について、2025年度比7~10倍の生産能力を2026年度下期から順次稼働する設備投資計画が示された。
  2. FY2026前進有価証券報告書

    「これまで同組織のもとで、新規高純度CVD・ALD材料の量産ラインを構築し、顧客へのサンプル出荷を進め、良好な評価を獲得しています。本材料の本格採用により急速な需要拡大が見込まれることから、当社は本材料の生産能力の増強を決定しました。東邦チタニウム株式会社茅ケ崎工場で生産設備増強が完了、フル操業を開始しています。さらに茨城事業所日立地区においても量産ラインの立上げが完了し、顧客への出荷を開始しています。」

    CVD・ALD材料について、量産ライン構築、顧客評価、生産設備増強完了、フル操業・出荷開始という段階的な進展を記載している。
  3. FY2025初出有価証券報告書

    「次世代半導体材料として期待されているCVD・ALD材料の本格供給に向け、東邦チタニウム株式会社茅ケ崎工場の敷地内及び当社日立事業所への生産設備及び開発設備投資を決定しています。」

    CVD・ALD材料の設備投資、ドイツ拠点での設備稼働、InP・CdZnTe結晶材料の規模拡大を進めている。
一緒に動いた変遷

「半導体用スパッタリングターゲットの生産能力拡張」は、この変遷が動いた9回のうち8回、同じ書類で同じ向きに動きました。

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  1. ★この変遷
  2. 1半導体用スパッタリングターゲットの生産能力拡張8回
  3. 2連結配当性向20%程度を基本とする配当方針6回
  4. 3成長投資を優先した資本配分と株主還元5回
  5. 4半導体材料・情報通信材料で市場成長を上回る利益成長3回
  6. 5半導体メーカー近接拠点を含むグローバル生産体制の構築3回
  7. 6東邦チタニウムの完全子会社化による経営統合3回

★がこの変遷、番号は上の一覧と対応。線の数字は同じ書類の中で同じ向きに動いた回数で、ほかの変遷どうしの線はそのうち両方がそろって動いた書類の数。よく一緒に動くものほど近くに置いています。

次にこの変遷が動くとき
JX金属の次の決算プレビューはまだありません。 直近でこの変遷が動いたのは2026-08-06の決算説明資料で、「前進」でした。
報道
この変遷に結びついた報道はまだありません。記事が同じ話題に触れると、ここに日付順で並びます。
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