JX金属（5016）・目標前進
半導体用スパッタリングターゲットの生産能力拡張
FY2025に初出。9回の記載のうち8回が「前進」で、最初の「前進」は2026-05-11。直近の記載は2026-08-06。
9記載
2年にわたる
7うち適時開示
動きの推移
同じテーマの他社
半導体関連事業の生産能力増強と海外拠点追加4社が書いているテーマ・逆風0社・追い風4社
直近の記載が「前進」なのは、ほかに2社。
尾根＝前進を書いた年、谷＝悪化を書いた年。奥ほど前向きな会社。 ドラッグで回転、スクロールで拡大、右ドラッグで移動。スマホは2本指で回転・拡大（1本指はページのスクロール）。
全記録提出書類・適時開示・報道、新しい順
- 2026-08-06前進決算説明資料
「半導体用ターゲット (ひたちなか工場) 1.3倍」
半導体用ターゲットについて、2025年度比1.3倍の生産能力を2027年度から順次稼働する計画が示された。 - FY2026前進有価証券報告書
「また、2026年３月26日には、半導体分野をはじめとする先端材料の新たな中核拠点としてひたちなか工場を開業しました。本工場では、AIデータセンター向けを中心とした先端ロジック半導体や先端メモリ半導体(HBM等)の需要拡大を見据え、半導体用スパッタリングターゲット等の供給力強化に加え、研究開発や新規事業の創出を通じて、先端半導体サプライチェーンにおける競争力の向上を図っていきます。」
生産能力拡張に向けたひたちなか工場を開業し、半導体用スパッタリングターゲット等の供給力強化を進めた。 - FY2025初出有価証券報告書
「2028年３月期には2024年３月期対比で約1.6倍の生産能力とすることを目指しています。」
半導体市場と生成AI需要を捕捉するため、生産能力を2028年3月期までに約1.6倍へ拡大する目標を明示している。