ヒラノテクシード（6245）・目標前進
高クリーン・超薄膜コーティングとウェット・ドライ融合技術の確立
FY2016に初出。7回の記載のうち4回が「再掲」。直近の記載はFY2026。
7記載
11年にわたる
0うち適時開示
動きの推移
同じテーマの他社
顧客ニーズ対応の装置・塗布技術開発10社が書いているテーマ・逆風0社・追い風13社
直近の記載が「前進」なのは、ほかに3社。
尾根＝前進を書いた年、谷＝悪化を書いた年。奥ほど前向きな会社。 ドラッグで回転、スクロールで拡大、右ドラッグで移動。スマホは2本指で回転・拡大（1本指はページのスクロール）。
全記録提出書類・適時開示・報道、新しい順
- FY2026前進有価証券報告書
「株式会社ヒラノＫ＆Ｅでは、従来の走行式スパッタ成膜実験機に加え、真空蒸着成膜、両面真空成膜及び特殊真空プラズマ表面改質など、昨今の顧客ニーズやトレンド技術を盛り込んだ新型マルチ実験機の導入に向け始動し、多種多様なドライ成膜製品の開発に取り組みます。」
ウェット・ドライ技術および薄膜技術の展開について、真空蒸着、両面真空成膜、特殊真空プラズマ表面改質を組み込んだ新型マルチ実験機の導入に着手し、開発対象を多様なドライ成膜製品へ広げている。 - FY2026-H1再定義有価証券報告書
「各先端分野の薄膜新素材の開発に重点を置き、幅広い分野やニーズに対応できる強みを生かした戦略に力を入れる方針へ転換を図ります。」
従来のコア技術である高クリーン・超薄膜コーティング等に関する展開が、各先端分野の薄膜新素材の開発を重視する方向へ整理されている。 - FY2023再掲有価証券報告書
「具体的には、当社のコア技術である「高クリーン・超薄膜コーティング技術」及び「ウェットコーティングとドライコーティングの融合」を軸に新技術の開発を行ってまいります。」
高クリーン・超薄膜コーティング技術とウェット・ドライコーティング融合をコア技術・新技術開発の軸として継続している。 - FY2021再掲有価証券報告書
「具体的には、当社のコア技術である「高クリーン・超薄膜コーティング技術」及び「ウェットコーティングとドライコーティングの融合」を軸に新技術の開発を行ってまいります。」
高クリーン・超薄膜コーティング技術とウェット・ドライコーティング融合をコア技術・新技術開発の軸として継続している。 - FY2018再掲有価証券報告書
「「高クリーン・超薄膜コーティング技術」及び「ウェットコーティングとドライコーティングの融合」を軸に新技術の開発を行ってまいります。」
高クリーン・超薄膜コーティング技術とウェット・ドライコーティング融合を軸とする新技術開発を継続している。 - FY2017再掲有価証券報告書
「「高クリーン・超薄膜コーティング技術」及び「ウェットコーティングとドライコーティングの融合」を軸に新技術の開発を行ってまいります。」
高クリーン・超薄膜コーティング技術とウェット・ドライコーティング融合を新技術開発の軸として継続している。 - FY2016初出有価証券報告書
「当社グループとしましては、市場をグローバルな視点でとらえ、ニーズが急速に変化する環境のもと、営業・技術・設計・生産等一連の企業活動の改革を行い、グループの連携を強化し企業価値を更に高め、ナノテクノロジー分野へ向け「高クリーン・超薄膜コーティング技術」と「ウェットコーティングとドライコーティングを融合させた新技術」の確立のため開発体制を整えてまいります。」
ナノテクノロジー分野に向けた二つの技術テーマと、開発体制整備を結び付けて示している。