日本が米ニューヨーク州の半導体工場建設に対して約3.3兆円を投資することで合意した。対象はアメリカ側の新設工場2カ所で、日本からの資金提供が全額に及ぶという。
日本が対米投資の一環として、約3.3兆円を米ニューヨーク州の半導体工場建設へ投資することになり、総額は日本からの資金で賄われる見通しである。新設される工場はグローバルファンドリーズが米国・ニューヨーク州に2カ所を計画していると報じられている。
この動きは、日米間の投資・関税の見返りとしての枠組みの下で進められているとされ、工場の建設費用は最大で210億ドルに達する可能性がある。投資の具体的な時期や運用体制については、今後の公表を待つ状況だと伝えられている。