第一稀元素化学工業がハフニウムの国内製造技術を確立し、2026年内にサンプル提供を開始、2028年の量産化を目指すと発表しました。ベトナム拠点で製造するジルコニウム中間体を日本へ持ち込み、国内で溶媒抽出によりHfを分離・精製する計画も明らかにしています。
半導体材料の国産化をめぐる新たな動きとして、第一稀元素化学工業がハフニウムの国内製造技術を確立したと表明しました。2026年内にサンプル提供を始め、2028年の量産化を目指すとされ、ジルコニウム分野の蓄積を活かして国内サプライチェーンの強化を図る方針です。
同社はベトナム拠点で製造しているジルコニウム中間体を国内へ運び、日本で溶媒抽出によるHfの分離・精製技術を確立するとしています。これにより、国産化が進む中での原料供給の効率化が期待されます。
用途として重要視されているのは先端ロジック半導体のHigh-kゲート絶縁膜に使われる酸化ハフニウムです。半導体の微細化が進むほどALD材料としての役割が高まるとみられます。
市場反応としては発表翌日の26日には第一稀元素化学工業の株式がストップ高買い気配となる動きが見られました。材料面だけでなく、TDMAHなどの前駆体や高純度ガス・薬液、装置、物流といった関連分野への波及も想定されています。