米半導体装置アプライド、7900億円で共同開発拠点 キオクシアも参画

米半導体製造装置大手アプライドマテリアルズはシリコンバレーのサニーベルで次世代の研究拠点を公開した。施設規模は約60万平方フィートで、投資額は最大50億ドル（約7900億円）とされ、AIの普及に伴う半導体需要を背景に共同開発の場に位置づけられる。

新拠点はEPICセンターと称され、テック企業が集まるエリアに設置された。具体的な運用目的は公表記事の記載に従えば、研究開発の推進と産学官連携の強化を目的としていると伝えられている。