キヤノンはフッ化クリプトンKrF露光装置の新製品を12月上旬に発売すると発表した。従来機比でスループットを約3割向上させ、1時間あたりの露光枚数を400枚に引き上げる。新機は波長を柔軟に選択できるオプションも備える。
キヤノンはKrF露光装置の新製品を12月上旬に発売すると発表した。約10年ぶりの刷新で、従来機比でスループットを約3割向上させ、半導体デバイスの積層化に対応するとしている。
新製品ではウェーハのステージ移動時間を短縮し、1時間あたりの露光枚数を400枚に増やせる設計とした。位置合わせ用の光の波長を柔軟に選択できるオプションも提供され、幅広い半導体用途に訴求する。
緩い回路線幅での露光需要の増加を想定し、従来のArF露光工程をKrFで代替することでコスト抑制のケースが生まれる可能性にも言及している。キヤノンとASMのシェアは競合関係で、今回の刷新でシェア拡大を狙うとしている。
半導体投資の急増に対応するための新製品投入で、キヤノンは供給体制と製造体制の強化を進める意向を示している。