キヤノン、露光装置の生産倍増＝２７年、ＡＩ半導体需要拡大で

キヤノンは半導体の製造に使われる露光装置の生産を、2027年に前年度比で最大2倍まで増やす方針を明らかにした。AIの普及による半導体需要の急拡大に対応するため、製造装置の需要増加を見据えて生産能力を拡充する。

現在の生産体制では26年の生産台数は227台を見込む一方、27年には340〜450台程度へ拡大する見込みで、25年に完成した宇都宮市の新工場などを活用して増産を進める。

半導体製造工程で広く使われるi線露光装置においてCanonはトップシェアを持つ一方、先端の極端紫外線露光装置（EUV）はオランダのASM Internationalが独占していることが指摘されている。

武石洋明専務は取材に対し、台湾・韓国・中国だけでなく世界各地で半導体投資計画が動いており、28年まで増産投資が継続する可能性があるとの見通しを示した。