日本の半導体アプリケーション用照明市場の最新動向

国内市場では、半導体製造装置メーカーや前工程を担うファブ、検査装置企業が主要購買層となり、露光装置やエッチング装置向けの高輝度・高精度光源への需要が根強く、EUVリソグラフィの普及に伴い特殊波長照明への置き換えが進んでいる。車載半導体やパワー半導体の需要増加を背景に設備更新や増設が活発化している一方、円安による部品コスト上昇や人材不足による自動化推進も課題として挙がる。

主な用途として酸化、拡散、アニーリング、エピタキシー、その他が挙げられ、それぞれに異なる光応用技術が求められる。酸化・拡散は従来型のランプ加熱が中心で更新需要は限定的、アニーリングは短時間・高精度な処理を実現するレーザー系が成長、エピタキシーはSiCやGaN基板需要の増加に伴い高度化が進む。

市場に関わる主要企業として Ushio、Osram、Iwasaki Electric ほかが列挙され、成長分野はアニールとエピタキシー、その他の一部技術であると整理されている。

今後の見通しとして、日本の市場は今後数年間で年平均成長率11.5%の拡大が見込まれ、露光・検査工程での高精度・高輝度光源が牽引役となる見方が示される。省エネ規制強化や設備投資サイクル、国内工場の新設・増設によるクリーンルーム高度化が需要を押し上げる一方、世界経済や為替・部材供給の不確実性が影響を及ぼす可能性もある。