ブイ・テクノロジー（7717）・施策前進
ナノシステムソリューションズ買収による半導体ウェハ検査・マスクレス露光事業への展開
FY2020-Q2に初出。4回の記載のうち2回が「再掲」。直近の記載はFY2023。
4記載
5年にわたる
0うち適時開示
動きの推移
同じテーマの他社
ナノシステムソリューションズ買収による半導体ウェハ検査・マスクレス露光事業の展開1社が書いているテーマ・逆風0社・追い風1社
このテーマで動きを比べられる他社は、まだありません。
全記録提出書類・適時開示・報道、新しい順
- FY2023前進有価証券報告書
「2022年にはシリコンウェハ製造における検査技術をサポートする株式会社イーエフーイーを株式会社ナノシステムソリューションズの子会社として迎え、2023年には半導体用のウェットプロセス及び真空プロセス装置を幅広く手掛けるジャパンクリエイト株式会社を子会社化しています。」
ナノシステムソリューションズを起点とする半導体事業について、シリコンウェハ検査技術を支援する株式会社イーエフーイーを傘下に加え、さらにジャパンクリエイト株式会社の子会社化へ展開している。 - FY2021再掲有価証券報告書
「Ｍ＆Ａにより、ウェハ検査装置メーカーの株式会社ナノシステムソリューションズに続き、2020年度に半導体レジストのコーター・デベロッパー装置メーカーのリソテックジャパン株式会社を完全子会社化しております。」
ナノシステムソリューションズの買収による半導体ウェハ検査・マスクレス露光分野への展開を継続し、さらにリソテックジャパンの買収へ展開している。 - FY2020-Q3再掲有価証券報告書
「第２四半期連結会計期間において、株式会社ナノシステムソリューションズを株式取得により子会社化したため、連結の範囲に含めております。」
ナノシステムソリューションズの株式取得・子会社化が継続して連結範囲に反映されていることを再確認している。 - FY2020-Q2初出有価証券報告書
「ナノシステムソリューションズ社は、半導体ウェーハ検査とマスクレス露光に優れた技術と実績を誇り、独自の光学技術と画像処理技術で、ウェーハの内部や外部に発生する様々な欠陥の高精度・高速検査を実現しています。また、マスクレス露光装置は、半導体製品の試作やフォトマスクの製造に不可欠な装置として、半導体メーカーのお客様から国内の大学等の研究機関まで、幅広く納入しており、当社グループに迎え入れることにより、更なる経営効率化と競争力強化を図り、両社の価値最大化の実現を目的としております。企業結合日 2019年８月22日 取得した議決権比率 100％」
半導体事業の多角化について、半導体ウェーハ検査・マスクレス露光に強みを持つナノシステムソリューションズを2019年８月22日に現金対価で100％取得し、子会社化した。