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三フッ化塩素ガスによる半導体・MEMS微細加工技術の開発|共通テーマ
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向きが揃っている
特定の出来事に紐づくテーマ — FY2018まで
三フッ化塩素ガスによる半導体・MEMS微細加工技術の開発
大学との共同研究により、三フッ化塩素ガスを用いた半導体・MEMSの微細加工プロセスを開発し、半導体メーカーへの提案・実用化を目指す取り組み。
企業数
1
このテーマを書いている企業の数です。
スレッド数
1
1社が複数のスレッドを持つ場合があります。
期間
FY2018 →
最後に書かれたのは FY2018
影響の向き
追い風
1 追い風 · 0 逆風 · 0 中立
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