住友大阪セメントが、半導体製造工程で用いられる静電チャックの異常放電を抑制する技術の特許出願を公表した。出願内容はウェハーの静電吸着を安定させる設計に焦点を当てている。
半導体製造工程でウェハーを静電吸着させる静電チャックの放電抑制を狙う設計が出願された。出願の概要は、異常放電を起こしにくくする仕組みの提案にあると伝えられている。
記事では、NIKKEI Tech ForesightとPatentfieldが共同で開発したアルゴリズムに基づき、重要性が高いと考えられる特許出願を紹介していると説明されている。対象は日本国内の特許出願で、技術革新性や緊急性、国際出願などを評価基準としている。
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