レゾナックとキオクシアが半導体ウェハー洗浄工程で用いる高純度溶剤を循環再生する取り組みを進め、CFPの使用量が7割減少した成果が伝えられた。
レゾナックがキオクシアと共同で、半導体製造プロセス向けの高純度溶剤を循環再生する技術開発と実証を進めている。ウェハー洗浄工程での適用が進んでいるという。
循環再生技術の成果として、CFPの使用量が約7割削減されたことが報じられている。