日本ゼオン、単層カーボンナノチューブの新プラント建設に着手

日本ゼオンは2026年8月25日に、徳山工場にSWCNTの新プラントを着工した。起工式には経済産業省や県、市の関係者44名が出席し、工事の安全を祈願した。新プラントは現行プラントと同規模の建屋を新設するが、導入技術を改良した方式を採用する。

SG法を基盤とする独自製法を導入することで、従来の生産設備と同規模でありながら生産能力を現行比で数十倍に引き上げる見込みだ。SG法は高純度・高比表面積・高アスペクト比の特長を併せ持つSWCNTの製造に寄与している。

今回の投資は最大約51億円の国策助成を受ける可能性がある国の支援プロジェクトの一環として位置づけられ、日本国内の供給基盤を強化する狙いがある。ZEONANOブランドの高機能材料として、国内外の需要増に対応する計画だ。

中長期戦略としては2030年のSTAGE30においてSWCNTを次期成長ドライバの筆頭に位置づけ、2028年本格稼働以降はESSや自動化ロボティクス、宇宙航空分野など多用途への拡大を見据える。