日本は半導体最先端のEUV開発でASMLに完敗したと指摘される。その背景には技術開発の遅れと執拗性の劣化、自前主義の罠といった要因があるとされる。
かつて半導体露光装置市場を席巻した日本勢だったが、EUVの開発と事業化でASMLに大きく遅れ、技術開発そのものの遅延が敗北の背景として指摘されている。ASMLが世界で初めてEUV露光装置を実用化し、量産ラインで使える水準を確立したのに対し、日本は技術を量産化する段階へ到達できなかった。
敗因として挙げられるのは二点。第一は日本企業における「執拗性の劣化」であり、死の谷を超える長期の開発過程で撤退圧力が高まる状況に粘り強さを発揮できなかった可能性がある。第二は「自前主義の罠」であり、社内の調整や外部連携を阻み、技術を市場投入まで持ち込む体制が弱かったとの指摘がある。