岩谷産業（8088）・施策前進
オゾンパッシベーションの半導体製造装置への標準採用
FY2017に初出。2回の記載のうち1回が「前進」で、最初の「前進」はFY2019。直近の記載はFY2019。
2記載
3年にわたる
0うち適時開示
動きの推移
同じテーマの他社
オゾンパッシベーション技術の半導体装置への標準採用1社が書いているテーマ・逆風0社・追い風1社
このテーマで動きを比べられる他社は、まだありません。
全記録提出書類・適時開示・報道、新しい順
- FY2019前進有価証券報告書
「各種ガスのアプリケーション開発として、オゾン濃縮技術を応用し当社が開発した「オゾンブースター」を搭載した半導体製造装置が、米国大手半導体デバイスメーカーに導入されました。」
オゾン関連技術について、米国大手半導体デバイスメーカーへの装置導入という具体的な採用実績を記載している。 - FY2017初出有価証券報告書
「当社オリジナル技術である高濃度オゾンガスによる金属表面改質技術「オゾンパッシベーション」を、大手半導体製造装置メーカーでの標準採用を実現するなど受託事業を伸長させました。」
オゾンパッシベーションについて、大手半導体製造装置メーカーでの標準採用を実現したとの実績を初めて記載している。