読む価値
69注目
0〜100。会社の良し悪しではなく、読む価値の大きさです。向き
強弱が混在
会社の説明から読み取った方向です。規模
30
常勤約30人（予定）書きぶり
条件付き
どれだけ断定的に書かれているかです。発表された内容
CNT製ペリクル膜EUV露光機用ペリクル
適用分野（この発表が対象とする用途）
先端半導体の微細回路形成、次世代半導体デバイス製造向けナノリソグラフィ
提供開始日2026年6月1日（開設予定）
相手先と当社の関係
リンテック7966
当社との関係
2023年から産総研先端半導体研究センターと、EUV露光機用ペリクルの評価技術および半導体ミッドエンド向け製造プロセス技術の共同研究を実施。包括的な共同研究を継続する。
相手先国立研究開発法人 産業技術総合研究所（産総研）
国立研究開発法人。つくばセンター中央事業所および先端半導体研究センターを有する。所在地・代表者・資本金・設立年は非開示。
拠点（この発表が示した場所）
茨城県つくば市東1－1－1（国立研究開発法人 産業技術総合研究所 つくばセンター 中央事業所内）
常勤約30人（予定）
業績への影響
今期以降の連結業績に与える影響は未定。開示できる段階になり次第、速やかに開示する。
会社は契約金額・提供価格には触れていません。
出典（会社が根拠として挙げた資料）
国立研究開発法人 産業技術総合研究所（産総研）ウェブサイト、産総研先端半導体研究センターウェブサイト
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 対象製品・サービス名 | CNT製ペリクル膜、EUV露光機用ペリクル |
| 相手先 | 国立研究開発法人 産業技術総合研究所（産総研） |
| 相手先の概要 | 国立研究開発法人。つくばセンター中央事業所および先端半導体研究センターを有する。所在地・代表者・資本金・設立年は非開示。 |
| 当社との関係 | 2023年から産総研先端半導体研究センターと、EUV露光機用ペリクルの評価技術および半導体ミッドエンド向け製造プロセス技術の共同研究を実施。包括的な共同研究を継続する。 |
| 提供開始日 | 2026年6月1日（開設予定） |
| 適用分野 | 先端半導体の微細回路形成、次世代半導体デバイス製造向けナノリソグラフィ |
| 拠点所在地 | 茨城県つくば市東1－1－1（国立研究開発法人 産業技術総合研究所 つくばセンター 中央事業所内） |
| 拠点の規模 | 常勤約30人（予定） |
| 業績への影響 | 今期以降の連結業績に与える影響は未定。開示できる段階になり次第、速やかに開示する。 |
| 出典 | 国立研究開発法人 産業技術総合研究所（産総研）ウェブサイト、産総研先端半導体研究センターウェブサイト |
この書類が述べていない項目（8件）
契約金額提供価格契約締結日受賞名・認証名授与・認証機関登録番号・有効期限定量的な効果利用実績
会社がこの書類で述べていない項目です。空欄にしたり、他の資料や推測で補ったりはしません。
会社が挙げている理由
会社自身の説明です。数値から推測したものではありません。先端半導体の微細回路形成で使われるEUV露光機の性能向上に伴い、ペリクルにより高い耐熱性・耐久性・透過性が求められているため。CNT製ペリクルのサンプル供給、顧客評価、製品開発および本格生産に向けた取り組みを加速するため。
このページの読み方
これは書類そのものではありません会社が提出した開示をKomoriが読み、要約しています。数値は会社が述べたとおりで、監査を受けたものではありません。
重みは評価ではありません会社が市場に伝えていた内容をどれだけ変えるかを測ったものです。株式に対する見方ではありません。
訂正されることがあります会社が同じ開示を出し直した場合、このページは訂正後の内容から作り直され、訂正番号が繰り上がります。