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半導体ウェハ裏面研削工程での厚みばらつきを低減 歩留まり向上に貢献する樹脂塗布プロセスを開発 新装置「RAD-3400F/12」の本格受注を開始

リンテックは、半導体ウェハの裏面研削時に生じる厚みのばらつきやクラックを低減する「PCBLプロセス」を開発し、そのための新装置「RAD-3400F/12」の本格受注を2026年4月から開始する。

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発表された内容

PCBL(Pattern Coating Before Lamination)プロセスRAD-3400F/12RAD-3520F/12
適用分野(この発表が対象とする用途)

半導体ウェハのバックグラインド工程、半導体チップ製造

提供開始日2026年4月1日(販売開始日・予定)
会社が数字で示したこと
定量的な効果

厚みのばらつきやクラックの発生を低減、歩留まり向上に貢献(具体的な数値は未開示)

この発表で、会社は契約金額・提供価格・業績への影響のいずれにも触れていません。

発表された内容
項目内容
対象製品・サービス名PCBL(Pattern Coating Before Lamination)プロセス、RAD-3400F/12、RAD-3520F/12
提供開始日2026年4月1日(販売開始日・予定)
適用分野半導体ウェハのバックグラインド工程、半導体チップ製造
定量的な効果厚みのばらつきやクラックの発生を低減、歩留まり向上に貢献(具体的な数値は未開示)
この書類が述べていない項目(14件)
相手先相手先の概要当社との関係契約金額提供価格契約締結日受賞名・認証名授与・認証機関登録番号・有効期限拠点所在地拠点の規模利用実績業績への影響出典

会社がこの書類で述べていない項目です。空欄にしたり、他の資料や推測で補ったりはしません。

会社が挙げている理由

会社自身の説明です。数値から推測したものではありません。

ウェハの回路面にあるバンプなどによる段差をUV硬化型樹脂で埋め、バックグラインド工程での厚みのばらつきやクラックを低減し、半導体チップ製造の歩留まり向上に貢献するため。

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