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次世代半導体の微細回路形成を実現するEUV露光機用ペリクルの要素技術を確立

リンテックグループは、EUV露光機で使うカーボンナノチューブ(CNT)製ペリクルについて、実用化に向けた要素技術を確立した。2025年度までに約50億円を投じ、第一次量産体制の構築を進める。

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規模
50
億円(2025年度までの投資予定額)
書きぶり
条件付き
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発表された内容

EUV露光機用カーボンナノチューブ(CNT)製ペリクル
適用分野(この発表が対象とする用途)

次世代半導体の微細回路形成、EUV露光機用フォトマスクの防塵

会社が数字で示したこと
定量的な効果

5ナノメートル以下の微細回路形成に用いられるEUVに対する透過性・耐熱性・耐久性が要求される

相手先と当社の関係
リンテック7966
当社との関係

リンテックグループがCNT製ペリクルを開発し、部材供給を目指している。開発拠点は米国テキサス州のNano-Science & Technology Center(NSTC)。

拠点(この発表が示した場所)

米国テキサス州(Nano-Science & Technology Center)

業績への影響

半導体の生産性向上に貢献することができると記載。業績への具体的影響額は非開示。

会社は契約金額・提供価格には触れていません。

出典(会社が根拠として挙げた資料)

写真提供:imec(CNT製ペリクル膜のイメージ)

発表された内容
項目内容
対象製品・サービス名EUV露光機用カーボンナノチューブ(CNT)製ペリクル
当社との関係リンテックグループがCNT製ペリクルを開発し、部材供給を目指している。開発拠点は米国テキサス州のNano-Science & Technology Center(NSTC)。
適用分野次世代半導体の微細回路形成、EUV露光機用フォトマスクの防塵
拠点所在地米国テキサス州(Nano-Science & Technology Center)
定量的な効果5ナノメートル以下の微細回路形成に用いられるEUVに対する透過性・耐熱性・耐久性が要求される
業績への影響半導体の生産性向上に貢献することができると記載。業績への具体的影響額は非開示。
出典写真提供:imec(CNT製ペリクル膜のイメージ)
この書類が述べていない項目(11件)
相手先相手先の概要契約金額提供価格契約締結日提供開始日受賞名・認証名授与・認証機関登録番号・有効期限拠点の規模利用実績

会社がこの書類で述べていない項目です。空欄にしたり、他の資料や推測で補ったりはしません。

会社が挙げている理由

会社自身の説明です。数値から推測したものではありません。

次世代半導体の微細回路形成に伴い、従来品より高い透過性・耐熱性・耐久性を持つペリクルが求められているため。半導体関連分野での用途展開を見据えている。

このページの読み方

これは書類そのものではありません会社が提出した開示をKomoriが読み、要約しています。数値は会社が述べたとおりで、監査を受けたものではありません。
重みは評価ではありません会社が市場に伝えていた内容をどれだけ変えるかを測ったものです。株式に対する見方ではありません。
訂正されることがあります会社が同じ開示を出し直した場合、このページは訂正後の内容から作り直され、訂正番号が繰り上がります。
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