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断定的
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収差補正機能を備えたSEMカラムを搭載したフォトマスク欠陥修正装置
適用分野（この発表が対象とする用途）
フォトマスク欠陥修正、半導体関連分野、リソグラフィ
提供開始日2026年9月8日から11日に開催される学会で、2026年9月8日から11日の間に研究成果を発表（実施済み）
会社が数字で示したこと
定量的な効果
40-110nm幅の加工、300nmの欠陥修正、250nmラインアンドスペース上の欠陥修正後の光学特性評価
相手先と当社の関係
Ａ＆Ｄホロンホールディングス7745
当社との関係
株式会社ホロンは当社の連結子会社
業績への影響
2027年3月期の当社グループの業績に与える影響はない
会社は契約金額・提供価格には触れていません。
出典（会社が根拠として挙げた資料）
SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography 2026発表資料、『入門フォトマスク技術』
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 対象製品・サービス名 | 収差補正機能を備えたSEMカラムを搭載したフォトマスク欠陥修正装置 |
| 当社との関係 | 株式会社ホロンは当社の連結子会社 |
| 提供開始日 | 2026年9月8日から11日に開催される学会で、2026年9月8日から11日の間に研究成果を発表（実施済み） |
| 適用分野 | フォトマスク欠陥修正、半導体関連分野、リソグラフィ |
| 定量的な効果 | 40-110nm幅の加工、300nmの欠陥修正、250nmラインアンドスペース上の欠陥修正後の光学特性評価 |
| 業績への影響 | 2027年3月期の当社グループの業績に与える影響はない |
| 出典 | SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography 2026発表資料、『入門フォトマスク技術』 |
この書類が述べていない項目（11件）
相手先相手先の概要契約金額提供価格契約締結日受賞名・認証名授与・認証機関登録番号・有効期限拠点所在地拠点の規模利用実績
会社がこの書類で述べていない項目です。空欄にしたり、他の資料や推測で補ったりはしません。
会社が挙げている理由
会社自身の説明です。数値から推測したものではありません。フォトマスクの歩留まり向上、曲線パターンの採用拡大に伴う修正精度・形状忠実性への要求の高まりを背景としている。
このページの読み方
これは書類そのものではありません会社が提出した開示をKomoriが読み、要約しています。数値は会社が述べたとおりで、監査を受けたものではありません。
重みは評価ではありません会社が市場に伝えていた内容をどれだけ変えるかを測ったものです。株式に対する見方ではありません。
訂正されることがあります会社が同じ開示を出し直した場合、このページは訂正後の内容から作り直され、訂正番号が繰り上がります。