光応用技術を核としたオプトメカトロニクス技術の深化
FY2016に初出。7回の記載のうち6回が「再掲」。直近の記載はFY2023。
直近の記載が「再掲」なのは、ほかに3社。
- FY2023再掲有価証券報告書
「当社グループの技術は、光応用技術をコアに、エレクトロニクス、精密機構、及び画像処理などの周辺技術を融合させたオプトメカトロニクスと呼ばれる複合技術で、代表的な製品である半導体マスク欠陥検査装置やマスクブランクス欠陥検査／レビュー装置、レーザー顕微鏡、及びＦＰＤフォトマスク欠陥検査装置ほか、すべての製品開発に活用されています。」
光応用技術を核に周辺技術を融合するオプトメカトロニクスを、引き続き全製品開発に活用している。 - FY2021再掲有価証券報告書
「当社グループの技術は、光応用技術をコアに、エレクトロニクス、精密機構、及び画像処理などの周辺技術を融合させたオプトメカトロニクスと呼ばれる複合技術で、代表的な製品である半導体マスク欠陥検査装置やマスクブランクス欠陥検査／レビュー装置、レーザー顕微鏡、及びＦＰＤフォトマスク欠陥検査装置ほか、すべての製品開発に活用されています。」
光応用技術を核に周辺技術を融合するオプトメカトロニクスを、引き続き全製品開発の基盤としている。 - FY2020再掲有価証券報告書
「当社グループの技術は、光応用技術をコアに、エレクトロニクス、精密機構、及び画像処理などの周辺技術を融合させたオプトメカトロニクスと呼ばれる複合技術で、代表的な製品である半導体マスク欠陥検査装置やマスクブランクス欠陥検査／レビュー装置、レーザー顕微鏡、及びＦＰＤフォトマスク欠陥検査装置ほか、すべての製品開発に活用されています。」
光応用技術を核に周辺技術を融合する複合技術を、引き続き全製品開発に活用している。 - FY2019再掲有価証券報告書
「当社グループの技術は、光応用技術をコアに、エレクトロニクス、精密機構、及び画像処理などの周辺技術を高いレベルで融合させたオプトメカトロニクスと呼ばれる複合技術であり、代表的な製品である半導体マスク欠陥検査装置やマスクブランクス欠陥検査／レビュー装置、レーザー顕微鏡、及びＦＰＤフォトマスク欠陥検査装置ほか、すべての製品開発に活用されております。」
光応用技術を核とする複合技術を全製品開発に活用する方針を継続している。 - FY2018再掲有価証券報告書
「当社グループの技術は、光応用技術をコアに、エレクトロニクス、精密機構、及び画像処理などの周辺技術を高いレベルで融合させたオプトメカトロニクスと呼ばれる複合技術であり、代表的な製品である半導体マスク欠陥検査装置やマスクブランクス欠陥検査／レビュー装置、レーザー顕微鏡、及びＦＰＤフォトマスク欠陥検査装置ほか、すべての製品開発に活用されております。」
光応用技術を核に周辺技術を融合するオプトメカトロニクスを、引き続き全製品開発の基盤としている。 - FY2017再掲有価証券報告書
「当社グループの技術は、光応用技術をコアに、エレクトロニクス、精密機構、及び画像処理などの周辺技術を高いレベルで融合させたオプトメカトロニクスと呼ばれる複合技術であり、代表的な製品である半導体フォトマスク欠陥検査装置やマスクブランクス欠陥検査装置、レーザー顕微鏡、及びＦＰＤ用大型マスク欠陥検査装置ほか、すべての製品開発に活用されております。」
光応用技術を核に周辺技術を融合するオプトメカトロニクスを、引き続き全製品開発の基盤としている。 - FY2016初出有価証券報告書
「当社グループの技術は、光応用技術をコアに、エレクトロニクス、精密機構、及び画像処理などの周辺技術を高いレベルで融合させたオプトメカトロニクスと呼ばれる複合技術であり、代表的な製品である半導体フォトマスク欠陥検査装置やマスクブランクス欠陥検査装置、レーザー顕微鏡、及びＦＰＤ用大型マスク欠陥検査装置ほか、すべての製品開発に活用されております。」
光学、電子、精密機構、画像処理を融合した複合技術を全製品開発の基盤としている。