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その他開示6914オプテックスグループ電機・精密

ナノメートル単位の微細な欠陥に有効な検査ソリューションを拡充

シーシーエスが、半導体ウエハーやガラス基板などのナノメートル単位の微細な欠陥を検査する2種類の光学ユニットを発売した。従来製品との比較で、検査時間を約8分の1に短縮できるとしている。

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規模
8
従来製品比の検査時間(約8分の1)
書きぶり
断定的
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発表された内容

微分干渉ユニット瞳分割偏光ユニット
適用分野(この発表が対象とする用途)
半導体ウエハーの検査半導体製造に用いるガラス基板の検査微細な段差・キズ・うねり・傾き・反り・切削痕の検査
提供開始日2026年5月20日発売(実績)
会社が数字で示したこと
定量的な効果

シーシーエスの従来製品と比較し、検査時間を約8分の1に削減

相手先と当社の関係
オプテックスグループ6914
当社との関係

シーシーエス株式会社はオプテックスグループ株式会社の100%子会社。カメラメーカー、レンズメーカー、ソフトウェアベンダー等と連携している。

拠点(この発表が示した場所)

京都市(シーシーエス本社)

この発表で、会社は契約金額・提供価格・業績への影響のいずれにも触れていません。

出典(会社が根拠として挙げた資料)

株式会社富士経済『2025年版 画像処理システム市場の現状と将来展望』

発表された内容
項目内容
対象製品・サービス名微分干渉ユニット、瞳分割偏光ユニット
当社との関係シーシーエス株式会社はオプテックスグループ株式会社の100%子会社。カメラメーカー、レンズメーカー、ソフトウェアベンダー等と連携している。
提供開始日2026年5月20日発売(実績)
適用分野半導体ウエハーの検査、半導体製造に用いるガラス基板の検査、微細な段差・キズ・うねり・傾き・反り・切削痕の検査
拠点所在地京都市(シーシーエス本社)
定量的な効果シーシーエスの従来製品と比較し、検査時間を約8分の1に削減
出典株式会社富士経済『2025年版 画像処理システム市場の現状と将来展望』
この書類が述べていない項目(11件)
相手先相手先の概要契約金額提供価格契約締結日受賞名・認証名授与・認証機関登録番号・有効期限拠点の規模利用実績業績への影響

会社がこの書類で述べていない項目です。空欄にしたり、他の資料や推測で補ったりはしません。

会社が挙げている理由

会社自身の説明です。数値から推測したものではありません。

半導体デバイスの微細化に伴い高まる検査能力の高度化ニーズや、従来の専用機材による視野の狭さ・検査時間の長さといった製造現場の課題に対応するため。

このページの読み方

これは書類そのものではありません会社が提出した開示をKomoriが読み、要約しています。数値は会社が述べたとおりで、監査を受けたものではありません。
重みは評価ではありません会社が市場に伝えていた内容をどれだけ変えるかを測ったものです。株式に対する見方ではありません。
訂正されることがあります会社が同じ開示を出し直した場合、このページは訂正後の内容から作り直され、訂正番号が繰り上がります。
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