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会社の説明から読み取った方向です。規模
50.6
%（売上高の前年同期比）書きぶり
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どれだけ断定的に書かれているかです。この期間の実績
第1四半期令和３年８月１日〜令和３年10月31日非連結（個別）日本基準売上高1,085,596千円前年比 +50.6%
営業利益53,069千円
経常利益70,833千円
純利益（親会社株主帰属）48,292千円
帯の幅は売上高を基準にした各段階の大きさです。下にいくほど細くなるほど、売上のうち利益として残る割合が小さいことを表します。
期末の財政状態
総資産11,886,837千円
うち純資産 9,084,782 千円自己資本比率 76.4%
塗りつぶした部分が自己資本比率です。総資産のうち、返済のいらない自前の資金がどれだけかを表します。
地域別売上高地域 アジア / 当第１四半期売上高 384,955千円 / 前年同期売上高 176,764千円 / 当第１四半期構成比 81.1%、地域 北米 / 当第１四半期売上高 65,067千円 / 前年同期売上高 21,562千円 / 当第１四半期構成比 13.7%、地域 欧州 / 当第１四半期売上高 24,482千円 / 前年同期売上高 37,677千円 / 当第１四半期構成比 5.2%、地域 その他 / 当第１四半期売上高 非開示
見通しと株主還元
通期業績予想
売上高非開示
営業利益非開示
経常利益非開示
純利益非開示
備考令和３年９月10日発表の数値から変更なし
業績予想の修正変更なし
業績の増減要因
世界経済の回復、5G関連・自動車向けセンサー・MEMS等の研究開発投資、オンライン化による製造装置需要の拡大。加えて、各種装置の受注活動とAqua Plasma洗浄装置の拡販に注力。
継続企業の前提に関する記載
該当事項なし（「該当事項はありません」）
会計方針の変更
基準改正に伴う変更 有それ以外の変更 無見積りの変更 無修正再表示 無
受注高・受注残高受注高 1,849,649千円 / 受注残高 3,791,721千円
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 決算期区分 | 第1四半期 |
| 会計基準 | 日本基準 |
| 連結・個別の別 | 非連結（個別） |
| 対象期間 | 令和３年８月１日〜令和３年10月31日 |
| 売上高 | 1,085,596千円（前年比 +50.6%） |
| 営業利益 | 53,069千円 |
| 経常利益 | 70,833千円 |
| 親会社株主に帰属する当期純利益 | 48,292千円 |
| 自己資本比率 | 当期末 76.4% / 前期末 非開示 |
| 総資産 | 11,886,837千円 |
| 純資産 | 9,084,782千円 |
| 通期業績予想 | 売上高 非開示 / 営業利益 非開示 / 経常利益 非開示 / 純利益 非開示 / 備考 令和３年９月10日発表の数値から変更なし |
| 業績予想の修正 | 変更なし |
| 地域別売上高 | 地域 アジア / 当第１四半期売上高 384,955千円 / 前年同期売上高 176,764千円 / 当第１四半期構成比 81.1%、地域 北米 / 当第１四半期売上高 65,067千円 / 前年同期売上高 21,562千円 / 当第１四半期構成比 13.7%、地域 欧州 / 当第１四半期売上高 24,482千円 / 前年同期売上高 37,677千円 / 当第１四半期構成比 5.2%、地域 その他 / 当第１四半期売上高 非開示 |
| 受注高・受注残高 | 受注高 1,849,649千円 / 受注残高 3,791,721千円 |
| 継続企業の前提に関する記載 | 該当事項なし（「該当事項はありません」） |
| 会計方針の変更 | 基準改正に伴う変更 有 / それ以外の変更 無 / 見積りの変更 無 / 修正再表示 無 |
| 業績の増減要因 | 世界経済の回復、5G関連・自動車向けセンサー・MEMS等の研究開発投資、オンライン化による製造装置需要の拡大。加えて、各種装置の受注活動とAqua Plasma洗浄装置の拡販に注力。 |
この書類が述べていない項目（20件）
１株当たり当期純利益売上高営業利益率営業活動によるキャッシュ・フロー投資活動によるキャッシュ・フロー財務活動によるキャッシュ・フロー現金及び現金同等物期末残高年間配当予想配当性向株主還元方針セグメント別売上高セグメント別利益減価償却費減損損失特別損益の内訳連結範囲の変更重要な後発事象決算補足説明資料の有無決算説明会の有無期末発行済株式数期末自己株式数
会社がこの書類で述べていない項目です。空欄にしたり、他の資料や推測で補ったりはしません。
会社が挙げている理由
会社自身の説明です。数値から推測したものではありません。5G関連や自動車向けセンサー、MEMSなどの研究開発投資やオンライン化を背景に製造装置需要が拡大したことに加え、通信用レーザー、高周波デバイス、パワーデバイス、MEMS、各種センサー向け装置の受注活動とAqua Plasma洗浄装置の拡販に注力したため。
このページの読み方
これは書類そのものではありません会社が提出した開示をKomoriが読み、要約しています。数値は会社が述べたとおりで、監査を受けたものではありません。
重みは評価ではありません会社が市場に伝えていた内容をどれだけ変えるかを測ったものです。株式に対する見方ではありません。
訂正されることがあります会社が同じ開示を出し直した場合、このページは訂正後の内容から作り直され、訂正番号が繰り上がります。