EUV光源の早期商品化
FY2016に初出。6回の記載のうち4回が「再掲」。直近の記載はFY2023-Q3。
このテーマで動きを比べられる他社は、まだありません。
- FY2023-Q3前進有価証券報告書
「ギガフォトン㈱では、世界各国におけるリソグラフィ用光源のフィールドサポート体制の更なる強化を目指し、エンジニアの育成及び強化を目的としたトレーニング設備増強を進めました。」
リソグラフィ用光源事業について、世界各国のフィールドサポート体制強化に向け、エンジニア育成用トレーニング設備の増強を進めた。 - FY2020再掲有価証券報告書
「その他には、半導体露光装置用エキシマレーザ、EUV光源、半導体基板小径加工用エキシマレーザ、半導体製造業向けの高性能温調機器とその要素である高性能サーモモジュール熱交換ユニット、光通信用向けの超小型サーモモジュール及び熱電発電モジュールとそのシステムに関する研究開発などを推進した。」
EUV光源を含む半導体・温調・熱電関連技術の研究開発を継続している。 - FY2019再掲有価証券報告書
「その他には、半導体露光装置用エキシマレーザ及びEUV光源、FPDアニール装置用及び半導体基板小径加工用エキシマレーザ、半導体製造業向けの高性能温調機器とその要素である高性能サーモモジュール熱交換ユニット、光通信用向けの超小型サーモモジュール及び熱電発電モジュールとそのシステムに関する研究開発などを推進した。」
EUV光源を含む半導体・温調・熱電関連技術の研究開発を継続している。 - FY2018再掲有価証券報告書
「その他には、半導体露光装置用エキシマレーザ及びEUV光源、FPDアニール装置用エキシマレーザ、半導体製造業向けの高性能温調機器とその要素である高性能サーモモジュール熱交換ユニット、光通信用向けの超小型サーモモジュール及び熱電発電モジュールとそのシステムに関する研究開発などを推進した。」
EUV光源を含む半導体関連技術の研究開発方針を継続している。 - FY2017再掲有価証券報告書
「その他には、半導体製造業向けの液浸露光装置用ArFエキシマレーザーの性能向上及び次世代露光装置用EUV光源、高性能温調機器とその要素である高性能サーモモジュール熱交換ユニット、光通信用向けの超小型サーモモジュール及び熱電発電モジュールとそのシステムに関する研究開発などを推進した。」
EUV光源の研究開発を含む半導体関連技術の開発方針を継続している。 - FY2016初出有価証券報告書
「また、ギガフォトン㈱において最先端の半導体リソグラフィ用EUV(Extreme Ultraviolet:極端紫外)光源の早期商品化に努める。」
半導体関連事業の成長施策として記載されている。