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その他開示5381マイポックス建設・資材

半導体ウェーハの12インチ受託加工へ本格参入、CMPラインの構築完了のお知らせ

マイポックスは、鹿沼事業所で12インチ(300mm)ウェーハに対応するCMP受託加工ラインを構築し、本格稼働を開始した。自社開発スラリーを使った独自プロセスに加え、12インチSiCウェーハの受託研磨にも対応し、今後は接合工程まで含む一貫サービスを目指している。

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規模
300
mm(12インチウェーハ)
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発表された内容

12インチ(300mm)ウェーハ対応CMP受託加工12インチSiCウェーハ受託研磨トータルファンドリーサービス
適用分野(この発表が対象とする用途)
生成AI向け半導体EV用パワー半導体パワーデバイスCu(銅)ダマシン接合前工程3次元実装
提供開始日2026年3月12日(本格稼働開始の実績として記載)
拠点(この発表が示した場所)

栃木県鹿沼市(鹿沼事業所)

業績への影響

2026年3月期の連結業績への影響は軽微。次期以降の影響は精査中。

会社は契約金額・提供価格には触れていません。

発表された内容
項目内容
対象製品・サービス名12インチ(300mm)ウェーハ対応CMP受託加工、12インチSiCウェーハ受託研磨、トータルファンドリーサービス
提供開始日2026年3月12日(本格稼働開始の実績として記載)
適用分野生成AI向け半導体、EV用パワー半導体、パワーデバイス、Cu(銅)ダマシン、接合前工程、3次元実装
拠点所在地栃木県鹿沼市(鹿沼事業所)
業績への影響2026年3月期の連結業績への影響は軽微。次期以降の影響は精査中。
この書類が述べていない項目(13件)
相手先相手先の概要当社との関係契約金額提供価格契約締結日受賞名・認証名授与・認証機関登録番号・有効期限拠点の規模定量的な効果利用実績出典

会社がこの書類で述べていない項目です。空欄にしたり、他の資料や推測で補ったりはしません。

会社が挙げている理由

会社自身の説明です。数値から推測したものではありません。

GPUをはじめとする生成AI向け半導体の高集積化、EV用パワー半導体向けウェーハの大口径化、市場ニーズおよび顧客ニーズの高まりに対応するため。

このページの読み方

これは書類そのものではありません会社が提出した開示をKomoriが読み、要約しています。数値は会社が述べたとおりで、監査を受けたものではありません。
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