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ひたちなか新工場における半導体用スパッタリングターゲットの増産に向けた設備投資(固定資産の取得)に関するお知らせ

JX金属は、ひたちなか薄膜材料工場に半導体用スパッタリングターゲットの製造設備を追加し、生産能力を2023年度比1.6倍に引き上げる。投資額は約230億円で、2027年度下期から順次稼働する予定。

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規模
230
億円
書きぶり
条件付き
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この取引

設備投資(固定資産の取得)
取締役会決議日2026年3月10日
実行日・効力発生日2027年度下期より順次稼働(予定)
対象会社
所在地 茨城県ひたちなか市
対価と費用
取得価額約230億円
業績への影響

2026年3月期連結業績への影響は軽微です。

この取引
項目内容
取引の名称設備投資(固定資産の取得)
対象会社の所在地茨城県ひたちなか市
取得価額約230億円
業績への影響2026年3月期連結業績への影響は軽微です。
取締役会決議日2026年3月10日
実行日・効力発生日2027年度下期より順次稼働(予定)
この書類が述べていない項目(26件)
相手方の名称対象会社の名称対象会社の事業内容対象会社の資本金対象会社の設立年月日対象会社の売上高対象会社の営業利益対象会社の当期純利益対象会社の純資産取得価額以外の費用対価の種類合併比率・株式交換比率公開買付価格買付予定数の下限公開買付期間取得株式数議決権所有割合資金の手当てのれんの金額特別損益の金額契約締結日価額算定の方法第三者算定機関特別委員会実行の前提条件取得後の経営体制

会社がこの書類で述べていない項目です。空欄にしたり、他の資料や推測で補ったりはしません。

会社が挙げている理由

会社自身の説明です。数値から推測したものではありません。

AIデータセンター向けを中心に先端ロジック半導体や先端メモリ半導体の需要拡大が見込まれ、半導体用スパッタリングターゲットの生産能力を拡充する必要があると判断したため。安定供給体制の構築、世界の先端半導体サプライチェーンにおけるプレゼンス強化、磯原工場で培った技術・ノウハウを活用した効率的な生産ラインの構築も理由として挙げている。

このページの読み方

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