東京応化工業（4186）・施策再定義
次世代フレキシブルディスプレイ製造装置の開発
FY2017に初出。5回の記載のうち2回が「削除」で、最初の「削除」はFY2019。直近の記載はFY2022。
5記載
7年にわたる
0うち適時開示
動きの推移
同じテーマの他社
次世代フレキシブルディスプレイ製造装置の開発1社が書いているテーマ・逆風0社・追い風1社
このテーマで動きを比べられる他社は、まだありません。
全記録提出書類・適時開示・報道、新しい順
- FY2022再定義有価証券報告書
「当連結会計年度におきましては、今後の市場拡大が期待でき、材料事業との相乗効果を発揮できる分野として、シリコン貫通電極形成システム「ゼロニュートンⓇ」およびパワー半導体市場でのイオン注入レジスト除去装置、パネルレベルパッケージ装置の継続的な開発を積極的に進めてまいりました。」
次世代装置の開発継続を記載する一方、装置事業（一部を除く）はAIメカテックへの譲渡対象となり、従来の自社開発テーマが事業譲渡・協業の枠組みに組み込まれている。 - FY2021削除有価証券報告書
「当連結会計年度におきましては、今後の市場拡大が期待でき、材料事業との相乗効果を発揮できる分野として、シリコン貫通電極形成システム「ゼロニュートンⓇ」およびパワー半導体市場でのイオン注入レジスト除去装置、パネルレベルパッケージ装置の継続的な開発を積極的に進めてまいりました。」
次世代フレキシブルディスプレイ製造装置という固有の開発テーマは本 filing では記載されず、ゼロニュートン、イオン注入レジスト除去装置、パネルレベルパッケージ装置の開発へ記載が移っている。 - FY2020開発記載が再登場有価証券報告書
「今後の市場拡大が期待でき、材料事業との相乗効果を発揮できる分野として、シリコン貫通電極形成システム「ゼロニュートンⓇ」の開発に注力し、相応の成果をあげたほか、次世代フレキシブルディスプレイ製造装置等の開発を積極的に進めてまいりました。」
前 filing で固有の記載が消えていた次世代フレキシブルディスプレイ製造装置等について、開発を積極的に進めているとの記載が再び現れている。 - FY2019削除有価証券報告書
「加えて、当社グループの微細加工技術を活かせるシリコン貫通電極形成システム「ゼロニュートンⓇ」や「オプトエレクトロニクス」、「ライフサイエンス」、「蓄電材料」および「IoT」分野等に向けた材料の開発にも取り組んでまいりました。」
次世代フレキシブルディスプレイ製造装置の開発という固有のテーマは本 filing では記載されず、装置開発の記載はゼロニュートン等に集約されている。 - FY2017初出有価証券報告書
「今後の市場拡大が期待でき、材料事業との相乗効果を発揮できる分野として、シリコン貫通電極形成システム「ゼロニュートンⓇ」の開発に注力し、相応の成果をあげたほか、次世代フレキシブルディスプレイ製造装置等の開発を積極的に進めてまいりました。」
装置事業における新たな開発テーマとして、次世代フレキシブルディスプレイ製造装置の開発を積極的に進めている。