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Multi-Trigger Resist（MTR™）EUVリソグラフィ向けフォトレジスト
適用分野（この発表が対象とする用途）
EUVリソグラフィ半導体製造ロジックデバイスメモリデバイス
契約締結日2026年2月24日
会社が数字で示したこと
定量的な効果
従来のポリマー系レジストと比べて最大10分の1の分子サイズ
相手先と当社の関係
東京応化工業4186
当社との関係
東京応化工業がIrresistible Materials社へ出資し、MTRの共同開発・事業化を行う戦略的パートナーシップ。
相手先Irresistible Materials, Ltd.
英国バーミンガムに本社を置き、半導体製造向け次世代EUVリソグラフィ用フォトレジストの開発を専門とする電子材料技術企業。MTRプラットフォームおよび関連技術について多数の登録特許を取得済みまたは出願中。
登録番号・有効期限
MTRプラットフォームおよび関連技術について多数の登録特許を取得済みまたは出願中（番号・有効期限は非開示）
拠点（この発表が示した場所）
英国バーミンガム（Irresistible Materials社本社）
この発表で、会社は契約金額・提供価格・業績への影響のいずれにも触れていません。
出典（会社が根拠として挙げた資料）
SPIE Advanced Lithography + Patterning Conferenceおよび同会議で発表予定の論文
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 対象製品・サービス名 | Multi-Trigger Resist（MTR™）、EUVリソグラフィ向けフォトレジスト |
| 相手先 | Irresistible Materials, Ltd. |
| 相手先の概要 | 英国バーミンガムに本社を置き、半導体製造向け次世代EUVリソグラフィ用フォトレジストの開発を専門とする電子材料技術企業。MTRプラットフォームおよび関連技術について多数の登録特許を取得済みまたは出願中。 |
| 当社との関係 | 東京応化工業がIrresistible Materials社へ出資し、MTRの共同開発・事業化を行う戦略的パートナーシップ。 |
| 契約締結日 | 2026年2月24日 |
| 適用分野 | EUVリソグラフィ、半導体製造、ロジックデバイス、メモリデバイス |
| 登録番号・有効期限 | MTRプラットフォームおよび関連技術について多数の登録特許を取得済みまたは出願中（番号・有効期限は非開示） |
| 拠点所在地 | 英国バーミンガム（Irresistible Materials社本社） |
| 定量的な効果 | 従来のポリマー系レジストと比べて最大10分の1の分子サイズ |
| 出典 | SPIE Advanced Lithography + Patterning Conferenceおよび同会議で発表予定の論文 |
この書類が述べていない項目（8件）
契約金額提供価格提供開始日受賞名・認証名授与・認証機関拠点の規模利用実績業績への影響
会社がこの書類で述べていない項目です。空欄にしたり、他の資料や推測で補ったりはしません。
会社が挙げている理由
会社自身の説明です。数値から推測したものではありません。東京応化工業は、MTRが低NA・高NAのEUVリソグラフィに対応し、化学増幅型レジストや金属酸化物レジストを補完できる技術であること、ならびにIrresistible Materials社の技術、人材、知的財産を高く評価したため出資を決定した。
このページの読み方
これは書類そのものではありません会社が提出した開示をKomoriが読み、要約しています。数値は会社が述べたとおりで、監査を受けたものではありません。
重みは評価ではありません会社が市場に伝えていた内容をどれだけ変えるかを測ったものです。株式に対する見方ではありません。
訂正されることがあります会社が同じ開示を出し直した場合、このページは訂正後の内容から作り直され、訂正番号が繰り上がります。