Expansion into semiconductor wafer inspection and maskless exposure through the acquisition of NanoSystem Solutions

「2022年にはシリコンウェハ製造における検査技術をサポートする株式会社イーエフーイーを株式会社ナノシステムソリューションズの子会社として迎え、2023年には半導体用のウェットプロセス及び真空プロセス装置を幅広く手掛けるジャパンクリエイト株式会社を子会社化しています。」

「Ｍ＆Ａにより、ウェハ検査装置メーカーの株式会社ナノシステムソリューションズに続き、2020年度に半導体レジストのコーター・デベロッパー装置メーカーのリソテックジャパン株式会社を完全子会社化しております。」

「第２四半期連結会計期間において、株式会社ナノシステムソリューションズを株式取得により子会社化したため、連結の範囲に含めております。」

「ナノシステムソリューションズ社は、半導体ウェーハ検査とマスクレス露光に優れた技術と実績を誇り、独自の光学技術と画像処理技術で、ウェーハの内部や外部に発生する様々な欠陥の高精度・高速検査を実現しています。また、マスクレス露光装置は、半導体製品の試作やフォトマスクの製造に不可欠な装置として、半導体メーカーのお客様から国内の大学等の研究機関まで、幅広く納入しており、当社グループに迎え入れることにより、更なる経営効率化と競争力強化を図り、両社の価値最大化の実現を目的としております。企業結合日　2019年８月22日　取得した議決権比率　100％」