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Multi-Trigger Resist（MTR™）EUVリソグラフィ向けフォトレジスト
Applicable field (uses covered by this announcement)
EUVリソグラフィSemiconductor manufacturingLogic devicesMemory devices
Contract Date24 February 2026
What the company reported numerically
Quantitative Effects
従来のポリマー系レジストと比べて最大10分の1の分子サイズ
Relationship between the counterparty and the company
TOKYO OHKA KOGYO CO.,LTD.4186
Relationship with the Company
東京応化工業がIrresistible Materials社へ出資し、MTRの共同開発・事業化を行う戦略的パートナーシップ。
CounterpartyIrresistible Materials, Ltd.
英国バーミンガムに本社を置き、半導体製造向け次世代EUVリソグラフィ用フォトレジストの開発を専門とする電子材料技術企業。MTRプラットフォームおよび関連技術について多数の登録特許を取得済みまたは出願中。
Registration number and expiry date
MTRプラットフォームおよび関連技術について多数の登録特許を取得済みまたは出願中（番号・有効期限はNot disclosed）
Location (as indicated in this announcement)
英国バーミンガム（Irresistible Materials社本社）
In this announcement the company addresses none of Contract Value / Offering price / Impact on Business Performance.
Source (materials cited by the company)
SPIE Advanced Lithography + Patterning Conferenceおよび同会議で発表予定の論文
| Item | Details |
|---|---|
| Names of Products / Services Covered | Multi-Trigger Resist（MTR™）, EUVリソグラフィ向けフォトレジスト |
| Counterparty | Irresistible Materials, Ltd. |
| Counterparty overview | 英国バーミンガムに本社を置き、半導体製造向け次世代EUVリソグラフィ用フォトレジストの開発を専門とする電子材料技術企業。MTRプラットフォームおよび関連技術について多数の登録特許を取得済みまたは出願中。 |
| Relationship with the Company | 東京応化工業がIrresistible Materials社へ出資し、MTRの共同開発・事業化を行う戦略的パートナーシップ。 |
| Contract Date | 24 February 2026 |
| Applicable area | EUVリソグラフィ, Semiconductor manufacturing, Logic devices, Memory devices |
| Registration number and expiry date | MTRプラットフォームおよび関連技術について多数の登録特許を取得済みまたは出願中（番号・有効期限はNot disclosed） |
| Location | 英国バーミンガム（Irresistible Materials社本社） |
| Quantitative Effects | 従来のポリマー系レジストと比べて最大10分の1の分子サイズ |
| Source | SPIE Advanced Lithography + Patterning Conferenceおよび同会議で発表予定の論文 |
Items this document does not state (8)
Contract ValueOffering priceLaunch dateAward/certification nameAwarding / certifying bodyLocation scaleUsage historyImpact on Business Performance
These are items the company does not state in this document. We do not leave them blank, nor fill them in from other sources or by inference.
The reasons the company gives
The company's own explanation, not something inferred from the numbers.東京応化工業は、MTRが低NA・高NAのEUVリソグラフィに対応し、化学増幅型レジストや金属酸化物レジストを補完できる技術であること、ならびにIrresistible Materials社の技術、人材、知的財産を高く評価したため出資を決定した。
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