Worth reading
61In focus
0–100. This measures how worthwhile something is to read, not how good or bad the company is.Direction
Neutral
Direction inferred from the company’s description.Scale
515
x 510mm（パネルレベル試作ライン）Wording
Definitive
How definitive the wording is.Announced details
JOINT3 (JOINT：Jisso Open Innovation Network of Tops)高性能・高純度なフォトレジスト
Applicable field (uses covered by this announcement)
Next-Generation Semiconductor Packagesパネルレベル有機インターポーザーGenerative AIAutomated Operation
Launch date参画予定（具体的な開始日はNot disclosed）
What the company reported numerically
Usage history
参画企業27社（2025年9月3日時点）
Relationship between the counterparty and the company
TOKYO OHKA KOGYO CO.,LTD.4186
Relationship with the Company
東京応化工業はJOINT3への参画企業。レゾナックが設立した共創型評価プラットフォームに参加する。
CounterpartyResonac CorporationAGC株式会社Applied Materials, Inc.ASMPT Singapore Pte. Ltd.Brewer Science, Inc.CANON INC.Comet Yxlon GmbHEBARA CORPORATIONFurukawa Electric Co.,Ltd.Hitachi High-Tech CorporationJX Advanced Metals CorporationKao CorporationLam Research Salzburg GmbHリンテック株式会社MEC COMPANY LTD.株式会社ミツトヨナミックス株式会社ニッコー・マテリアルズ株式会社奥野製薬工業株式会社Synopsys, Inc.（日本窓口：アンシス・ジャパン株式会社）Tokyo Electron LimitedTOWA株式会社ULVAC, Inc.USHIO INC.ZUKEN INC.3M Company
株式会社レゾナックはJOINT3の設立主体。その他の参画企業は半導体材料・装置・設計分野の企業。参画企業は2025年9月3日時点で27社。
Location (as indicated in this announcement)
茨城県結城市（レゾナック下館事業所（南結城）内）, Kawasaki, Kanagawa Prefecture
515 x 510mmサイズのパネルレベル試作ライン
In this announcement the company addresses none of Contract Value / Offering price / Impact on Business Performance.
| Item | Details |
|---|---|
| Names of Products / Services Covered | JOINT3 (JOINT：Jisso Open Innovation Network of Tops), 高性能・高純度なフォトレジスト |
| Counterparty | Resonac Corporation, AGC株式会社, Applied Materials, Inc., ASMPT Singapore Pte. Ltd., Brewer Science, Inc., CANON INC., Comet Yxlon GmbH, EBARA CORPORATION, Furukawa Electric Co.,Ltd., Hitachi High-Tech Corporation, JX Advanced Metals Corporation, Kao Corporation, Lam Research Salzburg GmbH, リンテック株式会社, MEC COMPANY LTD., 株式会社ミツトヨ, ナミックス株式会社, ニッコー・マテリアルズ株式会社, 奥野製薬工業株式会社, Synopsys, Inc.（日本窓口：アンシス・ジャパン株式会社）, Tokyo Electron Limited, TOWA株式会社, ULVAC, Inc., USHIO INC., ZUKEN INC., 3M Company |
| Counterparty overview | 株式会社レゾナックはJOINT3の設立主体。その他の参画企業は半導体材料・装置・設計分野の企業。参画企業は2025年9月3日時点で27社。 |
| Relationship with the Company | 東京応化工業はJOINT3への参画企業。レゾナックが設立した共創型評価プラットフォームに参加する。 |
| Launch date | 参画予定（具体的な開始日はNot disclosed） |
| Applicable area | Next-Generation Semiconductor Packages, パネルレベル有機インターポーザー, Generative AI, Automated Operation |
| Location | 茨城県結城市（レゾナック下館事業所（南結城）内）, Kawasaki, Kanagawa Prefecture |
| Location scale | 515 x 510mmサイズのパネルレベル試作ライン |
| Usage history | 参画企業27社（2025年9月3日時点） |
Items this document does not state (9)
Contract ValueOffering priceContract DateAward/certification nameAwarding / certifying bodyRegistration number and expiry dateQuantitative EffectsImpact on Business PerformanceSource
These are items the company does not state in this document. We do not leave them blank, nor fill them in from other sources or by inference.
The reasons the company gives
The company's own explanation, not something inferred from the numbers.生成AIや自動運転向け次世代半導体で後工程のパッケージング技術の重要性と需要が高まる中、インターポーザー大型化に伴う取り数減少の課題に対応し、次世代半導体の進化を加速させるため。
How to read this page
This is not the documentKomori reads the disclosure the company filed and writes this summary. Figures are as stated by the company and are not audited.
Weight is not a verdictIt measures how much this changes what the company had already told the market. It is not a view on the shares.
Corrections happenIf the company reissues this disclosure, the page is rebuilt from the corrected version and the revision number moves up.