# オゾンパッシベーションの半導体製造装置への標準採用｜岩谷産業（8088）の変遷

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## 経過

- FY2017 初出 「当社オリジナル技術である高濃度オゾンガスによる金属表面改質技術「オゾンパッシベーション」を、大手半導体製造装置メーカーでの標準採用を実現するなど受託事業を伸長させました。」 — オゾンパッシベーションについて、大手半導体製造装置メーカーでの標準採用を実現したとの実績を初めて記載している。 (https://komori.app/company/8088/filing/2016-fy)
- FY2019 前進 「各種ガスのアプリケーション開発として、オゾン濃縮技術を応用し当社が開発した「オゾンブースター」を搭載した半導体製造装置が、米国大手半導体デバイスメーカーに導入されました。」 — オゾン関連技術について、米国大手半導体デバイスメーカーへの装置導入という具体的な採用実績を記載している。 (https://komori.app/company/8088/filing/2018-fy)