# 東京エレクトロン（8035） FY2025 有価証券報告書

Source: Komori (komori.app) — https://komori.app/company/8035/filing/2025-fy
提出日: 2026-06-22
対象期間: 2025-04-01 〜 2026-03-31
企業ページ: https://komori.app/company/8035
原本（EDINET）: https://disclosure2dl.edinet-fsa.go.jp/searchdocument/pdf/S100YEOO.pdf

## 要点

本書類は、東京エレクトロンの2025年4月1日〜2026年3月31日を対象期間とする有価証券報告書であり、事業・財務状況や配当・自己株式取得などの資本政策、サステナビリティやガバナンス体制を報告しています。また、株式分割（2026年10月1日効力）や自己株式消却（2026年4月30日）等の後発事象も記載されています。

## 事業

TELグループは、半導体製造装置の開発・製造・販売・保守サービスを主力事業とし、連結子会社を通じた製品の製造・販売と海外を含むグローバルな保守サービス体制を展開しています。主要な国外拠点として北米・欧州・アジアに販売・保守拠点を有し、日本国内拠点を中心に製品の仕入・製造を行い、物流・設備管理等を関連会社が担っています。

## 数字

- 研究開発費: 2,779億円
- 設備投資: 2,160億円
- フリーキャッシュフロー: 4,332億円
- 従業員数: 20,236人

## 地域別

- 日本 / 売上高 1,900億円
- 米国 / 売上高 2,430億円
- 英国 / 売上高 755億円
- 韓国 / 売上高 4,090億円
- 台湾 / 売上高 4,106億円
- 中国 / 売上高 1.0兆円
- その他 / 売上高 884億円

## 前回からの変化

### サプライチェーン

2026-06-22提出書類で、品質認証（ISO9001）、製造拠点（宮城/九州/山梨/穂坂の設備記載）、販売・保守拠点（北米/欧州/アジアおよび各現地法人名）、物流・設備管理の体制（TEL BP等）、およびDXソリューション（Epsira™）が確認されたため、既存エントリの言及追記と新規追加を実施。

- + TEL BP物流/設備管理
- + Epsira™装置DX

### 外部エクスポージャー

2026-06-22提出書類により、既存の地政学・原材料・規制・為替・需要・TCFD/TNFD・パンデミック各リスクの言及を追記。加えて「人口動態・労働市場の変化」および「E-COMPASS」を新規エクスポージャーとして追加。

- + 人口動態・労働市場変化の影響
- + E-COMPASSによる環境・サプライチェーン統合

### 製品

本書類では、既存の「半導体製造装置」および「フィールドソリューション他」について記載が再確認された。あわせて、新製品/開発品として「Epsira™」および「E-COMPASS」が明示されているため、製品・サービス正準エントリを追加する。

- + Epsira™（装置DXソリューション）
- + E-COMPASS（環境配慮型技術）

### 技術

提出書類（2026-06-22）で、先端半導体製造プロセス関連の既存技術（EUV露光・多重パターニング・プラズマプロセス・成膜・洗浄・熱処理・プロセスインテグレーション評価・DX基盤）が再言及された。あわせて、DXコンセプトのEpsira™、省エネルギー技術、外部ライセンス／知財モニタリング、ISO9001品質管理、安全管理システム、E-COMPASS環境統合の各能力が新規に具体名で登場したため追加した。

- + Epsira™装置DXソリューション
- + 省エネルギー装置技術
- + 外部ライセンス知財モニタ
- + ISO9001品質管理
- + 安全管理システム
- + E-COMPASS環境統合技術

### 資本配分

本書類（提出日2026-06-22）では、中期の設備投資枠（設備投資7,000億円以上、5年累計）と研究開発投資枠（1.5兆円以上、5年累計）を再掲しており、加えて当期の設備投資総額（2,160億円）と当期のR&D費（277,866百万円）を具体額で開示しました。株主還元では配当性向50%方針に加え年間配当628円/株および自己株式取得の実施（2026年3月期）を明記し、また当座貸越・貸出コミットメント枠（借入実行残高なし）も再掲されています。その他資本配分として政策保有株式の一部売却に伴う投資有価証券売却益計上が新たに追跡対象となりました。

- + 設備投資2,160億円（2026/3期）
- + R&D費277,866百万円（2026/3期）
- + 政策保有株式の一部売却

### ケイパビリティ構築

提出書類（2026-06-22）により、ダイバーシティ推進、TEL UNIVERSITY、UPWARDS、TELサクセッションプラン、コーポレートガバナンス／内部統制整備について言及を追記した。あわせて、Epsira™（装置DXソリューション）、E-COMPASS（環境・サプライチェーン統合）、TCFD・TNFD等の気候関連開示体制、ISO9001認証を含む品質管理・法令遵守教育を、新規の能力構築項目として追加した。

- + Epsira™装置DXソリューション
- + E-COMPASS環境統合施策
- + TCFD・TNFD開示体制整備
- + ISO9001品質管理教育

### 規制ポジショニング

2026-06-22提出書類では、法令遵守・ガバナンス・内部通報・ISO9001・TCFD/TNFD・SBT・E-COMPASS・2040年ネットゼロに関する記載が継続的に確認され、加えて取締役会の将来人数（9名へ）やスコープ3を含む2040年ネットゼロの明確化、さらにDow Jones Best-in-Class Asia Pacific Indexの選定が新たに登場した。

- + ダウ・ジョーンズBest-in-Class選定

## 会社自身の言葉

### 経営戦略・投資計画・ガバナンス／人材（制度・後継者）

- 「中期経営計画として、売上高3兆円以上、営業利益率35%以上、ROE 30%以上を2027年3月期を目標年度として設定」 — 中期経営計画で売上高・利益率・ROEの目標を設定
- 「取締役会8名体制（社外5名・社内3名・将来は9名へ）、指名委員会・報酬委員会を設置。CEOの評価・選解任プロセス・後継者計画を実施。取締役会の実効性評価を実施。」 — 取締役会体制、指名委員会・報酬委員会、CEO評価・選解任、後継者計画、実効性評価
- 「中期計画の達成を支えるべく、研究開発投資1.5兆円以上（5年累計）、設備投資7,000億円以上（5年累計）を計画」 — 成長に向けた研究開発投資・設備投資の投資枠計画（5年累計）
- 「・次世代デバイス向けのプロセス統合評価、プロセスインテグレーション評価能力の強化」 — 次世代デバイス向けのプロセス統合評価・プロセスインテグレーション能力強化
- 「設備投資7,000億円以上（5年累計）を計画」 — 設備投資枠（5年累計）の設定
- 「研究開発投資1.5兆円以上（5年累計）を計画」 — 研究開発投資枠（5年累計）の設定
- 「半導体人材育成・研究開発に関する日米大学間パートナーシップ（UPWARDS）」 — 日米大学間パートナーシップ（UPWARDS）による人材育成
- 「TELサクセッションプランによる次世代経営人材の育成（CEO含む継続的なサクセッション）、日米大学間パートナーシップ（UPWARDS）を含む産学連携」 — TELサクセッションプランやUPWARDS等の産学連携を含む人材育成
- 「TELサクセッションプランによる次世代経営人材の育成（CEO含む継続的なサクセッション）」 — TELサクセッションプランによる次世代経営人材育成（継続的サクセッション）
- 「R&D費（円単位）277,866百万円 → 277,866,000,000円」 — R&D費の数値表現（単位換算を含む記載）
- 「日米大学間パートナーシップ（UPWARDS）を含む産学連携」 — UPWARDSを含む産学連携
- 「TEL UNIVERSITY を設立。」 — 社内教育機関TEL UNIVERSITYの設立
- 「株式報酬・BIP信託・ESOP信託等の信託系報酬を含む総額や内訳、株式交付信託等の内容は別表に記載。」 — 株式報酬・信託（BIP/ESOP等）の枠組みや内容の存在（別表参照）

### 事業・技術・DX・製品／設備投資の中身（開発・提供・DXソリューション）

- 「DX活用による装置性能向上・開発効率化を推進。Epsira™（装置生産性・現場生産性向上のDXソリューション）を新コンセプトとして策定」 — DX活用で装置性能向上・開発効率化を推進し、Epsira™を新コンセプトとして策定
- 「・Epsira™（装置生産性向上・現場生産性向上のDXソリューション）を策定、装置のDX化推進」 — Epsira™（装置生産性・現場生産性向上）の策定と装置DX化の推進
- 「Epsira™（装置生産性・現場生産性向上のDXソリューション）を新コンセプトとして策定」 — Epsira™を新コンセプトとして策定（再言及要素）
- 「・超高解像度EUVリソグラフィ（高NA EUV 向け技術）」 — 高NA EUV向けの超高解像度EUVリソグラフィ技術
- 「設備投資の総額：2,160億円」 — 当期の設備投資総額（数値記載）
- 「・プラズマプロセス技術」 — 設備投資計画に関する追加の言及（投資規模の中核）
- 「売上金額
売上高は全社ベースで2,443,533百万円（2026年3月期）が公表。内訳は外部顧客への売上高として「新規装置」1,817,250百万円、「フィールドソリューション他」626,282百万円。」 — 売上高の公表数値および内訳（新規装置、フィールドソリューション他）
- 「・マルチパターニングを含む微細加工技術」 — マルチパターニングを含む微細加工技術
- 「新設・改修計画：複数拠点で新開発棟・生産・物流棟の建設・竣工予定、投資金額総額、完了時期、増加能力」 — 新設・改修の具体計画（拠点、投資金額、完了時期、増加能力等）
- 「・データ分析基盤・生産性向上のためのDX施策」 — データ分析基盤・生産性向上のためのDX施策
- 「・高性能化・低消費電力化を実現する省エネルギー技術」 — 高性能化と低消費電力化を実現する省エネルギー技術
- 「次世代デバイス向けのプロセス統合評価、プロセスインテグレーション評価能力の強化」 — （再掲要素）次世代デバイス向けプロセス統合評価・能力強化
- 「半導体製造装置（デバイス製造ライン向けの高付加価値装置全般）。具体的には、コータ／デベロッパ、エッチング装置、成膜装置、洗浄装置、先端パッケージ向けプロセス装置、ウェーハプローバ等を開発・提供。」 — 半導体製造装置の開発・提供（主要装置カテゴリ例の列挙）
- 「・エッチング技術・成膜技術・熱処理技術・洗浄技術の先端開発」 — エッチング／成膜／熱処理／洗浄などの先端開発
- 「E-COMPASSを通じた環境・サプライチェーンの統合的取り組み」 — E-COMPASSによる環境・サプライチェーン統合的取り組み
- 「E-COMPASSを通じた環境・サプライチェーンの統合的取り組み、」 — E-COMPASSを通じた環境・サプライチェーン統合の継続的取り組み
- 「新製品/開発品として、デジタルトランスフォーメーション関連のソリューション「Epsira™」、E-COMPASSを中心とした環境配慮型技術の開発・適用。」 — 新製品・開発品（Epsira™、E-COMPASS等）による環境配慮型技術の開発・適用
- 「E-COMPASSを推進」 — E-COMPASSの推進（再言及要素）
- 「・品質管理手法・安全管理システム・環境技術・DX施策等」 — 品質管理・安全管理システム・環境技術・DX施策等の幅広い取り組み

### ESG・気候関連・リスク管理・品質／法令遵守（目標・体制・教育）

- 「TCFD・TNFD等の気候関連情報開示体制の整備」 — TCFD・TNFD等の気候関連情報開示体制の整備
- 「ネットゼロ目標2040年、スコープ1+2のCO2削減目標、スコープ3も2040年ネットゼロ」 — 2040年ネットゼロ目標、スコープ1+2削減目標、スコープ3のネットゼロ
- 「ISO9001認証を含む品質管理・法令遵守教育の実施。社内規程整備、教育訓練、内部通報制度の実施。」 — ISO9001認証を含む品質管理・法令遵守教育の実施
- 「半導体市場の需給変動・経済動向・技術代替の影響。データセンター需要・AIサーバー需要の拡大等が業績に影響。」 — 市場需給変動・経済動向・技術代替が業績に与える影響
- 「輸出入・環境・知財・競争・労働・贈賄防止など各国の法令・規制の遵守。内部統制とコンプライアンス教育の徹底。TCFD・SBT・TNFD等の気候関連開示に適合。」 — 輸出入・環境・知財・競争・労働・贈賄防止等の法令遵守と気候開示適合
- 「輸出入・環境・競争・知的財産等の法令・規制の遵守が求められ、遵守不実施時には法的リスク・費用増加・事業の制限が生じ得る。」 — 法令・規制の不遵守による法的リスクや事業制限の可能性
- 「女性管理職比率目標日本5.0%、グローバル8.0%（2027年3月期まで）」 — 女性管理職比率の目標（日本5.0%、グローバル8.0%）
- 「TCFD・TNFD対応を推進している。」 — TCFD・TNFD対応の推進
- 「Dow Jones Best-in-Class Asia Pacific Index の選定等のESGポジショニング。」 — ESGインデックスでの評価（Dow Jones Best-in-Class Asia Pacific Indexの選定等）
- 「中東情勢の緊張が長期化すれば、サプライチェーンの混乱リスクが高まる可能性がある。」 — 中東情勢の緊張長期化によるサプライチェーン混乱リスク
- 「気候変動・パンデミック・人口動態・労働市場の変化など。TCFD・TNFD対応を推進している。」 — 気候変動・パンデミック・人口動態・労働市場の変化等のリスクを含むTCFD/TNFD対応
- 「・外部ライセンス技術・知財のモニタリング、他社特許の侵害回避体制」 — 外部ライセンス技術・知財のモニタリングと他社特許侵害回避体制
- 「内部通報制度の実施。」 — 内部通報制度の実施
- 「原材料高騰等に伴う影響リスク、エネルギー価格動向等に対する影響が市場環境に影響。」 — 原材料高騰等の影響リスクやエネルギー価格動向への注視
- 「ISO9001認証を含む品質管理・法令遵守教育の実施。」 — ISO9001認証を含む品質管理・法令遵守教育の実施（再言及要素）
- 「SBT認定」 — SBT認定

### 資本政策・ヘッジ・株式関連（還元、自己株取得、株式分割、資金調達枠）

- 「自己株式取得を実施。2026年3月期には自己株式取得額1,499百万円を実施。」 — 自己株式取得の実施（2026年3月期の取得実績）
- 「配当性向50%、年間配当628円/株（中間264円、期末364円）」 — 配当性向50%、年間配当628円/株（中間・期末の内訳）
- 「取引銀行との「当座貸越契約」および「貸出コミットメント契約」を締結。2025年3月31日時点の総額は329,546百万円（取得枠）で、借入実行残高はなし。」 — 当座貸越契約・貸出コミットメント契約（借入実行残高なし）
- 「為替変動リスク、およびヘッジの方針。円建て取引を基本とし、ヘッジを適用。デリバティブ取引はレベル2の時価評価で管理。」 — 為替変動リスクのヘッジ方針（ヘッジ方針、ヘッジ取引の時価評価の管理）
- 「政策保有株式の一部売却に伴い投資有価証券売却益を計上。」 — 政策保有株式の一部売却に伴う投資有価証券売却益の計上
- 「株式分割の基準日・効力発生日・分割後の発行可能株式総数の増加（4,500,000,000株）等」 — 株式分割に関する基準日・効力発生日・分割後の発行可能株式総数等

### 拠点・関係会社／地域・社名等の情報（配置・所在）

- 「物流・設備管理等を TEL BP, TEL の関連会社が担っています。」 — 物流・設備管理等をTEL BP等の関連会社が担う旨
- 「北米・欧州・アジアに販売・保守拠点を有し、」 — 北米・欧州・アジアに販売・保守拠点を有する旨
- 「Tokyo Electron America, Inc.」 — Tokyo Electron America, Inc.の記載
- 「Tokyo Electron Europe Ltd.」 — Tokyo Electron Europe Ltd.の記載
- 「Tokyo Electron Korea Ltd.」 — Tokyo Electron Korea Ltd.の記載
- 「Tokyo Electron Taiwan Ltd.」 — Tokyo Electron Taiwan Ltd.の記載
- 「Tokyo Electron (Shanghai) Ltd.」 — Tokyo Electron (Shanghai) Ltd.の記載
- 「Tokyo Electron Singapore Pte. Ltd.」 — Tokyo Electron Singapore Pte. Ltd.の記載
- 「東京エレクトロン 宮城㈱（宮城県黒川郡大和町、本社）」 — 東京エレクトロン 宮城㈱の拠点情報（所在地を含む）
- 「東京エレクトロン 九州㈱（熊本県合志市、本社）」 — 東京エレクトロン 九州㈱の拠点情報（所在地を含む）
- 「山梨事業所（韮崎市）」 — 山梨事業所の拠点情報
- 「穂坂事業所」 — 穂坂事業所の拠点情報