# ブイ・テクノロジー（7717） FY2025 有価証券報告書 Source: Komori (komori.app) — https://komori.app/company/7717/filing/2025-fy 提出日: 2026-06-24 対象期間: 2025-04-01 〜 2026-03-31 企業ページ: https://komori.app/company/7717 原本（EDINET）: https://disclosure2dl.edinet-fsa.go.jp/searchdocument/pdf/S100YITH.pdf ## 要点 当連結会計年度は、売上高が52,992百万円となり前期比で増収となった一方、半導体・フォトマスク装置事業では一部装置の設置時期延伸などがあり減益要因もあった。その他、2030年代に向けた人材・ガバナンス面の施策として、2025年6月に監査等委員会設置会社へ移行し、2026年3月にはアドバンストパッケージ事業推進本部を新設した。 ## 事業 本報告書に記載された企業は、半導体・フォトマスク装置事業およびFPD装置事業を主力に、IT事業・農業事業等も展開するグループ企業です。グループは当社を含む「当社グループ」、22の連結子会社および4社の持分法適用関連会社から構成され、国内外で製造装置の開発・設計・製造・販売・関連サービスを提供しています。生産は基本的にファブレス体制で、FPD装置は協力会社に製造を委託し、半導体・フォトマスク装置事業の一部はYRPイノベーションセンターで製造を行うケースがあるほか、事業ポートフォリオの見直しを適時実施しています。中期的には「アドバンストパッケージ分野」へ資源を集中させ、半導体分野の売上構成比を拡大する方針を掲げ、ROEを中長期的な主要指標としています（中期計画最終年度2029年3月期にROE20%以上を目標）。注力分野の研究開発・事業展開・資本配分を通じた高収益化を推進するとしています。 ## 数字 - 研究開発費: 23億円 - 設備投資: 11億円 - フリーキャッシュフロー: 40億円 - 従業員数: 1,027人 ## セグメント - 半導体・フォトマスク装置事業 / 売上高 0百万円 / 営業利益 0百万円 - FPＤ装置事業 / 売上高 0百万円 / 営業利益 0百万円 - その他事業 / 売上高 0百万円 / 営業利益 -0百万円 ## 地域別 - 日本 / 売上高 0百万円 - 韓国 / 売上高 0百万円 - 中国 / 売上高 0百万円 - 台湾 / 売上高 0百万円 - その他 / 売上高 0百万円 ## 前回からの変化 ### サプライチェーン 本提出書類（2026-06-24）で、新規にVETON TECH LIMITEDの製造拠点（事務所および工場）が明示されるとともに、Kunshan V Technologyの商号変更によりShanghai V Technologyへ依存が連続している旨が示唆されたため、該当する製造・販売拠点エントリを更新しました。加えて、YRPイノベーションセンター、本社、OHT福山の設備記載およびVETON TECH LIMITEDの販売記載を追記しました。 - + VETON TECH工場 ### 戦略的賭け 2026年提出書類で、アドバンストパッケージ推進体制の新設（2026年3月）や資本配分方針、人的資本投資・デジタル化等の記載が新たに確認された。また、ファブレス生産体制、監査等委員会設置会社への移行に伴う監査・リスク管理、DI（Direct Imaging）パッケージ戦略やYRPイノベーションセンター活用など既存の戦略的賭けについても再言及があり、該当エントリへ追記した。 - + アドバンストパッケージ事業推進本部 - + 成長投資優先の資金配分方針 - + 人的資本投資とデジタル化 ### 製品 当該提出書類では、DI露光機「LAMBDI」の受賞が明記され、またアドバンストパッケージ関連のDI露光・O/S検査・ウェハ検査等の高度化製品、並びにディスプレイ工程のサルベージ（良品化）やインターポーザ関連部材、FPD向け蒸着マスク等の部材が新たに具体化されている。加えて、フェムト秒レーザ発振技術、ダイナミック座標計測技術、荷電粒子ビームによる修正・計測の高度化技術などの重点技術が明示されたため、既存エントリへ追記と、新規エントリ追加を行う。 - + 中小型OLEDサルベージ事業 - + インターポーザ関連部材 - + FPD向け蒸着マスク等部材 - + フェムト秒レーザ発振技術 - + ダイナミック座標計測技術 - + 荷電粒子ビーム修正・計測技術 ### 技術 2026年提出書類では、Direct Imaging（DI露光）技術およびそれを核とする統合プラットフォーム要素、ダイナミック座標計測技術が新たに技術体系として明記された。一方で、マスクレス露光技術はダイレクトマスクレス露光の高度化として継続言及され、荷電粒子ビームによる修正・計測技術も高度化が示された。加えて、ウェハ検査・フォトマスク検査・測定技術およびO/S検査、フェムト秒レーザ発振技術についても再言及が確認できた。 - + DI露光技術 - + DI露光統合プラットフォーム - + ダイナミック座標計測技術 ### ケイパビリティ構築 本書類（提出日2026-06-24）では、アドバンストパッケージ分野の推進体制整備や、YRPイノベーションセンターを軸とした開発機器の集約・機会獲得、DI露光機LAMBDIの外部評価など、新たな能力構築の観点が追加された。加えて、人材戦略のうち外国人管理職比率目標と女性管理職登用方針が再提示され、既存の関連正準エントリを更新した。さらに、LE-TECHNOLOGY・ジャパンクリエイトを含むグループ統合による迅速な顧客対応の方針が示され、該当する子会社化関連エントリにも言及追記した。 - + アドバンストパッケージ事業推進本部 - + YRPイノベーションセンター活用 - + DI露光機LAMBDIの優秀賞受賞 - + 若手中途採用の積極化と再開 - + 時差出勤と計画的有給の完全達成 - + 3社連携体制のグループ統合 ## 会社自身の言葉 ### DI露光・アドバンストパッケージ関連の技術/製品 - 「Direct Imaging（DI露光）技術」 — Direct Imaging（DI露光）技術に関する記載 - 「マスクレス露光技術」 — マスクレス露光技術に関する記載 - 「荷電粒子ビームによる修正・計測技術（研究開発要素）」 — 荷電粒子ビームによる修正・計測技術（研究開発要素） - 「重点分野: 高精度光学式パターン検査技術、超高精度座標計測技術、マスクレス露光技術、フェムト秒レーザ発振技術、荷電粒子ビームによる修正・計測技術等」 — 重点分野（高精度光学式パターン検査、超高精度座標計測、マスクレス露光、フェムト秒レーザ、荷電粒子ビーム等） - 「DI露光装置（Direct Imaging）関連機器として「LAMBDI」（LE-TECHNOLOGY製品）を含む」 — DI露光装置として「LAMBDI」（LE-TECHNOLOGY製品）等 - 「フェムト秒レーザ発振技術」 — フェムト秒レーザ発振技術に関する記載 - 「DI露光・O/S検査・ウェハ検査等の高度化製品」 — DI露光・O/S検査・ウェハ検査等の高度化製品に関する記載 - 「ダイナミック座標計測技術」 — ダイナミック座標計測技術に関する記載 - 「ウェハ検査装置・フォトマスク検査・測定技術・インターポーザ関連部材など」 — ウェハ検査装置・フォトマスク検査・測定技術・インターポーザ関連部材等 - 「ウェハ検査・フォトマスク検査・測定技術」 — ウェハ検査・フォトマスク検査・測定技術 - 「DI露光・O/S検査・蒸着マスク関連の製造・検査・測定技術の統合プラットフォーム的要素」 — DI露光・O/S検査・蒸着マスク関連の統合プラットフォーム的要素 - 「DI露光機「LAMBDI」が半導体・オブ・ザ・イヤー2025において優秀賞を受賞」 — DI露光機「LAMBDI」が半導体・オブ・ザ・イヤー2025で優秀賞受賞 - 「荷電粒子ビームによる修正・計測の高度化技術」 — 荷電粒子ビームによる修正・計測の高度化技術に関する記載 - 「ダイレクトマスクレス露光の高度化技術」 — ダイレクトマスクレス露光の高度化技術 - 「DI露光（Direct Imaging）技術、O/S検査技術」 — DI露光（Direct Imaging）技術、O/S検査技術 - 「半導体・フォトマスク装置事業関連製品（個別製品名の記載は限定的）」 — 半導体・フォトマスク装置事業関連製品（個別製品名の記載は限定的） ### 組織・設備投資・研究開発拠点/製造・グループ会社の事業体制 - 「アドバンストパッケージ事業推進本部を2026年3月に設置」 — アドバンストパッケージ事業推進本部を2026年3月に設置 - 「YRPイノベーションセンター（神奈川県横須賀市） 事業区分：半導体・フォトマスク装置事業およびFPD装置事業、内容：研究開発設備およびデモ機、帳簿価額 1,338百万円、従業員数 40」 — YRPイノベーションセンター（設備内容：研究開発設備・デモ機、帳簿価額、従業員数等の記載） - 「研究開発投資額: 2,258百万円」 — 研究開発投資額（2,258百万円） - 「Shanghai V Technology Co., Ltd.（ 上海市閔行区／Minhang District, Shanghai, China）資本金 11,074千人民元、事業内容：検査関連装置の製造・販売（仲介）、メンテナンス」 — Shanghai V Technology（Minhang District, Shanghai）の資本金・事業内容等 - 「設備投資額: 1,114百万円（百万円単位、円換算では1,114,000,000円）」 — 設備投資額（1,114百万円） - 「VETON TECH LIMITED（Hong Kong, China）資本金 2,795千人民元、事業内容：中国における当社製品の受注営業および新規事業開拓」 — VETON TECH LIMITED（香港）の資本金・事業内容（受注営業/新規事業開拓） - 「Shanghai V Technology Co., Ltd.（Minhang District, Shanghai, China） 事務所および工場、帳簿価額 14, など詳細略」 — Shanghai V Technologyの事務所・工場や帳簿価額等の言及 - 「YRPイノベーションセンター（神奈川県横須賀市） 事業区分：半導体・フォトマスク装置事業およびFPD装置事業、内容：研究開発設備およびデモ機」 — YRPイノベーションセンターの事業区分・内容（研究開発設備およびデモ機） - 「本社設備（神奈川県横浜市保土ヶ谷区ほか） 事業区分：半導体・フォトマスク装置事業およびFPD装置事業、設備内容：建物 16百万円、機械及び装置 176百万円、その他 22百万円、合計 206百万円」 — 本社設備（事業区分・設備内訳：建物、機械及び装置等、合計） - 「研究開発拠点としてYRPイノベーションセンターを設置（2022年8月）し、開発機器の集約・機会獲得を推進」 — 研究開発拠点としてYRPイノベーションセンターを設置（2022年8月） - 「大型パネル向け装置関連部材・蒸着マスク等」 — 大型パネル向け装置関連部材・蒸着マスク等 - 「生産は基本的にファブレス体制で、FPD装置は協力会社に製造を委託し、半導体・フォトマスク装置事業の一部はYRPイノベーションセンターで製造を行うケースがあるほか」 — 生産は基本ファブレス、FPDは協力会社製造、半導体・フォトマスクの一部はYRPで製造等 - 「VETON TECH LIMITED（Hong Kong, China） 事務所および工場、帳簿価額 148百万円、従業員数 58」 — VETON TECH LIMITEDの事務所および工場（帳簿価額、従業員数等） - 「オー・エイチ・ティー株式会社（広島県福山市） セグメント：半導体・フォトマスク装置事業およびFPD装置事業」 — オー・エイチ・ティー株式会社（事業区分：半導体・フォトマスク装置事業およびFPD装置事業） - 「IT事業・農業事業等の付帯サービス・部材提供」 — IT事業・農業事業等の付帯サービス/部材提供 - 「フラットパネル装置領域では現地拠点を活用した受注体制・生産体制の強化」 — フラットパネル装置領域での現地拠点活用（受注体制・生産体制の強化） ### ガバナンス/サステナビリティ・人的資本/株主還元 - 「中間配当: 1株当たり40円、期末配当1株当たり40円、合計80円/株」 — 配当（中間40円、期末40円、合計80円/株） - 「外国人管理職の比率目標を2030年代に約10%程度へ設定（現状3%程度）」 — 外国人管理職比率の目標設定（2030年代に約10%、現状3%程度） - 「監査等委員会設置会社へ移行（2025年6月26日定時株主総会決議）」 — 監査等委員会設置会社へ移行（2025年6月26日定時株主総会決議） - 「内部統制システムを整備、コンプライアンス基本規程の周知徹底、取締役・従業員の職務執行の適正性を確保 監査等委員会・内部監査室・会計監査人との連携を強化」 — 内部統制システム整備・コンプライアンス基本規程周知徹底等、取締役/従業員の職務執行の適正性確保 - 「人権・多様性の尊重、国や地域の文化・慣習を尊重した相互理解 気候変動を危機管理基本規程に基づく重要外部リスクの一つとして位置づけ、リスク評価・機会活用の検討を継続」 — 人権・多様性の尊重および相互理解（国や地域の文化・慣習の尊重） - 「ワークライフバランス推進、時差出勤制度の導入、有給休暇の計画的取得の完全達成を2030年代まで目標」 — ワークライフバランス施策（時差出勤、有給休暇の計画的取得の完全達成を2030年代まで目標） - 「人的資本投資・デジタル化・業務プロセス改革を通じた競争力の強化」 — 人的資本投資・デジタル化・業務プロセス改革による競争力強化 - 「女性の管理職登用を推進」 — 女性の管理職登用を推進 - 「自己株式取得・その他還元策: 自己株式取得・株式報酬制度の導入・継続に関する方針あり」 — 自己株式取得・株式報酬制度に関する方針（導入/継続） ### リスク認識・資金/ヘッジ・会計処理 - 「中小型OLEDのサルベージ（良品化）事業」 — 中小型OLEDのサルベージ（良品化）事業 - 「短期借入金: 60百万円 長期借入金: 10,636百万円 総借入金額: 21,110百万円」 — 借入金の内訳（短期借入金、長期借入金、総借入金額等の記載） - 「営業キャッシュ・フロー創出力の強化と、成長投資（M&A・最先端技術の研究開発等）への資金配分を優先」 — 営業キャッシュ・フロー創出力の強化と成長投資（M&A・最先端技術の研究開発等）への優先的配分 - 「地政学リスク・物流網の混乱等により、部材供給遅滞・輸送コストの高騰等が発生する可能性があると認識。特に地政学的要因による世界的な物流網の影響が、製品安定供給・利益率に影響を及ぼす可能性を指摘。」 — 地政学リスク・物流網混乱等による部材供給遅滞や輸送コスト高騰の可能性 - 「輸出入規制・環境規制・移転価格税制等、各国・地域の法令・規制の影響を受ける可能性がある。将来的な規制強化・新規規制の導入による対応コスト・時間の影響が想定される。」 — 輸出入規制・環境規制・移転価格税制等による規制影響の可能性 - 「為替リスクのヘッジを実施。外貨建債務・売掛金等の為替変動リスクを、先物為替予約・直物為替でヘッジ。ヘッジの有効性は、ヘッジ対象のキャッシュ・フロー変動とヘッジ手段の変動の累計の比較により評価。ヘッジの有効性評価は、同一条件のときには評価を省略。」 — 為替リスクのヘッジ（先物為替予約・直物為替、ヘッジ有効性評価方法等） - 「人口動態・気候変動・パンデミック・自然災害・競争激化・重要人材の流出等、その他の外部要因が業績に影響する可能性を指摘。」 — その他外部要因（人口動態、気候変動、パンデミック、自然災害、競争激化、重要人材流出等）による業績影響の可能性 - 「国庫補助金による圧縮記帳額（20百万円）などの会計処理」 — 国庫補助金による圧縮記帳額等の会計処理