# ジオマテック（6907） FY2025 有価証券報告書

Source: Komori (komori.app) — https://komori.app/company/6907/filing/2025-fy
提出日: 2026-06-25
対象期間: 2025-04-01 〜 2026-03-31
企業ページ: https://komori.app/company/6907
原本（EDINET）: https://disclosure2dl.edinet-fsa.go.jp/searchdocument/pdf/S100YKF2.pdf

## 要点

当事業年度は売上高が増加し、営業利益・経常利益・当期純利益はいずれも前期比で増益となりました。あわせて、金成工場・赤穂工場を中心に設備投資（総額176百万円）を実施し、また人的資本・気候変動に関する指標と目標の設定・進捗が記載されています。

## 事業

本報告書に記載されている事業は、ディスプレイ、半導体・電子部品、その他品目向けの薄膜加工製品の製造・販売および成膜関連部材の販売・成膜関連サービスの提供を中心とする。薄膜技術＋生産技術という経営方針の下、従来の薄膜技術に生産技術を組み合わせた価値提供を通じ、顧客の利便性向上と企業の収益性向上を目指す。事業は成膜加工関連事業の単一セグメントとして位置付けられ、品目区分は当期より「ディスプレイ」「半導体・電子部品」「その他」の区分に変更。主要製品名として g.moth®, g.slip®, g.black™ などのナノ構造体製品・高滑落性機能材料・無反射黒色シート等が挙げられる。主な顧客にはジャパンディスプレイ株式会社、シャープディスプレイテクノロジー株式会社、ミクロ技術研究所等が含まれる。沿革上の主要拠点として金成工場（宮城県栗原市）、赤穂工場（兵庫県赤穂市）、東京工場（本社機能の一部を含むＲ＆Ｄセンターを含む）がある。事業の環境としては国内市場の回復基調がある一方、地政学リスクや資源価格・輸送コストの影響、米国の通商政策の不確実性等が挙げられる。

## 数字

- 研究開発費: 2億円
- 設備投資: 2億円
- フリーキャッシュフロー: 13億円
- 従業員数: 296人

## セグメント

- ディスプレイ / 売上高 29億円
- 半導体・電子部品 / 売上高 19億円
- その他 / 売上高 13億円

## 前回からの変化

### サプライチェーン

2026-06-25提出書類で、インジウム原材料の言及、ISO 14001（EMS）継続、主要工場（金成/赤穂）の再記載と設備投資計画（2026-2027）の明示が確認された。加えて、東京工場の製造設備投資計画が新たに登場した。

- + 東京工場（製造設備）

### 戦略的賭け

提出日2026-06-25の提出書類に基づき、既存の戦略的賭け6件を追記更新するとともに、本書類で新たに具体化された設備投資（赤穂工場・東京工場）およびR&D重点課題（半導体・電子部品向けの各種材料/技術、g.slip、g.black、プラズマプロセス）を11件追加した。

- + 赤穂工場製造設備投資計画
- + 東京工場製造設備投資計画
- + ファンアウト微細回路材料量産
- + 金属抵抗式薄膜ひずみゲージ技術
- + 弾性波デバイス音響多層膜
- + MEMS用圧電薄膜の開発
- + GaNテンプレートウエハー開発
- + 貫通ビア成膜技術の開発
- + g.slip高滑落性機能材料の開発
- + g.black無反射黒色シート開発
- + プラズマプロセス技術の開発

### 外部エクスポージャー

2026-06-25提出書類で、インジウム価格変動リスク・エネルギー価格（電力）高騰リスク、地震等の自然災害リスク、主要顧客（ジャパンディスプレイ、シャープディスプレイテクノロジー、ミクロ技術研究所、NKKスイッチズ）への言及を追加した。加えて、地政学リスクと米国通商政策不確実性、自動車市場の中国競争激化、新規事業投資回収期間と減損リスクを新規エントリとして追加した。

- + 地政学リスクと通商不確実性
- + 自動車市場の中国競争激化
- + 新規事業投資回収と減損

### 製品

当該提出書類ではコア製品としてg.moth®、g.slip®、g.black™が明示されるとともに、ディスプレイ向け車載帯電防止膜や自動車向けカバーパネル用途（反射防止・防汚膜）が製品例として追記された。さらに研究開発重点として、ファンアウト用微細回路形成材料（量産技術開発）を含む複数の薄膜・成膜技術テーマ（ひずみゲージ、弾性波用多層膜、MEMS用圧電薄膜、GaNテンプレートウエハー、貫通ビア成膜、プラズマプロセス、超撥水膜・親水膜）が「新たな開発製品・材料/技術」として登場した。既存エントリについては、自動車向けカバーパネル薄膜、g.moth®低反射フィルム、ファンアウト微細回路形成材料、半導体ウェハー向け薄膜製品（テスト基板向け受注）、成膜加工関連部材（売上）への言及を追記した。

- + 車載向け帯電防止膜
- + g.slip®高滑落性機能材料
- + g.black™無反射黒色シート
- + 金属抵抗式薄膜ひずみゲージ技術
- + 弾性波デバイス用音響多層膜
- + MEMSデバイス用圧電薄膜
- + パワーデバイス用GaNテンプレートウエハー
- + 貫通ビアへの成膜技術
- + プラズマプロセス技術
- + 超撥水膜・親水膜

### 技術

提出日2026-06-25の報告書で、半導体・ディスプレイ向け薄膜関連のR&D主要課題および機能材料/成膜周辺技術が複数名指しで再掲・継続言及された。また、MEMS用圧電薄膜、GaNテンプレートウエハー、貫通ビアへの成膜技術などの新規技術テーマが同報告書で初めて明示された。

- + MEMSデバイス用圧電薄膜
- + パワーデバイス用GaNテンプレートウエハー
- + 貫通ビアへの成膜技術
- + 薄膜技術と生産技術の統合運用
- + 試作・単品対応の機能化

### 資本配分

提出書類（2026-06-25）において、既存の設備投資・研究開発・資金調達方針・配当方針への言及が確認された。また、新たに東京工場の製造設備投資計画が具体額と着手完了時期付きで開示されたため新規エントリを追加した。

- + 東京工場 製造設備投資

### ケイパビリティ構築

提出書類（2026-06-25）により、既存の人材育成・風土改革、産学連携、吉奥馬科技無錫持分譲渡の各エントリに追記を実施した。さらに同書類に記載されたISO14001環境マネジメントシステム構築方針と、研究開発の主要課題（半導体・電子部品向けおよびその他向け）を新規能力構築エントリとして追加する。

- + ISO14001環境マネジメント
- + ファンアウト用微細回路形成材料
- + 金属抵抗式ひずみゲージ形成
- + 弾性波デバイス音響多層膜
- + MEMS圧電薄膜
- + GaNテンプレートウエハー
- + 貫通ビア成膜技術
- + g.moth生産技術確立
- + g.moth応用製品開発
- + g.slip高滑落性材料開発
- + g.black無反射黒色シート開発
- + プラズマプロセス技術開発
- + 超撥水膜親水膜開発

## 会社自身の言葉

### 製品・技術テーマ（薄膜加工/材料/プロセス）

- 「主要製品名として g.moth®、g.slip®、g.black™ などのナノ構造体製品・高滑落性機能材料・無反射黒色シート等が挙げられる。」 — 主要製品として挙げられるナノ構造体・材料・シート類
- 「ディスプレイ向け薄膜製品（車載向け帯電防止膜、カバーパネル用反射防止・防汚膜 等）」 — ディスプレイ向け薄膜製品の例（帯電防止膜、反射防止・防汚膜など）
- 「⑦ g.moth® などのナノ構造体の生産技術確立」 — ナノ構造体（g.moth®等）の生産技術確立
- 「① ファンアウト・パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発」 — ファンアウト/パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発
- 「⑤ パワーデバイス用 GaN テンプレートウエハーの開発」 — パワーデバイス用GaNテンプレートウエハーの開発
- 「g.black™ などの無反射黒色シートの開発」 — 無反射黒色シート（g.black™等）の開発
- 「② 金属抵抗式薄膜ひずみゲージ形成技術の開発」 — 金属抵抗式薄膜ひずみゲージ形成技術の開発
- 「g.slip® などの高滑落性機能材料の開発」 — 高滑落性機能材料（g.slip®等）の開発
- 「⑫ 高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発」 — 高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発
- 「⑥ 貫通ビアへの成膜技術の開発」 — 貫通ビアへの成膜技術の開発
- 「高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発」 — 高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発（重複表現）
- 「⑨ g.slip® などの高滑落性機能材料の開発」 — 高滑落性機能材料（g.slip®等）の開発（重複表現）
- 「MEMSデバイス用圧電薄膜の開発」 — MEMSデバイス用圧電薄膜の開発
- 「③ 弾性波デバイス用音響多層膜の開発」 — 弾性波デバイス用音響多層膜の開発
- 「ファンアウト・パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発」 — ファンアウト/パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発（重複表現）
- 「パワーデバイス用 GaN テンプレートウエハーの開発」 — パワーデバイス用GaNテンプレートウエハーの開発（重複表現）
- 「⑩ g.black™ などの無反射黒色シートの開発」 — 無反射黒色シート（g.black™等）の開発（重複表現）
- 「④ MEMSデバイス用圧電薄膜の開発」 — MEMSデバイス用圧電薄膜の開発（重複表現）
- 「金属抵抗式薄膜ひずみゲージ形成技術の開発」 — 金属抵抗式薄膜ひずみゲージ形成技術の開発（重複表現）
- 「貫通ビアへの成膜技術の開発」 — 貫通ビアへの成膜技術の開発（重複表現）
- 「弾性波デバイス用音響多層膜の開発」 — 弾性波デバイス用音響多層膜の開発（重複表現）
- 「プラズマプロセス技術の開発」 — プラズマプロセス技術の開発
- 「⑪ プラズマプロセス技術の開発」 — プラズマプロセス技術の開発（重複表現）
- 「⑧ g.moth® などのナノ構造体応用の製品開発」 — g.moth®等のナノ構造体応用の製品開発

### 設備投資計画・拠点設備

- 「金成工場 製造設備: 530,750千円、資金調達方法: 借入金、着手: 2026年4月、完了: 2027年3月」 — 金成工場の製造設備投資計画（投資額、借入金、着手/完了時期）
- 「赤穂工場 製造設備: 124,160千円、資金調達方法: 借入金、着手: 2026年4月、完了: 2027年3月」 — 赤穂工場の製造設備投資計画（投資額、借入金、着手/完了時期）
- 「東京工場 製造設備: 143,000千円、資金調達方法: 借入金、着手: 2026年6月、完了: 2027年1月」 — 東京工場の製造設備投資計画（投資額、借入金、着手/完了時期）
- 「東京工場: 143,000千円、資金調達方法: 借入金、着手 2026年6月、完了 2027年1月（注記2）」 — 東京工場の製造設備投資計画（注記込みの重複表現）
- 「赤穂工場: 124,160千円、資金調達方法: 借入金、着手: 2026年4月、完了: 2027年3月」 — 赤穂工場の投資計画（投資額、借入金、着手/完了時期）
- 「金成工場（宮城県栗原市）／製造設備」 — 金成工場（宮城県栗原市）の設備
- 「赤穂工場（兵庫県赤穂市）／製造設備」 — 赤穂工場（兵庫県赤穂市）の設備

### 経営方針・ガバナンス/リスク管理/体制

- 「コーポレート・ガバナンスは「監査等委員会設置会社制度」を採用」 — 監査等委員会設置会社制度を採用している旨
- 「経営会議、内部監査室、コンプライアンス委員会を設置」 — 経営会議・内部監査室・コンプライアンス委員会の設置
- 「対処すべき課題に従い、原価低減・価格戦略の見直し・生産性向上を進め、デジタル基盤の強化と財務基盤の安定化を図っている。」 — 課題対応として原価低減・価格戦略見直し・生産性向上、デジタル基盤強化等を図る内容
- 「薄膜技術と生産技術を組み合わせた提案を強化し、顧客の利便性を高めることで事業拡大と収益性の向上を目指す。」 — 薄膜技術×生産技術の提案強化で利便性向上を目指す方針
- 「地政学リスクの長期化・中東情勢の急速な緊迫化による資源価格上昇・物流停滞の懸念、米国通商政策の不確実性、物価上昇などが事業環境に影響。」 — 地政学リスク等の外部環境要因が事業環境に影響する旨
- 「資金調達方法: 借入金」 — 資金調達方法として借入金を用いる旨
- 「新規事業に伴う投資コストの回収期間、減損リスク、災害リスク（地震等）等、さまざまな外部要因が存在。」 — 新規事業に伴う回収期間、減損リスク、災害リスク等の存在
- 「薄膜技術・生産技術の統合的運用」 — 薄膜技術・生産技術の統合的運用
- 「産学連携・共同研究の推進に関する方針」 — 産学連携・共同研究の推進に関する方針

### サステナ/人的資本・顧客/取引先等・その他定量/運用

- 「ISO14001に基づく環境マネジメントシステム（EMS）を構築、温室効果ガスの削減、エネルギー原単位の改善、産業廃棄物の削減、PPA・再エネ購入の検討あり」 — ISO14001に基づくEMSと、温室効果ガス削減やPPA/再エネ検討等
- 「研究開発費総額は223百万円。」 — 研究開発費総額（223百万円）
- 「原材料として希少金属インジウムを使用していることから、原材料価格の変動が影響。」 — 希少金属インジウムの使用により原材料価格変動の影響を受ける旨
- 「人的資本戦略・ダイバーシティ・エンゲージメントの向上、風土改革、組織活性化、教育制度の見直し、教育・評価制度の整備、跨拠点の交流活性化、若手・シニア人材の活躍推進等を含む。」 — 人的資本（ダイバーシティ/エンゲージメント/風土改革/教育・評価等）の諸施策
- 「原材料として希少金属インジウムを使用していることから、原材料価格の変動が影響。エネルギー価格の高騰も生産コストへ影響。」 — インジウム等の原材料価格変動やエネルギー価格高騰がコストへ影響
- 「ISO14001に基づく環境マネジメントシステム（EMS）を構築」 — ISO14001に基づく環境マネジメントシステム（EMS）構築
- 「当事年度の剰余金の配当につき、利益剰余金がマイナスのため無配」 — 配当が無配である旨（利益剰余金マイナスのため）
- 「成膜加工関連部材の売上」 — 成膜加工関連部材の売上
- 「国内景気の回復基調や自動車市場の中国での競争激化など、需要環境の変動が業績へ影響。」 — 需要環境の変動（国内景気回復、競争激化等）が業績に影響
- 「品質管理・安全管理・DX施策などの総称的技術情報」 — 品質管理・安全管理・DX施策等に関する総称的技術情報
- 「2022年8月: 吉奥馬科技（無錫）有限公司の全出資持分を譲渡」 — 吉奥馬科技（無錫）有限公司の全出資持分譲渡（2022年8月）
- 「設計・開発初期段階における試作・単品対応の機能化」 — 設計・開発初期段階での試作・単品対応の機能化
- 「ジャパンディスプレイ株式会社」 — ジャパンディスプレイ株式会社（主要取引先）
- 「シャープディスプレイテクノロジー株式会社」 — シャープディスプレイテクノロジー株式会社（主要取引先）
- 「ミクロ技術研究所株式会社」 — ミクロ技術研究所株式会社（主要取引先）
- 「NTKKスイッチズ株式会社」 — NKKスイッチズ株式会社（主要取引先）

### 重要な経営/計上・資源/提供価値の要約表現

- 「テスト基板向け受注」 — テスト基板向け受注