# ＫＯＫＵＳＡＩ　ＥＬＥＣＴＲＩＣ（6525） FY2025 有価証券報告書

Source: Komori (komori.app) — https://komori.app/company/6525/filing/2025-fy
提出日: 2026-06-25
対象期間: 2025-04-01 〜 2026-03-31
企業ページ: https://komori.app/company/6525
原本（EDINET）: https://disclosure2dl.edinet-fsa.go.jp/searchdocument/pdf/S100YJUA.pdf

## 要点

KOKUSAI ELECTRICは、半導体製造装置事業の状況（売上・利益、研究開発や設備投資）と、サステナビリティやガバナンス（サステナビリティ委員会・指名報酬委員会等）の枠組みを更新して開示しています。あわせて、連結財務諸表では棚卸資産の評価方法（常備在庫品）を見直した影響など、当期に固有の会計上の変更・実績を記載しています。

## 事業

KOKUSAI ELECTRICは、半導体製造装置の開発・製造・販売・保守サービスを主たる事業とする企業グループ。前工程機器（成膜工程）を中心に展開し、ALD・プラズマ系技術を活用した高付加価値装置を世界トップクラスのシェアで提供。2023年3月期の連結売上収益が2019年9月期比約2倍に拡大、先端分野の投資を強化。Applied Materials, Inc.との事業統合を断念後、2023年10月に再上場。資金調達と投資の強化、優秀な人材の確保、経営基盤の強化を図っている。中期目標・DX推進・デモセンター拠点整備を重点施策として掲げる。事業は半導体製造装置事業の単一セグメントで、前工程の成膜装置を中心に展開。

## 数字

- 研究開発費: 183億円
- 設備投資: 169億円
- フリーキャッシュフロー: 318億円
- 従業員数: 2,609人

## 地域別

- 日本 / 売上高 228億円
- 米国 / 売上高 78億円
- 中国 / 売上高 906億円
- 台湾 / 売上高 431億円
- 韓国 / 売上高 576億円
- その他アジア / 売上高 116億円
- 欧州 / 売上高 16億円

## 前回からの変化

### 戦略的賭け

2026-06-25提出書類で既存12件の再言及を追記するとともに、新規に8件（富山事業所の設備拡張、NAND/DRAM向け投資領域拡大、Logic/Foundry・アドバンスドパッケージ継続、Applied Materials統合断念に伴う自立化、次世代プラットフォーム開発、MARORA膜質改善プラットフォーム、輸出管理・規制動向への適応、為替予約を活用したヘッジ方針）を追加する。

- + 富山事業所の設備拡張
- + NAND/DRAM向け投資領域拡大
- + Logic/Foundry向け展開継続
- + Applied Materials統合断念と自立化
- + 次世代プラットフォーム開発
- + MARORA膜質改善プラットフォーム
- + 輸出規制・EAR適応体制の整備
- + 為替予約を活用したヘッジ方針

### 外部エクスポージャー

提出書類（2026-06-25）で、既存の外部エクスポージャーのうち「米中の先端半導体輸出規制強化への対応」「為替変動リスクと為替予約ヘッジ」「データセンター需要拡大」「部材不足とサプライチェーンのボトルネック」「TCFD・ESG対応に伴う規制要件」を再言及し、輸出規制では日本の先端半導体製造装置の輸出規制法令改正（2023年7月23日施行）等の具体が追加された。一方で「米中貿易摩擦・関税政策」のリスクおよび「民生機器・自動車需要の回復遅れ」「労働市場変動・DEI推進に伴う人的資本の外部リスク」を新規に追加した。

- + 米中貿易摩擦と関税政策の影響
- + 民生機器・自動車需要の回復遅れ
- + 労働市場変動とDEI推進

### 技術

2026-06-25提出書類では、成膜領域としてAdvancedAceシリーズ統合成膜技術とMARORA膜質改善プラットフォーム、人材育成を支えるIT/DX基盤が新たに明示された。既存のバッチALD成膜技術や温度制御・自動搬送・真空/ガス置換・冷却などの基盤要素、次世代プラットフォーム（新反応炉・新しい膜形成技術）も再言及されている。また、DX推進（生産管理・顧客管理のシステム統合）、ISO9001/ISO14001、TCFD、SBT/RE100、DEI推進に関する技術・運用要素の再記載が確認できた。

- + MARORA膜質改善プラットフォーム
- + AdvancedAceシリーズ統合成膜技術
- + 人材育成ITDX基盤

### 資本配分

提出書類（2026-06-25）で、既存の設備投資・R&D投資・株主還元・借入関連の記載を更新するとともに、富山事業所の設備拡張、2026年の自己株式取得・消却、為替予約ヘッジ方針、中期経営計画の2026年5月見直し（資本効率目標）を新規追加した。

- + 富山事業所設備拡張
- + 自己株式取得・消却2026年5〜8月
- + 為替予約を活用したヘッジ方針
- + 中期経営計画の2026年5月見直し

### ケイパビリティ構築

2026-06-25提出書類により、既存の人材施策（DEI/経験者採用・研修、在宅勤務）、オープンイノベーション（産学連携・コンソーシアム等）、DX推進、成膜プロセス再編・Hitachi関係解消の沿革、KKR HKE INVESTMENT L.P.の関係会社からの離脱（2025年末）について言及を追記した。さらに、デモセンター拡張、バッチALD/プラズマ膜質改善/新反応炉などの技術強化、輸出管理・規制対応、TCFDに基づく気候開示・サステナビリティ体制、ISO等認証とコンプライアンス教育・通報制度といった新たな能力構築項目を追加した。

- + デモセンターの拡張と評価エリア
- + バッチALD技術の強化
- + プラズマ膜質改善技術の強化
- + 新反応炉による次世代膜形成
- + 輸出管理・規制対応体制の整備
- + TCFD開示と温室効果ガス削減目標
- + ISO認証とコンプライアンス教育・通報制度

### 規制ポジショニング

新提出書類（提出日2026-06-25）では、輸出管理・規制動向への適応（EAR改正等）と、サステナビリティ関連の委員会・TCFD/温室効果ガス削減目標、ISO14001等の認証適用、および指名報酬委員会の運営が再言及された。また、同書類内でISO45001等の安全認証も明示されたため、新規に1件追加した。

- + ISO45001等安全認証の導入

## 会社自身の言葉

### 事業概要・提供内容・関係会社

- 「株式会社国際電気セミコンダクターサービス（富山）: 半導体製造装置事業の物流設備等」 — 富山の子会社（株式会社国際電気セミコンダクターサービス）の事業内容
- 「アフターサービス（部品販売、保守サービス、移設・改造、ウェーハサイズ200mm以下の装置・中古装置販売など）および顧客向け測定検査装置・超音波発振器ユニット等の関連製品」 — アフターサービスおよび関連製品（部品販売、保守、移設・改造、中古販売等）
- 「Kook Je Electric Korea Co., Ltd.（韓国・天安市）: 半導体製造装置事業」 — 韓国子会社の事業（半導体製造装置事業）
- 「科意半導体没備(上海)有限公司（中国・上海市）: 半導体製造装置事業」 — 中国子会社の事業（半導体製造装置事業）
- 「Kokusai Electric Asia Pacific Co., Ltd.（台湾・新竹市）: 半導体製造装置事業」 — 台湾子会社の事業（半導体製造装置事業）
- 「Kokusai Semiconductor Equipment Corporation（米国・デラウェア州）: 半導体製造装置事業」 — 米国子会社の事業（半導体製造装置事業）
- 「EAR改正（2023年3月期）に伴う中国先端半導体製造装置の輸出規制」 — 輸出規制（EAR改正に伴う中国向け輸出規制）
- 「Kokusai Semiconductor Europe GmbH（ドイツ・エアクラウト）: 半導体製造装置事業」 — ドイツ子会社の事業（半導体製造装置事業）
- 「Kokusai Semiconductor Singapore Pte. Ltd.（シンガポール）: 半導体製造装置事業」 — シンガポール子会社の事業（半導体製造装置事業）
- 「2018年6月: 日立国際電気の成膜プロセス事業をHKEホールディングスへ承継、KOKUSAI ELECTRICへ商号変更
- 2020年2月: 日立国際電気株式をHVJホールディングスへ売却、日立国際電気を非子会社化」 — 沿革（成膜プロセス事業の承継とKOKUSAI ELECTRICへの商号変更、日立国際電気の非子会社化）
- 「為替リスク（特に海外売上比率が高い）とヘッジ戦略」 — 為替リスクへのヘッジ戦略（為替予約活用）
- 「KOKUSAI ELECTRICは、半導体製造装置の開発・製造・販売・保守サービスを主たる事業とする企業グループである。」 — 当社グループの主たる事業内容（半導体製造装置の開発・製造・販売・保守サービス）

### 技術・製品・研究開発（成膜/トリートメント、プラットフォーム、品質/環境対応）

- 「高度温度制御技術・自動搬送技術・真空・ガス置換技術・冷却技術・成膜技術の統合によるAdvancedAceシリーズ」 — AdvancedAceシリーズの中核技術統合（高度温度制御・自動搬送・真空/ガス置換・冷却等）
- 「バッチALD技術（高難易度成膜と高生産性を両立する中核技術）」 — バッチALD技術（高難易度成膜と高生産性の両立）
- 「次世代プラットフォームの開発（新反応炉・新しい膜形成技術）」 — 次世代プラットフォーム開発（新反応炉・新しい膜形成技術）
- 「ALD（Advanced ALD）を中心とする高難易度成膜技術と、Plasmaトリートメントの膜質改善技術の強化」 — 成膜技術（ALD中心）とプラズマトリートメントによる膜質改善の強化
- 「枚葉プラズマトリートメント装置（MARORA®）: 膜質改善・低温下での膜質維持対応」 — MARORA®（枚葉プラズマトリートメント）による膜質改善・低温下維持
- 「バッチ成膜装置（AdvancedAceシリーズ、TSURUGI 剱シリーズ等）: バッチALD対応も含む高生産性成膜装置」 — バッチ成膜装置（AdvancedAce/TSURUGI等）とバッチALD対応
- 「2025年度の研究開発費は18,258百万円」 — 研究開発費（2025年度の研究開発費）
- 「枚葉プラズマトリートメント装置の膜質改善プラットフォーム（MARORA等）」 — 枚葉プラズマトリートメント装置の膜質改善プラットフォーム（MARORA等）
- 「品質管理・環境管理の技術（ISO9001/ISO14001の適用・SBT/RE100対応などの環境技術関連）」 — 品質/環境管理に関する技術要素（ISO9001/ISO14001、SBT/RE100等）
- 「産学連携・外部機関との共同研究の推進
- サステナビリティ推進（マテリアリティ、ESG施策）の推進体制」 — 産学連携・外部機関との共同研究の推進、およびサステナビリティ推進体制
- 「バッチALD技術と組み合わせた新反応炉を採用した装置群（AdvancedAce・TSURUGI 剱シリーズの新機能）」 — 新反応炉を採用した装置群（AdvancedAce・TSURUGIシリーズの新機能）

### 拠点・設備投資・デモセンター（国内拠点/海外デモ）

- 「重点施策としての拠点・デモセンター関連:
  - 韓国生産拠点のデモ評価エリアの拡張
  - 横浜テクノロジーセンターの設置
  - 米国デモセンターの新設予定（2027年1月操業予定）」 — デモセンター関連の重点施策（韓国デモ評価エリア拡張、横浜テクノロジーセンター、米国デモ新設予定）
- 「富山事業所: 9,817百万円、着手2023年11月、完了2027年3月」 — 富山事業所の設備計画（投資額・着手/完了予定）
- 「2024年11月着手の米国デモセンター建設（運用開始予定は2027年1月）」 — 米国デモセンター建設（着手/運用開始予定）
- 「砺波事業所: 1,000百万円、着手2026年2月、完了2026年9月」 — 砺波事業所の設備計画（投資額・着手/完了予定）
- 「横浜テクノロジーセンタの設置」 — 横浜テクノロジーセンターの設置
- 「韓国生産拠点のデモ評価エリアの拡張」 — 韓国生産拠点のデモ評価エリア拡張
- 「富山事業所（富山県富山市）: バッチ成膜装置・枚葉プラズマトリートメント装置用生産設備」 — 富山事業所（富山県富山市）の生産設備
- 「着手・完了予定: 2023年11月着手 → 2027年3月完了予定（砺波事業所の土地含む別案件あり）」 — 設備投資の着手/完了予定（砺波事業所の土地含む別案件あり）
- 「砺波事業所（富山県砺波市）: 同種用途の生産設備」 — 砺波事業所（同種用途）の生産設備

### 経営戦略・DX・資本政策・配当・資金/ヘッジ

- 「自己株式取得決議: 1,500,000株、取得価額総額53億円、期間2026/5/14〜2026/7/31
自己株式消却日: 2026/8/31予定」 — 自己株式取得の決議内容（取得株数・取得価額上限・取得期間、消却予定日）
- 「グループ運営モデルの刷新による経営効率化の推進
- 生産管理・顧客管理等のシステム統合を含むDX推進」 — グループ運営モデル刷新による経営効率化とDX推進（生産/顧客管理のシステム統合等）
- 「Applied Materials, Inc.との事業統合断念に伴う戦略的自立化」 — Applied Materials, Inc.との事業統合断念に伴う戦略的自立化
- 「2026年5月13日決議: 配当金総額4,438百万円、1株あたり配当額19円（基準日2026/3/31、効力日2026/6/29）」 — 配当金（2026年5月13日決議、配当総額/1株当たり、基準日と効力日）
- 「先端デバイス開発スピードへの対応を目的として、NAND/DRAM向け設備投資の領域拡大」 — 先端デバイス向け投資領域の拡大（NAND/DRAM向け設備投資の領域拡大）
- 「生産管理・顧客管理等のシステム統合を含むDX推進」 — DX推進（生産管理・顧客管理等のシステム統合）
- 「市場環境の変化を踏まえ、2026年5月に見直し
目標期間は2029年3月期まで」 — 中期目標・計画の見直し（2026年5月見直し、目標期間は2029年3月期まで）
- 「2023年10月の再上場に至る資本政策・人材獲得・経営基盤強化」 — 2023年10月の再上場に至る資本政策・人材獲得・経営基盤強化
- 「為替予約を活用したヘッジ戦略」 — 為替予約を活用したヘッジ戦略
- 「サービスビジネスの拡大」 — サービスビジネスの拡大
- 「為替予約を活用したヘッジ方針」 — 為替予約を活用したヘッジ方針
- 「借入金: 総額60,000百万円（2026年3月末残高は48,000百万円）」 — 借入金（総額/残高の記載）
- 「借入枠: コミットメントライン30,000百万円」 — 借入枠（コミットメントライン）

### 人材・ガバナンス・ESG/TCFD・リスク・規制対応

- 「米国EAR改正・中国への輸出規制・日本の先端半導体規制の法整備など、輸出管理・規制動向への適応」 — 輸出管理・規制動向への適応（EAR改正・日本の先端半導体規制等）
- 「TCFD賛同（2021年8月）、気候関連財務情報の開示と温室効果ガス排出量の削減目標（1.5°Cに抑える）を設定
- 2023年度以降、TCFDの4基礎項目（ガバナンス/戦略/リスク管理/指標と目標）に基づく情報開示を実施
- 温室効果ガス排出量削減・RE100の取り組み」 — TCFD賛同、気候関連情報開示、温室効果ガス排出削減目標（1.5℃）
- 「米中貿易摩擦・関税政策・輸出規制の影響リスク」 — 米中貿易摩擦・関税政策・輸出規制の影響リスク
- 「TCFD賛同（2021年8月）、気候関連財務情報の開示と温室効果ガス排出量の削減目標（1.5°Cに抑える）を設定
- 2023年度以降、TCFDの4基礎項目（ガバナンス/戦略/リスク管理/指標と目標）に基づく情報開示を実施」 — TCFDの4基礎項目に基づく情報開示の実施
- 「TCFD賛同（2021年8月）、気候関連財務情報の開示と温室効果ガス排出量の削減目標（1.5°Cに抑える）を設定」 — TCFD賛同、気候関連情報開示、温室効果ガス排出削減目標（1.5℃）
- 「DEI推進を含む人材戦略の強化
- 国内外での経験者採用を積極推進
- 入社後の研修・振り返り研修、リーダーシップ開発とアップスキルの拡充」 — DEI推進を含む人材戦略の強化（経験者採用、研修、リーダーシップ/アップスキル等）
- 「米国EAR改正・中国への輸出規制・日本の先端半導体規制の法整備など、輸出管理・規制動向への適応
- 規制動向の監視と適切な対応体制の整備」 — 輸出管理・規制動向への適応（規制動向の監視と対応体制整備）
- 「AI関連需要の拡大によるデータセンター投資・先端デバイス投資の高水準推移」 — AI関連需要の拡大によるデータセンター投資・先端デバイス投資の高水準推移
- 「2025年末時点でKKR HKE INVESTMENT L.P.は関係会社から外れている」 — KKR HKE INVESTMENT L.P.が関係会社から外れている状況
- 「ISO14001、ISO45001等の環境・安全認証」 — ISO14001、ISO45001等の環境・安全認証
- 「ISO14001、ISO45001等の環境・安全認証、コンプライアンス教育・通報制度の導入」 — 環境・安全認証に加え、コンプライアンス教育・通報制度の導入
- 「在宅勤務制度の導入とワークライフバランス推進」 — 在宅勤務制度の導入とワークライフバランス推進
- 「DEI推進を含む人材戦略の強化」 — DEI推進を含む人材戦略の強化（人的資本施策の継続）
- 「監査等委員会・指名報酬委員会・経営会議・サステナビリティ委員会の設置・運用、内部統制の整備」 — 各種委員会・会議体の設置/運用、内部統制の整備
- 「原材料・サプライチェーンの混乱、資材価格動向」 — 原材料・サプライチェーンの混乱や資材価格動向
- 「ガバナンス体制: 取締役10名（うち社外取締役6名）、監査等委員会4名、執行役員制度、社長執行役員の統括」 — ガバナンス体制（取締役/監査等委員会/執行役員制度/社長の統括）
- 「民生機器・自動車・産業機器需要の回復は緩やか」 — 民生機器・自動車・産業機器需要の回復は緩やか
- 「労働市場の変動・DEI推進など人的資本関連の外部リスクと機会」 — 人的資本に関する外部リスク/機会（労働市場の変動、DEI推進等）
- 「温室効果ガス排出量の削減目標（1.5°Cに抑える）を設定」 — 温室効果ガス排出量の削減目標（1.5℃に抑える）