# サムコ（6387） FY2025 有価証券報告書

Source: Komori (komori.app) — https://komori.app/company/6387/filing/2025-fy
提出日: 2026-10-22
対象期間: 2025-08-01 〜 2026-07-31
企業ページ: https://komori.app/company/6387
原本（EDINET）: https://disclosure2dl.edinet-fsa.go.jp/searchdocument/pdf/S100Z9F4.pdf

## 要点

AIデータセンター関連需要の拡大などを背景に売上高・利益が増加し、海外売上高比率は59.8％となりました。併せて先端技術開発棟や第二生産技術棟などの設備投資・研究開発の強化を進めることを含む、事業運営・ガバナンスやサステナビリティの取組を更新しています。

## 事業

サムコは、薄膜形成・加工装置の製造及び販売を主軸とする半導体関連装置メーカー。製品区分はＣＶＤ装置、エッチング装置、洗浄装置、部品・メンテナンス等。中期経営計画は第47期～第49期（2025年8月1日～2028年7月31日）を設定。温室効果ガス排出削減、グリーン調達、環境負荷低減型製品開発等のサステナビリティ推進を開示。

## 数字

- 研究開発費: 4億円
- 設備投資: 3億円
- フリーキャッシュフロー: 37億円
- 従業員数: 201人

## セグメント

- ＣＶＤ装置 / 売上高 14億円
- エッチング装置 / 売上高 70億円
- 洗浄装置 / 売上高 8億円
- 部品・メンテナンス / 売上高 15億円

## 地域別

- 日本 / 売上高 44億円
- 台湾
- 中国
- 韓国
- 米国 / 売上高 14億円
- アジア太平洋
- 欧州
- 北米
- その他

## 前回からの変化

### サプライチェーン

本提出書類で、主要部品サプライヤー（アドテックプラズマテクノロジー、内外テック、堀場エステック、新光電気工業、因幡電機産業）と保守委託先（莎姆克股份有限公司）、国内拠点（本社工場、先端技術開発棟、先端/生産系棟を含む記載）および海外販売の地域別実績（北米・台湾・中国・韓国・欧州・東南アジア・インド）への言及が増えたため、該当エントリに追記を行い、新規に「先端技術開発棟」および「因幡電機産業」を追加した。

- + 因幡電機産業
- + 先端技術開発棟

### 戦略的賭け

本提出書類（2026-10-22）では、既存の戦略的取り組み（先端技術開発棟、第二生産技術棟、海外販売拡大、Aqua Plasma洗浄装置、ALD、デモルーム運用、Optfilmsとの共同研究、ESG委員会、女性活躍推進）が再言及・補足されました。また、新規に「新本社兼生産工場の建設」が投資計画として明示されたため、新規エントリを追加しました。

- + 新本社兼生産工場の建設

### 外部エクスポージャー

提出書類において、既存の「ウクライナ情勢と中東不安定性」「為替変動リスクと為替ヘッジ」「海外法令・認証対応とコンプライアンス強化」に再言及がありました。あわせて、外部要因として「データセンター・AI需要拡大に伴う薄膜形成装置需要」および「気候変動・環境規制等のサステナビリティ関連リスク」が新たに明示されたため、新規エントリを追加しました。

- + データセンター・AI需要拡大
- + 気候変動と環境規制リスク

### 技術

本提出書類で既存の中核薄膜技術（LS-CVD、ALD、トルネードICP、アクアプラズマ等）と品質・安全管理、DX/データ活用、環境・省エネ関連の記載が再登場した。さらにRIE装置群、デモルーム活用の装置開発・デモ実験、先端薄膜開発センター関連技術が技術群として明示されたため新規追加した。

- + RIE装置群（RIE-600/760/800）
- + デモルーム活用の装置開発
- + 先端薄膜開発センター関連技術

### 資本配分

提出書類（2026-10-22）で、第二生産技術棟の新規投資計画（35百万円）が新たに追加されたほか、先端技術開発棟の配管工事を含む投資内容、新本社兼生産工場の継続投資、研究開発投資、配当（第47期予定75円）、自己株式取得（2025年度106千株）、samco-ucp AGの関係会社情報、長期借入金残高について追記・再言及があった。

- + 第二生産技術棟の建設投資

### ケイパビリティ構築

本書類（2026-10-22提出）で、既存の能力構築項目4件（米国オプトフィルムス共同研究、産学連携・オープンイノベーション、女性活躍推進計画、ESG委員会運用）が再言及・具体化された。また、第二生産技術棟/新本社兼生産工場/先端技術開発棟、ALD・Aqua Plasma・トルネードICP、デモルーム活用、莎姆克股份有限公司への保守委託、リスキリングとグローバル人材育成方針の各能力構築を新規追加する。

- + 第二生産技術棟建設投資
- + 新本社兼生産工場建設計画
- + 先端技術開発棟の竣工活用
- + ALD原子層堆積装置の開発販売
- + Aqua Plasma洗浄装置の開発販売
- + トルネードICPエッチング技術
- + デモルーム活用による装置開発
- + 莎姆克股份有限公司保守委託体制
- + リスキリングとグローバル人材育成

### 規制ポジショニング

本提出書類（2026-10-22）で、既存のガバナンス・ESG関連正準エントリに再言及があったため update_entry を実施。あわせて「執行役員制度の導入」「会計監査人（有限責任 あずさ監査法人）の選任」という新規の規制・構造的ポジショニングが明示されたため add_entry を追加した。Scope3について実測値報告が明示されたため、温室効果ガス開示のエントリへ change_event 追記も行った。

- + 執行役員制度の導入
- + 有限責任 あずさ監査法人の選任

## 会社自身の言葉

### 設備投資・生産拠点（建屋/投資計画/委託先/設備関連）

- 「第二生産技術棟（京都市伏見区）建物附属設備等投資額: 35百万円、資金調達: 自己資金、着手2026年12月、完了予定2027年7月」 — 第二生産技術棟の建物附属設備等への投資計画（35百万円、自己資金、着手2026年12月、完了予定2027年7月）
- 「新本社兼生産工場（京都市伏見区）建物・土地: 総額 1,501百万円、資金調達: 自己資金及び借入金、着手: 2021年3月、完了予定: 2029年7月」 — 新本社兼生産工場の投資（総額1,501百万円、自己資金・借入金、着手2021年3月、完了予定2029年7月）
- 「本社工場（京都市伏見区）:」 — 本社工場（所在地・概要）
- 「第二生産技術棟: 投資額35百万円、着手2026年12月」 — 第二生産技術棟の投資（35百万円、着手2026年12月）
- 「台湾の現地法人「莎姆克股份有限公司」へ委託」 — 台湾の現地法人「莎姆克股份有限公司」への保守サービス業務委託
- 「第二生産技術棟の建設・空調設備等の投資（総額 35百万円、着手2026年12月、完了予定2027年7月）」 — 第二生産技術棟の建設・空調等投資計画（総額35百万円、着手2026年12月、完了予定2027年7月）
- 「保守サービス業務は台湾の現地法人「莎姆克股份有限公司」へ委託している旨の記載があります。」 — 保守サービスを台湾の「莎姆克股份有限公司」へ委託している旨
- 「第二生産技術棟: 投資額35百万円、資金調達=自己資金、着手2026年12月、完了予定2027年7月」 — 第二生産技術棟の投資計画（35百万円、自己資金、着手2026年12月、完了予定2027年7月）
- 「先端技術開発棟の竣工（2025年9月）により装置開発の活性化を推進。」 — 先端技術開発棟（2025年9月竣工）により装置開発を活性化
- 「新本社兼生産工場: 投資総額1,501百万円、自己資金及び借入金、着手2021年3月、完了予定2029年7月」 — 新本社兼生産工場の投資（1,501百万円、自己資金・借入金、着手2021年3月、完了予定2029年7月）
- 「新本社兼生産工場: 投資総額1,501百万円、着手2021年3月」 — 新本社兼生産工場の投資総額・着手（1,501百万円、着手2021年3月）
- 「自社株買い: 取得実績 106千株（2025年度）、106千株の自己株式取得」 — 自己株式取得（取得実績106千株、2025年度）
- 「本社工場（生産技術研究棟、製品サービスセンター」 — 本社工場に含まれる施設（生産技術研究棟、製品サービスセンター等）
- 「先端技術開発棟の建設・配管工事等の投資の一部として 134百万円が計上」 — 先端技術開発棟の建設・配管工事等の一部投資（134百万円）
- 「本社工場（生産技術研究棟、製品サービスセンター、本社拡充用地、田中宮用地、第二生産技術棟を含む）」 — 本社工場（生産技術研究棟、製品サービスセンター等を含む範囲）

### コア技術・製品（薄膜形成/加工/洗浄と研究開発の具体）

- 「RIE（Reactive Ion Etching）関連技術（RIE-600/760/800等）およびRIE装置群」 — RIE関連技術およびRIE装置群
- 「薄膜形成・加工技術全般」 — 薄膜形成・加工技術全般に関する記載
- 「トルネードICP（Inductively Coupled Plasma）を用いたエッチング装置」 — トルネードICPを用いたエッチング装置
- 「LS-CVD（液体源CVD）方式」 — LS-CVD（液体源CVD）の方式と特徴
- 「ALD（原子層堆積装置）開発・販売」 — ALD（原子層堆積装置）の開発・販売
- 「先端技術開発棟（研究開発センター等を含む）」 — 先端技術開発棟（研究開発センター等を含む）
- 「デモルームを活用した装置開発とデモ実験」 — デモルームを活用した装置開発とデモ実験
- 「先端薄膜開発センター（ナノ薄膜開発センター）関連技術」 — 先端薄膜開発センター（ナノ薄膜開発センター）関連技術
- 「Aqua Plasma（H2O蒸気を用いたプラズマ洗浄装置）開発・販売」 — Aqua Plasma（H2O蒸気を用いたプラズマ洗浄装置）の開発・販売
- 「ＣＶＤ装置  
  - 説明: 薄膜形成を行う装置。LS-CVD（液体源化学気相成長）方式を採用、引火爆発性ガスを使用せず液体原料を用いる安全性・均一性・低温成膜を実現。ALD（ Atomic Layer Deposition）もCV記載内で実施。用途は化合物半導体分野・電子部品分野等」 — CV D装置：薄膜形成（LS-CVD）と安全性・均一性等、用途やALDの位置づけ
- 「ALD（原子層堆積装置）の開発・販売を進め、デモ実験等の活用を拡大。」 — ALDを中心にデモ実験等を活用して開発を進める趣旨
- 「エッチング装置  
  - 説明: 薄膜材料をドライ加工する装置。トルネードICPを活用する高密度プラズマによる高精度加工」 — エッチング装置：トルネードICPによる高密度プラズマ加工
- 「洗浄装置  
  - 説明: ドライ洗浄装置、Aqua Plasma洗浄装置（H2O蒸気を用いたプラズマ処理）など」 — 洗浄装置：ドライ洗浄やAqua Plasma洗浄装置など
- 「品質管理・環境管理・安全管理等の組織的取り組み（DX、品質保証、環境対応等）」 — 品質管理・環境管理・安全管理などの組織的取組（DX/品質保証/環境対応等）
- 「研究開発投資: 378,243千円 → 378,243,000円」 — 研究開発投資（378,243千円→378,243,000円の記載）
- 「重点領域: 薄膜形成・加工装置の改良、新製品の開発、デモ実験、デモルームの活用、共同研究（米国Optfilms研究所等）」 — 重点領域（薄膜形成・加工装置の改良、新製品開発、デモ実験/デモルーム、共同研究等）
- 「デモ実験、デモルームの活用」 — デモ実験・デモルームの活用
- 「共同研究（米国Optfilms研究所等）」 — 共同研究（米国Optfilms研究所等）

### サステナビリティ・気候/開示・人的資本（ESG/TCFD/女性活躍/育成）

- 「ESG委員会を2022年8月に設置。気候変動対応、環境負荷低減、リスク・機会の検討を実施」 — ESG委員会の設置と気候変動対応・環境負荷低減・リスク/機会検討
- 「気候関連財務情報開示（TCFD）準拠、Scope3排出量の実測値報告等」 — TCFD準拠の気候関連財務情報開示やScope3排出量の実測値報告
- 「目標: 採用した労働者に占める女性労働者の割合を30％以上とする」 — 女性労働者比率の目標（採用した労働者に占める女性割合30％以上）
- 「グリーン調達・省エネ設計の推進」 — グリーン調達・省エネ設計の推進
- 「育成方針: 学ぶ・勇気・創造・勤勉を重視、リスキリングを推進、海外経験機会の拡充、グローバル人材育成」 — 育成方針（学ぶ・勇気・創造・勤勉、リスキリング、海外経験等）
- 「女性の採用比率目標: 採用した労働者に占める女性労働者の割合を30％以上とする」 — 女性の採用比率目標（女性労働者割合30％以上）
- 「直販体制の強化と代理店経由の販売」 — 直販体制の強化と代理店経由販売
- 「気候変動、環境規制等のサステナビリティ関連リスク。ESG委員会の活動による対応強化、温室効果ガス排出削減等の取り組みを実施。」 — サステナビリティ関連リスク（気候変動・環境規制等）とESG委員会による対応強化

### ガバナンス・財務・リスク・取引/販売・地域・監査

- 「アドテックプラズマテクノロジー」 — アドテックプラズマテクノロジー
- 「代理店経由の販売を組み合わせて市場へ到達」 — 代理店経由の販売を組み合わせて市場へ到達
- 「第47期の定時株主総会での決議予定: 75円」 — 第47期定時株主総会での決議予定（1株当たり75円）
- 「執行役員制度を導入（2026年10月22日現在、10名の執行役員、2026年10月27日以降の人事異動予定あり）」 — 執行役員制度（現員10名、2026/10/27以降の予定あり）
- 「内外テック（株）」 — 内外テック（株）
- 「新光電気工業（株）」 — 新光電気工業（株）
- 「堀場エステック（株）」 — 堀場エステック（株）
- 「会計監査人は有限責任 あずさ監査法人を選任」 — 会計監査人として有限責任 あずさ監査法人を選任
- 「海外取引の通貨は日本円建（アジア）・米ドル建（欧米）を基本とする。今後の海外取引拡大により、米ドル建取引比率が増加する可能性。為替変動リスクをヘッジ手段で対応。」 — 海外取引の通貨方針（アジアは円建、欧米は米ドル建）と為替変動リスク・ヘッジ
- 「因幡電機産業（株）」 — 因幡電機産業（株）
- 「海外売上高比率: 59.8%」 — 海外売上高比率（59.8%）
- 「中国: 2,771,660千円」 — 中国の売上高（2,771,660千円）
- 「台湾: 717,317千円」 — 台湾の売上高（717,317千円）
- 「取締役会は月1回開催、監査役が参加」 — 取締役会（月1回開催）と監査役の参加
- 「米国: 1,435,488千円」 — 米国の売上高（1,435,488千円）
- 「samco-ucp AG（リヒテンシュタイン公国、資本金1,550千円、直接100.00%出資、製造業、当社の関係会社株式25,207千円）」 — samco-ucp AGの概要（出資・事業・関係会社株式）
- 「韓国: 463,604千円」 — 韓国の売上高（463,604千円）
- 「内部統制委員会を設置」 — 内部統制委員会の設置
- 「長期借入金: 23,351千円（1年以内に返済予定のものを除く）」 — 長期借入金（23,351千円、1年以内返済分を除く）
- 「監査役会は3名（社外2名を含む）で構成」 — 監査役会の構成（3名、社外2名を含む）
- 「中東情勢の緊迫化による世界経済の下押しリスクを認識。海外市場での規制、政情の変化による影響、地政学的要因を勘案。」 — 中東情勢の緊迫化等に伴う世界経済の下押しリスクを認識
- 「データセンター向けの需要拡大、AI関連の設備投資需要の拡大等が、薄膜形成装置の需要を押し上げる要因。一方、市場の需給バランス悪化による受注の減少リスクも記載。」 — データセンター需要拡大/AI関連投資が薄膜形成装置需要を押し上げる一方、需給悪化による受注減リスク
- 「部品・メンテナンス  
  - 説明: 部品、保守メンテナンス等の売上」 — 部品・メンテナンス（部品・保守メンテナンス等の売上）
- 「欧州: 220,384千円」 — 欧州の売上高（220,384千円）
- 「東南アジア・インド: 572,743千円」 — 東南アジア・インドの売上高（572,743千円）