# 東京応化工業（4186） UVナノインプリントを用いたシリコンフォトニクス半導体プロセスを開発

Source: Komori (komori.app) — https://komori.app/company/4186/disclosure/20250128556585
種別: その他開示
開示日: 2025-01-29
Komoriの読み（0-100）: 68
企業ページ: https://komori.app/company/4186

## 何が変わったか

東京科学大学と東京応化工業が、UVナノインプリントを使ってシリコンフォトニクスの光回路を作る新しい材料と製造工程を開発し、実用化に必要な性能を確認した。開発した樹脂サンプルとプロセスレシピは外部提供できる。

## 会社が挙げた理由

シリコンフォトニクス分野では、NILの大面積転写性と高スループット性を活用でき、コスト面でも優位性があると考えられるため。また、光電融合を見据えたシリコンフォトニクス分野の拡大に貢献できると説明している。

## 開示の要点

- 対象製品・サービス名: シリコンフォトニクスプロセス、シリコンフォトニクスプロセスに適した光硬化性樹脂、開発したシリコンフォトニクスのプロセスレシピ、SmartNIL®技術
- 相手先: 東京科学大学、東京応化工業株式会社、EV Group社
- 相手先の概要: 東京科学大学は大学。東京応化工業株式会社は共同研究者として記載。EV Group社は半導体装置メーカー。所在地・代表者・資本金・設立年は東京応化工業株式会社およびEV Group社について記載なし。
- 当社との関係: 東京科学大学と東京応化工業株式会社が共同研究を実施。東京科学大学内の東京応化工業未来創造協働研究拠点で研究を行った。開発樹脂は東京応化工業株式会社から、プロセスレシピは東京科学大学から外部提供可能。EV Group社はSmartNIL®技術およびEVG NIL UV/AS5の提供元として記載。
- 契約金額: not_disclosed
- 提供価格: not_disclosed
- 契約締結日: not_disclosed
- 提供開始日: 2025年1月25～30日にSPIE Photonics Westで研究成果を報告（予定・開催期間として記載）。樹脂サンプルおよびプロセスレシピは外部提供可能だが、提供開始日はnot_disclosed。
- 適用分野: シリコンフォトニクス、集積フォトニクス、光回路、DFBレーザーの回折格子形成、グレーティングカプラ形成、データセンター、データ伝送、光電融合
- 受賞名・認証名: 東京工業大学「東工大の星」特別賞（STAR）
- 授与・認証機関: 東京工業大学
- 登録番号・有効期限: not_disclosed
- 拠点所在地: 東京科学大学内（詳細住所はnot_disclosed）
- 拠点の規模: not_disclosed
- 定量的な効果: 波長1,550 nmのTEモード光に対する伝搬損失は1.6 dB/cm程度。膜厚20 nm以下の残膜制御が可能。UV-NILによる導波路は90 nm CMOSプロセスラインおよび電子線描画による導波路と同程度の性能。
- 利用実績: UV-NILはARグラスやDNAシーケンサーなどの実用的な量産技術として導入実績があると記載。ただし本開発プロセスの導入社数・利用件数はnot_disclosed。
- 業績への影響: 売上・利益への具体的な影響は記載なし。将来的な産業応用や標準プロセスラインへの導入が期待されると記載。
- 出典: SPIE Photonics West 2025、Silicon Photonics XX 13371-42 (2025)

## 評価の根拠

- この発表が扱う事柄は、どの段階にあるか。: 実施済み（原文: 「「UV ナノインプリント（UV-NIL）を用いたシリコンフォトニクスプロセスを開発しました」「十分な性能を持つ光回路が形成可能であることを示しています」」）
- 契約の締結や機関決定について、どこまで書かれているか。: 合意の記載なし（原文: 「「東京科学大学…と東京応化工業株式会社…と共同で」」）
- 開始日・発売日・稼働日など、この事柄が効力を持つ時期はどこまで具体的に示されているか。: 年月まで（原文: 「「2025 年 1 月 25～30 日…『SPIE Photonics West』にて報告されます」」）
- この発表は初出か、既に発表済みの取り組みの続報か、繰り返される事柄の今回分か。: 初出（原文: 「表題「UV ナノインプリントを用いたシリコンフォトニクス半導体プロセスを開発」」）
- 発表は、対象の事柄が起きる前か、同日か、起きた後か。: 事後の報告（原文: 「「開発したプロセスを用いて作製したシリコン導波路では…性能を得ることに成功しました」」）
- 会社はこの内容をどれだけ断定的に書いているか。: 概ね断定的（原文: 「「成功しました」「優位性があると考えられます」「導入も期待されます」」）
- 相手先はどのような主体として示されているか。: 官公庁・公的機関（原文: 「「東京科学大学 工学院 電気電子系」」）
- 相手先は、この発表においてどの役割か。: 共同で行う相手（原文: 「「東京科学大学…と東京応化工業株式会社…と共同で」」）
- 相手先の所在地・資本金・事業内容など、会社概要が記載されているか。: あり（原文: 「「東京科学大学（Science Tokyo）工学院 電気電子系」「半導体装置メーカーである EV Group 社」」）
- 提供先・導入先・受注先の実名が示されているか。: なし（原文: 「「各ファウンドリの標準プロセスラインへのNIL導入も期待されます」」）
- この発表に付いている数値のうち、最も具体的なものはどれか。: 効果の実測値（原文: 「「伝搬損失は 1.6 dB/cm 程度」「膜厚 20 nm 以下」」）
- 示された数値は、どういう性質の数か。: 時点の値（原文: 「「伝搬特性を評価した結果」」）
- 書かれている主要な事実を、社外の資料で確かめる手段があるか。: 第三者の名称あり（原文: 「「SPIE Photonics West 2025, Silicon Photonics XX 13371-42 (2025)」」）
- 主要な主張に、検証できる数値と時期がついているか。: 数値と時期あり（原文: 「「2025 年 1 月 29 日」「2025 年 1 月 25～30 日」「1.6 dB/cm 程度」「20 nm 以下」」）
- 会社はこの件を、将来の収益にどう結びつけているか。: 収益の柱と位置づけ（原文: 「「シリコンフォトニクス分野拡大に貢献できると考えられます」」）
- 業績への影響について、どう書かれているか。: 業績に触れず（原文: 「業績への影響、売上、利益に関する記載なし」）
- この発表が扱っている事柄の種類はどれか。: 収益に直結（原文: 「「開発したナノインプリント用の光硬化性樹脂」「サンプル品として外部に提供可能」「プロセスレシピ…外部に提供可能」」）
- この事柄はどこまでの広がりを持つと書かれているか。: 一事業・一セグメント（原文: 「「集積フォトニクス分野」「シリコンフォトニクス分野」」）
- 会社の製品・サービスにとって、これはどういう新しさか。: 既存領域の新製品（原文: 「「シリコンフォトニクスプロセスに適した…光硬化性樹脂の開発」「プロセスを開発しました」」）
- 発表の中心にある製品・サービス・成果は、誰のものか。: 他社との共同（原文: 「「東京科学大学…と東京応化工業株式会社…と共同で」」）
- 発表の対象が当社本体ではなく、子会社・グループ会社の事柄か。: なし（原文: 「「東京科学大学…と東京応化工業株式会社…と共同で」」）
- 「初」「唯一」「No.1」などの優位性の主張があるか、あるとすれば根拠は示されているか。: 優位性の主張なし（原文: 「該当する優位性表現の記載なし」）
- この事柄の地理的な範囲はどこか。: 海外（原文: 「「2025 年 1 月 25～30 日（現地時間）に米国サンフランシスコで開催される『SPIE Photonics West』」」）
- 実際に使われている・売れていることを示す記載はどの程度あるか。: 利用実績の記載なし（原文: 「「各ファウンドリの標準プロセスラインへの NIL 導入も期待されます」」）
- 競合製品や従来手法との違いが、具体的に述べられているか。: あり（原文: 「「従来の 90 nm CMOS プロセスラインや電子線描画を用いて作られた光導波路と同程度の性能」」）
- 製品名・型番・規格名・特許や認証の番号など、後から特定できる固有の識別子が示されているか。: あり（原文: 「「SmartNIL®技術」「EVG NIL UV/AS5」「SF6-C4F8 混合ガス」」）
- この書類はどの様式で書かれているか。: プレスリリース様式（原文: 「「【ポイント】」「【概要】」「【外部発表】」「（報道取材申し込み先）」」）
- 評価を表す表現がどれだけ使われているか。: 一部に強調（原文: 「「重要な技術の一つ」「大いに活かすことができます」」）
- 前提条件・不確実性・将来見通しに関する注意書きが付されているか。: あり（原文: 「「優位性があると考えられます」「導入も期待されます」「実現も示唆されます」」）