# 東京応化工業（4186） 10 nmの限界を突破！線幅7.6 nmの半導体微細加工を可能にする高分子ブロック共重合体の開発に成功

Source: Komori (komori.app) — https://komori.app/company/4186/disclosure/20240822575165
種別: その他開示
開示日: 2024-08-22
Komoriの読み（0-100）: 60
企業ページ: https://komori.app/company/4186

## 何が変わったか

東京工業大学と東京応化工業が、線幅7.6 nm相当の構造を形成できる高分子ブロック共重合体を共同開発した。半導体の微細加工材料として、今後300 mmシリコンウエハで実用化に向けた評価を行う予定である。

## 会社が挙げた理由

半導体回路パターンの微細化・高密度化を進め、電子デバイスの高性能化に貢献するため。

## 開示の要点

- 対象製品・サービス名: PS-b-(PGMAF-r-PMMA)（高分子ブロック共重合体）
- 相手先: 東京工業大学
- 相手先の概要: 物質理工学院材料系の研究グループ。教授、准教授、助教、大学院生が記載されている。所在地・代表者・資本金・設立年はnot_disclosed。
- 当社との関係: 東京工業大学と東京応化工業株式会社の共同研究。
- 契約金額: not_disclosed
- 提供価格: not_disclosed
- 契約締結日: not_disclosed
- 提供開始日: not_disclosed
- 適用分野: 半導体微細加工、ボトムアップ型半導体微細加工、誘導自己組織化による回路パターン形成
- 受賞名・認証名: not_disclosed
- 授与・認証機関: not_disclosed
- 登録番号・有効期限: not_disclosed
- 拠点所在地: not_disclosed
- 拠点の規模: 300 mmシリコンウエハ上で今後評価予定（実施拠点の規模としてはnot_disclosed）
- 定量的な効果: 線幅7.6 nm相当、周期長15.1 nmの線状構造を形成。化学パターンのない薄膜では周期長12.3–18.6 nmの垂直ラメラ構造を形成。
- 利用実績: not_disclosed
- 業績への影響: not_disclosed
- 出典: Nature Communications（2024年7月6日オンライン掲載）、論文『Chemically tailored block copolymers for highly reliable sub-10-nm patterns by directed self-assembly』、DOI: 10.1038/s41467-024-49839-0

## 評価の根拠

- この発表が扱う事柄は、どの段階にあるか。: 実施済み（原文: 「「高分子ブロック共重合体の開発に成功」「線幅7.6 nm相当の線状構造の形成に成功」」）
- 契約の締結や機関決定について、どこまで書かれているか。: 合意の記載なし（原文: 「「東京工業大学と東京応化工業株式会社との共同研究によって得られ」」）
- 開始日・発売日・稼働日など、この事柄が効力を持つ時期はどこまで具体的に示されているか。: 年月日まで（原文: 「「2024年7月6日付の『Nature Communications』にオンライン掲載」」）
- 発表は、対象の事柄が起きる前か、同日か、起きた後か。: 事後の報告（原文: 「「開発に成功」「2024年7月6日付…オンライン掲載された」」）
- 会社はこの内容をどれだけ断定的に書いているか。: 概ね断定的（原文: 「「開発に成功」「高性能化が加速することが期待される」「実用化に向けた機能評価を行う予定」」）
- 相手先はどのような主体として示されているか。: 官公庁・公的機関（原文: 「「東京工業大学」「東京工業大学と東京応化工業株式会社との共同研究」」）
- 相手先は、この発表においてどの役割か。: 共同で行う相手（原文: 「「東京工業大学と東京応化工業株式会社との共同研究」」）
- 相手先の所在地・資本金・事業内容など、会社概要が記載されているか。: あり（原文: 「「東京工業大学 物質理工学院 材料系」」）
- 提供先・導入先・受注先の実名が示されているか。: なし（原文: 「顧客・導入先・受注先の記載なし」）
- この発表に付いている数値のうち、最も具体的なものはどれか。: 効果の実測値（原文: 「「線幅7.6 nm相当の線状構造の形成に成功」」）
- 書かれている主要な事実を、社外の資料で確かめる手段があるか。: 第三者の名称あり（原文: 「「掲載誌：Nature Communications」「DOI：10.1038/s41467-024-49839-0」」）
- 主要な主張に、検証できる数値と時期がついているか。: 数値と時期あり（原文: 「「線幅7.6 nm」「周期長15.1 nm」「2024年7月6日付」」）
- 会社はこの件を、将来の収益にどう結びつけているか。: 戦略との関係のみ（原文: 「「電子デバイスのさらなる高性能化に期待」「実用化に向けた機能評価を行う予定」」）
- 業績への影響について、どう書かれているか。: 業績に触れず（原文: 「会社業績への影響額・軽微等の記載なし」）
- この事柄はどこまでの広がりを持つと書かれているか。: 一拠点・一製品（原文: 「「新たな高分子ブロック共重合体を開発」」）
- 会社の製品・サービスにとって、これはどういう新しさか。: 既存領域の新製品（原文: 「「新たな高分子ブロック共重合体を開発」」）
- 発表の中心にある製品・サービス・成果は、誰のものか。: 他社との共同（原文: 「「東京工業大学と東京応化工業株式会社との共同研究によって得られ」」）
- 発表の対象が当社本体ではなく、子会社・グループ会社の事柄か。: なし（原文: 「発表主体として「東京応化工業株式会社」が記載されている」）
- 「初」「唯一」「No.1」などの優位性の主張があるか、あるとすれば根拠は示されているか。: 根拠なしの優位性主張（原文: 「「10 nmの限界を突破」「PS-b-(PGMAF-r-PMMA)が最も微細且つ明確なラメラ構造を形成」」）
- この事柄の地理的な範囲はどこか。: 記載なし（原文: 「地理的範囲に関する記載なし」）
- 実際に使われている・売れていることを示す記載はどの程度あるか。: 利用実績の記載なし（原文: 「「実用化に向けた機能評価を行う予定」」）
- 競合製品や従来手法との違いが、具体的に述べられているか。: あり（原文: 「「PS-b-PMMAを使った線幅10 nm以下の微細加工は極めて困難」「EUVリソグラフィにより得られるパターン線幅の下限値よりも小さく」」）
- 製品名・型番・規格名・特許や認証の番号など、後から特定できる固有の識別子が示されているか。: あり（原文: 「「PS-b-(PGMAF-r-PMMA)」「DOI：10.1038/s41467-024-49839-0」」）
- この書類はどの様式で書かれているか。: プレスリリース様式（原文: 「「Press Release」「東京工業大学」「東京応化工業株式会社」」）
- 評価を表す表現がどれだけ使われているか。: 一部に強調（原文: 「「10 nmの限界を突破！」」）
- 前提条件・不確実性・将来見通しに関する注意書きが付されているか。: あり（原文: 「「実用化に向けた機能評価を行う予定」「高性能化が加速することが期待される」」）