# 半導体材料ガス・関連機器の生産能力拡充と超高純度空気分離装置の製品化｜日本酸素ホールディングス（4091）の変遷

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## 経過

- FY2025 初出 「需要の回復とさらなる需要の拡大が期待される中、半導体材料ガス及び関連機器などの生産能力の拡充を図っております。また、日本での最先端半導体製造の量産化を目指す顧客のパイロットラインへのガス関連工事施工及びバルクガス供給を進めており、これらの旺盛な大規模半導体工場の新設に必要となる超高純度空気分離装置の製品化に向けた取組みも進めております。」 — エレクトロニクス事業の重点戦略として、半導体材料ガス・関連機器の生産能力拡充、顧客パイロットラインへの供給、大規模半導体工場向け超高純度空気分離装置の製品化を進めている。 (https://komori.app/company/4091/filing/2024-fy)
- 2026-05-11 前進 「つくば開発センター内に「エレクトロニクス先端材料開発棟」を建設することをリリース（2027年完工予定）」 — エレクトロニクス事業の技術開発に関する具体的な施設建設計画が示され、2027年完工予定とされた。 (https://komori.app/company/4091/disclosure/20260511521783)
- 2026-05-22 前進 「次世代半導体向け電子材料ガス、機器のR&D及び製品・サービスラインアップの拡充と拡販を推進」 — エレクトロニクス事業について、次世代半導体向けの研究開発、製品・サービスの拡充および販売拡大を新中期経営計画の重点取組みとして具体化している。 (https://komori.app/company/4091/disclosure/20260521543697)
- 2026-05-26 前進 「本新棟は2027年3月の完成を予定しており、中期経営計画に掲げる「エレクトロニクス事業の拡大」を推進する重要な拠点となります。」 — つくば開発センターにエレクトロニクス先端材料開発棟を建設し、材料ガス・関連機器の開発拠点を具体化した。 (https://komori.app/company/4091/disclosure/20260525546647)
- FY2026 前進 「大陽日酸ＪＦＰ株式会社三重工場に新たにMoO2Cl2製造施設の設備投資を決定いたしました。主に、NANDフラッシュメモリで使用されているタングステン代替として、2026年10月より出荷開始の見込みです。」 — 半導体材料ガスの生産能力拡充を具体化し、MoO2Cl2製造施設への投資決定と2026年10月の出荷開始見込みを示した。 (https://komori.app/company/4091/filing/2025-fy)
- 2026-11-04 前進 「2026年9月：韓国において半導体材料ガス製造拠点を新設し、操業を開始」 — 韓国の半導体材料ガス製造拠点が新設から操業開始へ進み、生産能力拡充の具体的な進展が示された。 (https://komori.app/company/4091/disclosure/20261104564016)
